【技术实现步骤摘要】
显示面板的检测方法和检测装置
本申请涉及显示
，特别是一种显示面板的检测方法和检测装置。
技术介绍
在相关技术中，为了检测有机材料是否溢出阻隔坝，通常是采用光学检查机设备(AutomatedOpticalInspection，AOI)来实现。光学检查机有可确定阻隔坝的高度的白光干涉测高(WSI)硬体设备，通过阻隔坝的高度(作为选定基准点)与需量测点位高度的差值来判断有机材料是否有侵犯阻隔坝。然而，WSI只能检测显示面板中的单点是否存在有机材料侵犯阻隔坝的情况，检测效率低。由于检测时间的限制，因此，WSI只能对显示面板的缺陷检测进行点位的抽检，从而使得检测不够准确。另外，WSI主要是应用在缺陷的深度及高度的检测，对于有机材料残留侦测并不十分准确，对于较薄的有机材料残留，WSI的误判率较高。
技术实现思路
本申请旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本申请需要提供一种显示面板的检测方法和检测装置。本申请实施方式的检测方法可以用于显示面板。所述显示面板包括显示区域和非显示区域，所述非显示...
【技术保护点】
1.一种显示面板的检测方法，其特征在于，所述显示面板包括显示区域和非显示区域，所述非显示区域包括阻隔坝，所述阻隔坝环绕所述显示区域并用于防止封装材料溢出，所述封装材料用于封装所述显示区域，所述阻隔坝包括预设识别区域，所述检测方法包括：/n控制线阵图像传感器扫描所述显示面板以拍摄阻隔坝并形成待识别图像；/n确定待识别线条，所述预设识别区域在所述待识别图像中形成所述待识别线条；/n判断所述待识别线条对应的每个像素点的灰阶值是否均小于设定灰阶值；/n在存在所述灰阶值大于所述设定灰阶值的像素点时确定所述阻隔坝发生所述封装材料溢流的情况。/n
【技术特征摘要】
1.一种显示面板的检测方法，其特征在于，所述显示面板包括显示区域和非显示区域，所述非显示区域包括阻隔坝，所述阻隔坝环绕所述显示区域并用于防止封装材料溢出，所述封装材料用于封装所述显示区域，所述阻隔坝包括预设识别区域，所述检测方法包括：
控制线阵图像传感器扫描所述显示面板以拍摄阻隔坝并形成待识别图像；
确定待识别线条，所述预设识别区域在所述待识别图像中形成所述待识别线条；
判断所述待识别线条对应的每个像素点的灰阶值是否均小于设定灰阶值；
在存在所述灰阶值大于所述设定灰阶值的像素点时确定所述阻隔坝发生所述封装材料溢流的情况。
2.根据权利要求1所述的检测方法，其特征在于，所述阻隔坝包括第一阻隔坝和第二阻隔坝，所述第一阻隔坝和所述第二阻隔坝之间形成凹槽，所述凹槽用于收容发生溢流的所述封装材料。
3.根据权利要求2所述的检测方法，其特征在于，所述第一阻隔坝包括第一平面和两个第一斜面，两个所述第一斜面与所述第一平面倾斜连接，两个所述第一斜面位于所述第一平面两侧；所述第二阻隔坝包括第二平面和两个第二斜面，两个所述第二斜面与所述第二平面倾斜连接，两个所述第二斜面位于所述第二平面两侧；两个所述第一斜面和两个所述第二斜面均为所述预设识别区域。
4.根据权利要求3所述的检测方法，其特征在于，两个所述第一斜面包括第一内侧斜面和第一外侧斜面，两个所述第二斜面包括第二内侧斜面和第二外侧斜面，所述第一内侧斜面比所述第一外侧斜面更靠近所述显示区域，所述第一外侧斜面比所述第二内侧斜面更靠近所述显示区域，所述第二内侧斜面比所述第二外侧斜面更靠近所述显示区域；所述第一内侧斜面、所述第一外侧斜面、所述第二内侧斜面和所述第二外侧斜面分别在所述待识别图像中形成第一待识别线条、第二待识别线条、第三待识别线条和第四待识别线条；所述在存在所述灰阶值大于所述设定灰阶值的像素点时确定所述阻隔坝发生所述封装材料溢流的情况，包括：
在所述第一待识别线条存在所述灰阶值大于所述设定灰阶值的像素点时确定所述封装材料在所述第一阻隔坝上；
在所述第二待识别线条存在所述灰阶值大于所述设定灰阶值的像素点时确定所述封装材料超过所述第一阻隔坝；
在所述第三待识别线条存在所述灰阶值大...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈涛，赵宝杰，林政毅，李明，魏俊，赖飞，李玺，伏鹏程，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，绵阳京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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