一种颅内压传感器脑室放置引导套管制造技术

技术编号:25209232 阅读:34 留言:0更新日期:2020-08-11 22:59
本实用新型专利技术公开了一种颅内压传感器脑室放置引导套管,其特征在于:包括内管、外管,所述内管、外管设有空心内腔和前端开口,侧面有一轴向贯通管内外的开口缝,内管前端自外管内腔穿过,并与外管前端平齐,内管前端与外管内腔紧密配合,内管后端设有内管连接座,外管后端设有外管座。外管表面设有刻度,外管前端呈锥形。与传统颅内压传感器直接植入脑室相比本实用新型专利技术能够帮助不带引流管的颅内压传感器植入脑室位置提供精确定位,降低创伤,避免传感器植入过深或过浅给患者带来风险和后遗症的优点。

【技术实现步骤摘要】
一种颅内压传感器脑室放置引导套管
本技术涉及医疗产品
,更具体地,本技术涉及一种颅内压传感器脑室放置引套管。
技术介绍
颅内压监测在临床上为精确判断颅内肿瘤、颅内创伤、脑内出血等占位性病变引起的颅内压力(ICP)变化情况提供依据,可以满足诊断、治疗和判断预后的需要。因此颅内压监测具有非常重要的临床价值。常用的ICP监测方法有:脑室内监测、硬脑膜外监测、脑实质监测。全球神经外科医生公认的ICP监测金标准是脑室内ICP监测:这个监测方法可靠、准确,允许脑脊液引流,可以监测脑脊液特性,波形质量好,缺点是出血风险大操作技术要求高。ICP监测需要用到颅内压监护仪和颅内压传感器。现有脑室内颅内压监测传感器都是带引流管的传感器,但是有些患者并不需要脑脊液引流。对于这样的患者,如果直接植入带引流管的颅内压传感器,可能对患者脑组织造成额外的损伤和增加经济负担;现有不带引流管的颅内压传感器导线柔软不容易置入操作,无引导装置无法准确定位脑室位置,可能导致不能一次穿入脑室而需要反复穿刺脑组织,因此需要一种辅助装置帮助不带引流管的颅内压传感器准确放置在脑室中。...

【技术保护点】
1.一种颅内压传感器脑室放置引导套管,包括内管(1)、外管(2);其特征在于所述内管(1)的第一前端(7)自外管(2)的内腔(9)穿过,并与外管(2)的第二前端(4)平齐,所述外管(2)后端设有外管座(12),内管(1)后端设有内管连接座(11),所述内管(1)为空心管状结构,内管连接座(11)在轴向上有一第一通孔(5)并与内管(1)的内腔在轴向上贯通,内管(1)侧壁有一轴向贯通管内外的第一开口缝(6),第一通孔(5)和第一开口缝(6)在轴向上完全贯通,外管(2)为空心管状结构,第二前端(4)呈锥形,外管座(12)有一轴向第二通孔(10),第二通孔(10)与外管(2)的内腔(9)完全贯通,外管...

【技术特征摘要】
1.一种颅内压传感器脑室放置引导套管,包括内管(1)、外管(2);其特征在于所述内管(1)的第一前端(7)自外管(2)的内腔(9)穿过,并与外管(2)的第二前端(4)平齐,所述外管(2)后端设有外管座(12),内管(1)后端设有内管连接座(11),所述内管(1)为空心管状结构,内管连接座(11)在轴向上有一第一通孔(5)并与内管(1)的内腔在轴向上贯通,内管(1)侧壁有一轴向贯通管内外的第一开口缝(6),第一通孔(5)和第一开口缝(6)在轴向上完全贯通,外...

【专利技术属性】
技术研发人员:敬树林
申请(专利权)人:成都拓蓝精创医学技术有限公司
类型:新型
国别省市:四川;51

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