一种硅片背伤处理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种硅片背伤处理装置，包括喷砂腔体、往复运动机构、输送皮带线和砂浆液体回路，喷砂腔体为封闭的腔室，往复运动机构设置在喷砂腔体上部，输送皮带线设置在喷砂腔体下方；砂浆液体回路包括砂浆槽，供给泵和砂浆喷头，砂浆槽与砂浆喷头通过供给泵连接，砂浆槽设置在输送皮带线下方，砂浆喷头设置在往复运动机构末端。本实用新型专利技术的有益效果是：通过本装置能够实现自动背伤处理，并保证背伤处理效果相同，保持硅片的一致性；另外砂浆自循环，避免浪费砂浆并保持操作环境的干净整洁。

【技术实现步骤摘要】
一种硅片背伤处理装置
本技术属于硅片制造设备领域，尤其是涉及一种硅片背伤处理装置。
技术介绍
喷砂背伤处理设备是应用于抛光片加工中酸腐蚀后的加工工艺，主要作用是在硅片的背面进行机械损伤使其形成金属吸杂中心。当硅片达到一定温度时，如Fe,Ni,Cr,Zn等会降低载流子寿命的金属原子就会在硅体内运动。当这些原子在硅片背面遇到损伤点，它们就会被诱陷并本能地从内部移动到损伤点。从而达到减少抛光面(正面)重金属杂质和晶格缺陷的作用。
技术实现思路
为解决上述技术问题，本技术提供一种硅片背伤处理装置。本技术采用的技术方案是：一种硅片背伤处理装置，包括喷砂腔体、往复运动机构、输送皮带线和砂浆液体回路，喷砂腔体为封闭的腔室，往复运动机构设置在喷砂腔体上部，输送皮带线设置在喷砂腔体下方；砂浆液体回路包括砂浆槽，供给泵和砂浆喷头，砂浆槽与砂浆喷头通过供给泵连接，砂浆槽设置在输送皮带线下方，砂浆喷头设置在往复运动机构末端。优选地，往复运动机构包括第一底板、往复运动电机、曲柄导轨滑块和移动杆；曲柄导轨滑块包括光轴、滑块板本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种硅片背伤处理装置，其特征在于：包括喷砂腔体、往复运动机构、输送皮带线和砂浆液体回路，所述喷砂腔体为封闭的腔室，所述往复运动机构设置在所述喷砂腔体上部，所述输送皮带线设置在所述喷砂腔体下方；/n所述砂浆液体回路包括砂浆槽，供给泵和砂浆喷头，所述砂浆槽与所述砂浆喷头通过供给泵连接，所述砂浆槽设置在所述输送皮带线下方，所述砂浆喷头设置在所述往复运动机构末端。/n

【技术特征摘要】
1.一种硅片背伤处理装置，其特征在于：包括喷砂腔体、往复运动机构、输送皮带线和砂浆液体回路，所述喷砂腔体为封闭的腔室，所述往复运动机构设置在所述喷砂腔体上部，所述输送皮带线设置在所述喷砂腔体下方；
所述砂浆液体回路包括砂浆槽，供给泵和砂浆喷头，所述砂浆槽与所述砂浆喷头通过供给泵连接，所述砂浆槽设置在所述输送皮带线下方，所述砂浆喷头设置在所述往复运动机构末端。


2.根据权利要求1所述的硅片背伤处理装置，其特征在于：所述往复运动机构包括第一底板、往复运动电机、曲柄导轨滑块和移动杆；
所述曲柄导轨滑块包括光轴、滑块板和曲柄连杆结构，所述光轴固定设置在所述第一底板上，所述滑块板可移动设置在所述光轴上，所述曲柄连杆结构连接所述滑块板和所述往复运动电机；所述滑块板连接所述移动杆，所述移动杆末端设有所述砂浆喷头。


3.根据权利要求2所述的硅片背伤处理装置，其特征在于：所述砂浆喷头包括一个或多个喷枪，每一个喷枪同时连通有所述供给泵和高压空气泵。


4.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：靳立辉，任志高，王国瑞，耿名强，王思雨，李博，王敏，
申请(专利权)人：天津环博科技有限责任公司，
类型：新型
国别省市：天津;12