彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置，属于显示技术领域。其中，彩膜基板，包括：位于衬底基板上沿第一方向延伸的多个第一黑矩阵图形，所述第一黑矩阵图形的线宽大于第一阈值；位于所述第一黑矩阵图形远离所述衬底基板一侧的彩膜层；位于所述第一黑矩阵图形远离所述衬底基板一侧、沿第二方向延伸的多个第二黑矩阵图形，所述第二黑矩阵图形的线宽小于第二阈值，所述第二阈值小于所述第一阈值，所述第二方向与所述第一方向交叉。本发明专利技术的技术方案能够提高显示面板的良率、分辨率和透过率。

【技术实现步骤摘要】
彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置
本专利技术涉及显示
，特别是指一种彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置。
技术介绍
相关技术中，显示面板包括阵列基板和与阵列基板对盒设置的彩膜基板，彩膜基板上设置有与阵列基板上的栅线对应的第一黑矩阵图形和与阵列基板上的数据线对应的第二黑矩阵图形。VR显示产品对像素密度的要求比较高，因此，第二黑矩阵图形的关键尺寸比较小；在制作黑矩阵图形时，在彩膜基板上形成一层黑矩阵材料层，对黑矩阵材料层进行曝光显影，通过一次构图工艺同时形成第一黑矩阵图形和第二黑矩阵图形，由于第二黑矩阵图形的关键尺寸比较小，为了保证第二黑矩阵图形不会被显影掉，要控制显影的程度；但如果控制显影的程度，关键尺寸较大的第一黑矩阵图形周边的黑矩阵材料将无法有效去除，就会造成彩膜基板上残留黑矩阵材料，形成脏污，影响显示产品的良率和分辨率。对于像素密度要求高的VR显示产品来说，对显示产品的透过率的影响也比较大，在第二黑矩阵图形的关键尺寸无法减小的情况下，无法改善显示产品的透过率。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置，能够提高显示面板的良率、分辨率和透过率。为解决上述技术问题，本专利技术的实施例提供技术方案如下：一方面，提供一种彩膜基板，包括：位于衬底基板上沿第一方向延伸的多个第一黑矩阵图形，所述第一黑矩阵图形的线宽大于第一阈值；位于所述第一黑矩阵图形远离所述衬底基板一侧的彩膜层；位于所述第一黑矩阵图形远离所述衬底基板一侧、沿第二方向延伸的多个第二黑矩阵图形，所述第二黑矩阵图形的线宽小于第二阈值，所述第二阈值小于所述第一阈值，所述第二方向与所述第一方向交叉。一些实施例中，还包括：位于所述第二黑矩阵图形远离所述衬底基板一侧的平坦层；位于所述平坦层远离所述衬底基板一侧的隔垫物。一些实施例中，所述彩膜层包括多个不同颜色的彩色滤光单元，所述彩色滤光单元沿第二方向延伸。一些实施例中，所述第一阈值为4um，所述第二阈值为3um。本专利技术实施例还提供了一种显示面板，包括如上所述的彩膜基板，还包括与所述彩膜基板对盒设置的阵列基板。一些实施例中，所述阵列基板包括沿第一方向延伸的多个栅线和沿第二方向延伸的多个数据线，所述栅线与所述第一黑矩阵图形一一对应，每一栅线在所述彩膜基板上的正投影落入对应的第一黑矩阵图形内，所述数据线与所述第二黑矩阵图形一一对应，每一数据线在所述彩膜基板上的正投影落入对应的第二黑矩阵图形内。本专利技术实施例还提供了一种显示装置，包括如上所述的显示面板。本专利技术实施例还提供了一种彩膜基板的制作方法，包括：在衬底基板上形成沿第一方向延伸的多个第一黑矩阵图形，所述第一黑矩阵图形的线宽大于第一阈值；形成彩膜层；形成沿第二方向延伸的多个第二黑矩阵图形，所述第二黑矩阵图形的线宽小于第二阈值，所述第二阈值小于所述第一阈值，所述第二方向与所述第一方向交叉。一些实施例中，还包括：形成覆盖所述第二黑矩阵图形和所述彩膜层的平坦层；在所述平坦层上形成隔垫物。一些实施例中，形成所述彩膜层包括：形成多个不同颜色的彩色滤光单元，所述彩色滤光单元沿第二方向延伸。本专利技术的实施例具有以下有益效果：上述方案中，在制作彩膜基板时，先形成第一黑矩阵图形，在形成第一黑矩阵图形时，由于第一黑矩阵图形的关键尺寸通常比较大，可以控制显影的程度，增大显影margin(空白)，有效去除第一黑矩阵图形周边的黑矩阵材料，避免黑矩阵材料残留在彩膜基板上形成脏污；之后形成彩膜层；然后再形成第二黑矩阵图形，在形成第二黑矩阵图形时，由于第二黑矩阵图形的关键尺寸比较小，可以控制显影的程度，避免第二黑矩阵图形不完整，保证显示面板的良率。另外，在形成第二黑矩阵图形时，衬底基板上已经形成有第一黑矩阵图形和彩膜层，第二黑矩阵图形与第一黑矩阵图形和彩膜层之间的粘附力大于第二黑矩阵图形与彩膜基板的衬底基板之间的粘附力，这样第二黑矩阵图形不会从彩膜基板上脱落，能够保证显示面板的良率；由于在形成第二黑矩阵图形时，第二黑矩阵图形的两侧都形成有彩膜层，彩膜层能够起到保护膜层的作用，这样可以有更大的工艺margin，更容易进行产品调试、黑矩阵产线流片调试及repair(修复)时间，提高设备稼动；另外，因第二黑矩阵图形工艺margin提升，故可设计更小关键尺寸的第二黑矩阵图形，此情况下如果开口区不变，则显示面板的PPI(像素密度)进一步提升；如果开口区增大，则透过率进一步提升；还可以同时提升PPI和透过率。附图说明图1-图2为相关技术制作彩膜基板的示意图；图3为图2在AA方向上的截面示意图；图4-图6为相关技术制作彩膜基板的示意图；图7为图6在BB方向上的截面示意图。附图标记11、3第一黑矩阵图形12、5第二黑矩阵图形21、41红色滤光单元22、42蓝色滤光单元23、43绿色滤光单元具体实施方式为使本专利技术的实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。相关技术中，显示面板包括阵列基板和与阵列基板对盒设置的彩膜基板，彩膜基板上设置有与阵列基板上的栅线对应的第一黑矩阵图形和与阵列基板上的数据线对应的第二黑矩阵图形，其中，第一黑矩阵图形的关键尺寸(CD)比较大，第二黑矩阵图形的关键尺寸比较小。如图1所示，相关技术在制作彩膜基板时，首先在衬底基板1上形成一层黑矩阵材料层，对黑矩阵材料层进行曝光显影，通过一次构图工艺同时形成第一黑矩阵图形11和第二黑矩阵图形12；之后如图2和图3所示，形成彩膜层，彩膜层可以包括三个不同颜色的彩色滤光单元：红色滤光单元21、蓝色滤光单元22和绿色滤光单元23；由于第二黑矩阵图形12的关键尺寸比较小，为了保证第二黑矩阵图形12不会被显影掉，要控制显影的程度；但如果控制显影的程度，关键尺寸较大的第一黑矩阵图形11周边的黑矩阵材料将无法有效去除，就会造成彩膜基板上残留黑矩阵材料，形成脏污；另外，黑矩阵材料与彩膜基板的衬底基板之间的粘附力比较差，由于第二黑矩阵图形12的关键尺寸比较小，容易出现第二黑矩阵图形12从彩膜基板上脱落的问题，为了避免出现第二黑矩阵图形12的脱落，需要减少显影margin，这样会导致第一黑矩阵图形11和第二黑矩阵图形12周边的黑矩阵材料都无法有效去除，脏污情况比较严重。上述情况影响显示产品的良率和分辨率的提升。对于像素密度要求高的VR显示产品来说，对显示产品的透过率的影响较大，在第二黑矩阵图形的关键尺寸无法减小的情况下，无法改善显示产品的透过率。本专利技术的实施例提供一种彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置，能够提高显示面板的良率、分辨率和透过率。本专利技术的实施例提供一种彩膜基板，如图6和图7包括：位于衬底基板上沿第一方向延伸的多个第一黑矩阵图形3，所述第一黑矩阵图形3的线宽大于第本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：/n位于衬底基板上沿第一方向延伸的多个第一黑矩阵图形，所述第一黑矩阵图形的线宽大于第一阈值；/n位于所述第一黑矩阵图形远离所述衬底基板一侧的彩膜层；/n位于所述第一黑矩阵图形远离所述衬底基板一侧、沿第二方向延伸的多个第二黑矩阵图形，所述第二黑矩阵图形的线宽小于第二阈值，所述第二阈值小于所述第一阈值，所述第二方向与所述第一方向交叉。/n

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：
位于衬底基板上沿第一方向延伸的多个第一黑矩阵图形，所述第一黑矩阵图形的线宽大于第一阈值；
位于所述第一黑矩阵图形远离所述衬底基板一侧的彩膜层；
位于所述第一黑矩阵图形远离所述衬底基板一侧、沿第二方向延伸的多个第二黑矩阵图形，所述第二黑矩阵图形的线宽小于第二阈值，所述第二阈值小于所述第一阈值，所述第二方向与所述第一方向交叉。


2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，还包括：
位于所述第二黑矩阵图形远离所述衬底基板一侧的平坦层；
位于所述平坦层远离所述衬底基板一侧的隔垫物。


3.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜层包括多个不同颜色的彩色滤光单元，所述彩色滤光单元沿第二方向延伸。


4.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一阈值为4um，所述第二阈值为3um。


5.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1-4中任一项所述的彩膜基板，还包括与所述彩膜基板对盒设置的阵列基板。


6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述阵...

【专利技术属性】
技术研发人员：闫春龙，魏威，折应双，李平福，郝明迁，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京;11