一种可变形气体管道及其所在的真空处理器制造技术

本发明专利技术提供一种用于真空处理器的可变形气体管道，其特征在于，包括：可变形气体管道壳体，所述可变形气体管道壳体两端包括两个转接头，所述转接头用于与其它气体管道连接，所述可变形气体管道上具有至少一段波纹管；所述壳体内部包括由有机聚合物制成的软管，所述软管两端固定到所述转接头，使得所述软管外侧和可变形气体管道壳体内之间形成一个闭合空间，所述可变形气体管道壳体上设置有一个抽气管道与所述闭合空间联通，用于抽出闭合空间中的气体。可以使可变形气体管道中闭合空间内的气体被抽出，防止反流到软管内部。

【技术实现步骤摘要】
一种可变形气体管道及其所在的真空处理器
本专利技术涉及半导体加工设备领域，特别涉及一种真空处理设备中的可变形供气管道。
技术介绍
真空处理设备广泛应用于半导体工业，其中的等离子处理设备和化学气相沉积设备是最主要的真空处理设备。等离子体处理设备，是借助于射频耦合放电产生等离子体，进而利用等离子体进行沉积、刻蚀等加工工艺，其中，产生等离子体的电极之间的极板间距是重要的参数，尤其是在等离子体刻蚀设备中，随着加工工艺的要求不断提高，需要在不同的极板间距下完成不同的刻蚀步骤。在上电极或者下电极进行移动时，给上电极或下电极供气的气体管路必须相应的移动，所以供气管道上至少需要一个可变形的气体管道。如图1所示为一种上电极可升降的电容耦合等离子处理设备，包括反应腔100，反应腔内包括基座10，基座连接到一个射频电源。基座上的静电夹盘上固定有待处理的基片，围绕基片和静电夹盘的还包括一个聚焦环22。与静电夹盘相对的反应腔上方设置有一个圆盘形的气体喷淋头11，气体喷淋头11通过供气管道与外部的反应气源200连接。反应腔下部还包括排气管道，排气管道下方连接有干泵、分子泵本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于真空处理器的可变形气体管道，其特征在于，包括：/n可变形气体管道壳体，包括至少一段波纹管；/n所述壳体内部包括由有机聚合物制成的软管，所述软管外侧和所述可变形气体管道壳体的内壁之间形成一个闭合空间，/n一个抽气管道与所述闭合空间联通，用于抽出闭合空间中的气体。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于真空处理器的可变形气体管道，其特征在于，包括：
可变形气体管道壳体，包括至少一段波纹管；
所述壳体内部包括由有机聚合物制成的软管，所述软管外侧和所述可变形气体管道壳体的内壁之间形成一个闭合空间，
一个抽气管道与所述闭合空间联通，用于抽出闭合空间中的气体。


2.根据权利要求1所述的可变形气体管道，其特征在于，所述可变形气体管道壳体的至少一端设置一转接头，所述转接头用于与其它气体管道连接。


3.根据权利要求2所述的可变形气体管道，其特征在于，所述软管两端固定到所述转接头上，所述抽气管道设置在所述转接头上。


4.根据权利要求1所述的可变形气体管道，其特征在于，所述抽气管道设置在所述可变形气体管道壳体上。


5.根据权利要求1所述的可变形气体管道，其特征在于，所述可变形气体管道包括波纹管段和位于波纹管段两端的直管段，通过直管段与所述转接头固定连接。


6.根据权利要求5所述的可变形气体管道，其特征在于，所述软管两端固定到所述直管段内壁。


7.根据权利要求5或6所述的可变形气体管道，其特征在于：所述抽气管道设置在所述直管段或者所述波纹管段。


8.根据权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员：魏强，黄允文，
申请(专利权)人：中微半导体设备上海股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31