一种光学膜及制作方法技术

本发明专利技术实施例提供了一种光学膜及制作方法，该光学膜包括：相对设置的第一柔性基板和第二柔性基板，位于第一柔性基板和第二柔性基板之间的第一氧化层、量子点胶水层和第二氧化层；第一柔性基板具有面向第二柔性基板的第一光扩散表面，第一氧化层位于第一光扩散表面上；第二柔性基板具有面向第一柔性基板的第二光扩散表面，第二氧化层位于第二光扩散表面上；量子点胶水层位于第一氧化层和第二氧化层之间。本发明专利技术提出的一种光学膜及制作方法，通过将在第一柔性基板上设置第一光扩散表面，在第二柔性基板上设置第二光扩散表面，不需要另外添加光扩散粉，有效降低成膜成本，减少成膜工艺流程，减少成膜的厚度，降低了光扩散粉层对光线的吸收率。

【技术实现步骤摘要】
一种光学膜及制作方法
本专利技术施例涉及电子显示
，尤其涉及一种光学膜及制作方法。
技术介绍
量子点材料具有发射谱窄、色纯度稿、色域广等优点，广泛的应用于新一代显示和照明领域中。现有技术中，对通过在量子点光学膜附加光扩散粉来实现扩散作用，而且由于量子点表面具有化学性能活泼的纳米颗粒，容易受到温度，湿度的影响，造成表面氧化的现象，所以量子点光学膜主要依靠上下两层高水养阻隔率的阻隔膜来实现对量子点的保护。现有技术中光扩散粉膜层和高水养阻隔率的阻隔膜是彼此分开的两个膜层，导致制备工艺复杂，工序较多，厚度也无法进一步的削减，并且现有技术中，上下两层高水养阻隔率的阻隔膜的表面对可见光会有微弱的吸收，使得最终的产品显示会有灰度。
技术实现思路
本专利技术实施例的目的在于提出一种光学膜及制作方法，降低了成膜的厚度，减少成膜工艺，增加光线透过率。为达此目的，本专利技术实施例提供了一种光学膜，该光学膜包括：相对设置的第一柔性基板和第二柔性基板，位于所述第一柔性基板和所述第二柔性基板之间的第一氧化层、量子点胶水层和第二氧化层；所述第一柔性基板具有面向所述第二柔性基板的第一光扩散表面，所述第一氧化层位于所述第一光扩散表面上；所述第二柔性基板具有面向所述第一柔性基板的第二光扩散表面，所述第二氧化层位于所述第二光扩散表面上；所述量子点胶水层位于所述第一氧化层和所述第二氧化层之间。可选地，所述第一柔性基板、所述第一光扩散表面、所述第二柔性基板和所述第二光扩散表面为柔性透明高分子基材。可选地，所述第一光扩散表面和所述第二光扩散表面的粗糙度介于0.1μm-3μm。可选地，所述第一氧化层和所述第二氧化层的组成材料包括氧化铝、氟化锂或者聚甲基丙烯酸甲酯中的至少一种。可选地，所述量子点胶水层包括均匀分布的量子点和固化胶水。基于同一专利技术构思，本专利技术实施例还提供了一种光学膜的制作方法，该光学膜的制作方法包括：提供一第一柔性基板和一第二柔性基板；在所述第一柔性基板上喷涂有机溶剂以溶胀溶解所述第一柔性基板的表面并形成第一光扩散表面，在所述第二柔性基板上喷涂有机溶剂以溶胀溶解所述第二柔性基板的表面并形成第二光扩散表面；对所述第一光扩散表面进行隔离沉积以在所述第一光扩散表面形成第一氧化层，对所述第二光扩散表面进行隔离沉积以在所述第二光扩散表面形成第二氧化层；在所述第一氧化层的表面均匀涂布量子点并胶水固化所述量子点以形成量子点胶水层；贴合所述量子点胶水层和所述第二氧化层。可选地，所述第一柔性基板和所述第二柔性基板均为柔性透明高分子基材。可选地，形成氧化层之前，还包括：静置柔性基板直至所述柔性基板表面的有机溶剂挥发完全。可选地，通过原子沉积技术在光扩散表面进行隔离沉积。可选地，贴合所述量子点胶水层和所述第二氧化层之后，还包括：通过光固化技术进行贴合固化。本专利技术实施例提供的一种光学膜及制作方法，相对设置第一柔性基板和第二柔性基板，第一柔性基板的面向第二柔性基板的表面为第一光扩散表面，第二柔性基板的面向第一柔性基板的表面为第二光扩散表面，无需另外单独的设置光扩散粉形成的光扩散层，避免了扩散粉在高浓度的情况下分散与涂抹不均匀的情况，降低了成膜的厚度，有效的减少了成膜工艺的步骤；在第一光扩散表面上设置第一氧化层，在第二光扩散表面上设置第二氧化层，并在第一氧化层和第二氧化层之间设置量子点胶水层，对量子点进行有效保护，能够防止量子点受到温度、湿度的影响，避免氧化和出现荧光淬灭等问题，与现有技术相比，不必使用上下两层高水养阻隔率的阻隔膜来保护量子点，降低了成膜成本，并进一步的减少了光学膜的厚度，同时减少了上下两层高水养阻隔率的阻隔膜对可见光的吸收，减少光学膜的灰度，提高光学膜的透光率。附图说明图1是本专利技术实施例提供的一种光学膜结构示意图。图2是本专利技术实施例提供的一种光学膜制作方法流程图。图3是本专利技术实施例提供的一种光学膜的柔性基板成型示意图。图4是本专利技术实施例提供的一种光学膜的柔性基板形成光扩散表面示意图。图5是本专利技术实施例提供的一种光学膜的氧化层成型示意图。图6是本专利技术实施例提供的一种光学膜的量子点胶水层成型示意图。图7是本专利技术实施例提供的一种光学膜的成型示意图。具体实施方式为使专利技术实施例解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚，下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明专利技术的技术方案。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释专利技术，而非对专利技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与专利技术相关的部分而非全部内容。在更加详细地讨论示例性实施例之前应当提到的是，一些示例性实施例被描述成作为流程图描绘的处理或方法。虽然流程图将各项操作(或步骤)描述成顺序的处理，但是其中的许多操作可以被并行地、并发地或者同时实施。此外，各项操作的顺序可以被重新安排。图1是本专利技术实施例提供的一种光学膜结构示意图，如图1所示，本专利技术实施例提供的一种光学膜，该光学膜包括：相对设置的第一柔性基板1和第二柔性基板2，位于第一柔性基板1和第二柔性基板2之间的第一氧化层3、量子点胶水层5和第二氧化层4；第一柔性基板1具有面向第二柔性基板2的第一光扩散表面6，第一氧化层3位于第一光扩散表面6上；第二柔性基板2具有面向第一柔性基板1的第二光扩散表面7，第二氧化层4位于第二光扩散表面7上；量子点胶水层5位于第一氧化层3和第二氧化层4之间。通过相对设置第一柔性基板1和第二柔性基板2，并在第一柔性基板1上具有面向第二柔性基板2的第一光扩散表面6，在第二柔性基板2上具有面向第一柔性基板1的第二光扩散表面7，代替了传统光学膜的光扩散层，无需另外单独的设置光扩散粉形成的光扩散层，避免了扩散粉在高浓度的情况下分散与涂抹不均匀的情况，降低了成膜的厚度，有效的减少了成膜工艺的步骤。在第一光扩散表面6上设置第一氧化层3，在第二光扩散表面7上设置第二氧化层4，并在第一氧化层3和第二氧化层4之间设置量子点胶水层5，对量子点进行有效保护，防止量子点受到温度，湿度的影响，避免量子点发生氧化，出现荧光淬灭的问题，通过设置第一氧化层3和第二氧化层4，代替了上下两层高水养阻隔率的阻隔膜，降低了成膜成本，并进一步的降低了光学膜的厚度，同时一氧化层3和第二氧化层4不会吸收可见光，减少了光学膜的灰度，提高光学膜的透光率。可选地，第一柔性基板1、第一光扩散表面6、第二柔性基板2和第二光扩散表面7为柔性透明高分子基材。第一柔性基板1和第二柔性基板2为柔性高分子材料，示例性的，采用聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)作为第一柔性基板1和第二柔性基板2的材料，PET材料不易产生热变形，在高温下具有良好的稳定性，既不会变形也不会变色，可以保证光学膜的良好透光率，并且PET材料的弯曲强度大，弹性模量高，表面硬度强，增强了光学本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学膜，其特征在于，包括：相对设置的第一柔性基板和第二柔性基板，位于所述第一柔性基板和所述第二柔性基板之间的第一氧化层、量子点胶水层和第二氧化层；/n所述第一柔性基板具有面向所述第二柔性基板的第一光扩散表面，所述第一氧化层位于所述第一光扩散表面上；/n所述第二柔性基板具有面向所述第一柔性基板的第二光扩散表面，所述第二氧化层位于所述第二光扩散表面上；/n所述量子点胶水层位于所述第一氧化层和所述第二氧化层之间。/n

【技术特征摘要】
1.一种光学膜，其特征在于，包括：相对设置的第一柔性基板和第二柔性基板，位于所述第一柔性基板和所述第二柔性基板之间的第一氧化层、量子点胶水层和第二氧化层；
所述第一柔性基板具有面向所述第二柔性基板的第一光扩散表面，所述第一氧化层位于所述第一光扩散表面上；
所述第二柔性基板具有面向所述第一柔性基板的第二光扩散表面，所述第二氧化层位于所述第二光扩散表面上；
所述量子点胶水层位于所述第一氧化层和所述第二氧化层之间。


2.根据权利要求1所述的一种光学膜，其特征在于，所述第一柔性基板和所述第二柔性基板均为柔性透明高分子基材。


3.根据权利要求1所述的一种光学膜，其特征在于，所述第一光扩散表面和所述第二光扩散表面的粗糙度均介于0.1μm-3μm。


4.根据权利要求1所述的一种光学膜，其特征在于，所述第一氧化层和所述第二氧化层的组成材料包括氧化铝、氟化锂和聚甲基丙烯酸甲酯中的至少一种。


5.根据权利要求1所述的一种光学膜，其特征在于，所述量子点胶水层包括均匀分布的量子点和固化胶水。


6.一种光学膜的制作方法，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙小卫，王恺，刘湃，
申请(专利权)人：深圳扑浪创新科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44