【技术实现步骤摘要】
辐射测量面板、辐射测量装置及辐射测量系统
本专利技术涉及医疗领域,尤其涉及一种辐射测量面板、辐射测量装置及辐射测量系统。
技术介绍
由于放射治疗能够针对身体的某一个部位进行,使其能够用于治疗多种癌症。例如,放射治疗经常用于治疗胃癌、结肠直肠癌、胰腺癌、头颈癌、食道癌、肺癌和乳腺癌。在进行放射疗法之前,医生可以根据期望的效果和目标区域的性质来决定患者目标区域吸收的辐射剂量。能够通过目标区域准确地估计吸收的辐射剂量可以帮助跟踪治疗的结果。因此,有必要提供一种能够测量辐射剂量的辐射测量手段。
技术实现思路
有鉴于此,本专利技术提供一种能够测量辐射剂量的辐射测量面板。另,还有必要提供一种具有上述辐射测量面板的辐射测量装置以及辐射测量系统。本专利技术提供一种辐射测量面板,包括:一基板;一第一导电层,所述第一导电层设置在所述基板上;一牺牲层,所述牺牲层设置在所述第一导电层上,所述牺牲层的介电常数根据所述牺牲层接收的辐射剂量对应变化;以及一第二导电层,所述第二导电 ...
【技术保护点】
1.一种辐射测量面板,其特征在于,包括:/n一基板;/n一第一导电层,所述第一导电层设置在所述基板上;/n一牺牲层,所述牺牲层设置在所述第一导电层上,所述牺牲层的介电常数根据所述牺牲层接收的辐射剂量对应变化;以及/n一第二导电层,所述第二导电层设置在所述牺牲层上,所述第二导电层接收的辐射剂量对应所述第一导电层和所述第二导电层之间的电容。/n
【技术特征摘要】
20190131 US 16/2629551.一种辐射测量面板,其特征在于,包括:
一基板;
一第一导电层,所述第一导电层设置在所述基板上;
一牺牲层,所述牺牲层设置在所述第一导电层上,所述牺牲层的介电常数根据所述牺牲层接收的辐射剂量对应变化;以及
一第二导电层,所述第二导电层设置在所述牺牲层上,所述第二导电层接收的辐射剂量对应所述第一导电层和所述第二导电层之间的电容。
2.如权利要求1所述的辐射测量面板,其特征在于,所述第二导电层是透明导电膜。
3.如权利要求1所述的辐射测量面板,其特征在于,所述第一导电层包括多个分立电极。
4.如权利要求1所述的辐射测量面板,其特征在于,所述牺牲层的厚度为0.1~10微米。
5.如权利要求1所述的辐射测量面板,其特征在于,所述牺牲层包括聚氯乙烯和聚苯二甲酸乙二醇酯。
6.如权利要求1所述的辐射测量面板,其特征在于,所述辐射测量面板还包括:
一第一粘合剂层,所述第一粘合剂层设置在所述牺牲层与所述第一导电层之间;以及
一第二粘合剂层,所述第二粘合剂层设置在所述牺牲层与所述第二导电层之间。
7.一种辐射测量装置,其特征在于,包括如权利要求1-6中任一项所述的辐射测量面板以及一测量装置,所述测量装置与所述辐射测量面板连接,所述测量装置用于当所述辐射测量面板受到辐射时,通过测量介电常数的变化预测所述辐射测量面板接收的辐射剂量。
8.如权利要求7所述的辐射测量装置,其特征在于,所述测量装置与所述第一导电层以及所述第二导电层连接,所述测量装置用于测量所述第一导电层以及所述第二导电层之间的电容以评估所述牺牲层介电常数的变化。
9.如权利要求7所述的辐射测量装置,其特征在于,所述辐射测量装置还包括一制表,所述制表包括多个介电常数和多个辐射剂量之间的对应关系。
10.如权利要求7所述的辐射测量装置,其特征在于,所述辐射测量装置还包括一制表,所述制表包括多个电容和多个辐射剂量之间的对应关系。
11.如权利要求7所述的辐射测量装置,其特征在于,所述辐射测量装置还包括一处理单元,所述处理单元根据所述辐射测量面板接收的辐射剂量预测患者接收的辐射剂量。
12.一种辐射测量面板,其特征在于,包括:
一第一子面板,所述第一子面板在接收第一辐射时收集信息,所述信息用于生成图像;
一第二子面板,包括:
一基板,所述基板设置在所述第一子面板上;
一第一导电层,所述第一导电层设置在所述基板上;
一牺牲层,所述牺牲层设置在所述第一导电层上,所述牺牲层的介电常数根据所述牺牲层接收的辐射剂量对应变化;以及
一第二导电层,所述第二导电层设置在所述牺牲层上,所述第二导电层接收的辐射剂量对应于所述第一导电层和所述第二导电层之间的电容。
13.如权利要求12所述的辐射测量面板,其特征在于,所述第二导电层是透明导电膜。
14.如权利要求12所述的辐射测量面板,其特征在于,所述第一导电层包括多个分立电极。
15.如权利要求12所述的辐射测量面板,其特征在于,所述牺牲层的厚度为0.1~10微米。
16.如权利要求12所述的辐射测量面板,其特征在于,所述牺牲层包括聚氯乙烯和聚苯二甲酸乙二醇酯。
17.如权利要求12所述的辐射测量面板,其特征在于,所述辐射测量面板还包括:
一第一粘合剂层,所述第一粘合剂层设置在所述牺牲层与所述第一导电层之间;以及
一第二粘合...
【专利技术属性】
技术研发人员:吴良襄,张帼孙,张志青,刘薏晴,许明勋,
申请(专利权)人:睿健生技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:中国台湾;71
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