光学测定系统和光学测定方法技术方案

本发明专利技术提供一种光学测定系统和光学测定方法，提供一种针对在以往的光学测定装置中测定精度可能降低的样品也能够更高精度地测定光学特性的结构。光学测定系统包括：光源，其发出用于向样品照射的测定光；分光检测器，其接收由测定光在样品处产生的反射光或透射光；以及处理装置，其被输入分光检测器的检测结果。处理装置构成为能够执行以下处理：基于分光检测器的检测结果，来计算第一光谱；在第一光谱中确定与波长有关的振幅的变化满足规定条件的区间；以及使用从第一光谱去除所确定的区间的信息所得到的第二光谱，来计算样品的光学特性。

【技术实现步骤摘要】
光学测定系统和光学测定方法
本专利技术涉及一种能够测定样品的膜厚等光学特性的光学测定系统和光学测定方法。
技术介绍
一直以来，已知如下一种技术：通过观测由于光干涉而出现的光，来测定样品的膜厚等光学特性。例如，日本特开2009-092454号公报公开了能够更高精度地测定具有波长取决性的多层膜试样的膜厚的多层膜分析装置等。另外，日本特开2018-205132号公报公开了能够更高速且更高精度地测定样品的膜厚的面内分布的光学测定装置等。在使用上述这种光学测定装置来测定出液晶材料、聚合物材料(例如，PET薄膜等)等样品的膜厚的情况下，存在由于这些材料所具有的各向异性而导致测定精度降低这样的问题。另外，在对构造上具有多个厚度的样品进行了测定的情况下，也存在测定精度降低这样的问题。
技术实现思路
专利技术要解决的问题本专利技术的一个目的在于提供如下结构：针对在以往的光学测定装置中测定精度可能降低的样品，也能够更高精度地测定光学特性。本专利技术的某一方面的的光学测定系统包括：光源，其产生用于向样品照射的测定光；分光检本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学测定系统，具备：/n光源，其产生用于向样品照射的测定光；/n分光检测器，其接收由所述测定光在所述样品处产生的反射光或透射光；以及/n处理装置，其被输入所述分光检测器的检测结果，/n其中，所述处理装置构成为能够执行以下处理：/n基于所述分光检测器的检测结果，来计算第一光谱；/n在所述第一光谱中确定与波长有关的振幅的变化满足规定条件的区间；以及/n使用从所述第一光谱去除所确定的所述区间的信息所得到的第二光谱，来计算所述样品的光学特性。/n

【技术特征摘要】
20190129 JP 2019-0135591.一种光学测定系统，具备：
光源，其产生用于向样品照射的测定光；
分光检测器，其接收由所述测定光在所述样品处产生的反射光或透射光；以及
处理装置，其被输入所述分光检测器的检测结果，
其中，所述处理装置构成为能够执行以下处理：
基于所述分光检测器的检测结果，来计算第一光谱；
在所述第一光谱中确定与波长有关的振幅的变化满足规定条件的区间；以及
使用从所述第一光谱去除所确定的所述区间的信息所得到的第二光谱，来计算所述样品的光学特性。


2.根据权利要求1所述的光学测定系统，其中，
进行所述确定的处理包括以下处理：
针对所述第一光谱，依次设定具有预先决定的波长幅度的评价窗；以及
基于各评价窗中包含的所述第一光谱的振幅的变化，来判断与各评价窗对应的区间是否满足所述规定条件。


3.根据权利要求2所述的光学测定系统，其中，
判断与各评价窗对应的区间是否满足所述规定条件的处理包括以下处理：计算所述第一光谱的与各评价窗对应的区间内的振幅的偏差的程度。


4.根据权利要求3所述的光学测定系统，其中，
在所述第一光谱的与各评价窗对应的区间内的振幅的偏差的程度低于规定阈值的情况下，判断为与该评价窗对应的区间满足所述规定条件。


5.根据权利要求2所述的光学测定系统，其中，
所述评价窗的波长幅度是按样品的种类预先决定的。


6.根据权利要求1至5中的任一项所述的光学测定系统，其中，

【专利技术属性】
技术研发人员：冈本宗大，稻野大辅，森本晃一，田口都一，龟本智彦，
申请(专利权)人：大塚电子株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP