【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种检测仪,尤其涉及一种圆形光盘母盘玻璃基片平面度检测仪。
技术介绍
随着全球光盘存储、光电子、微电子产业的迅速发展,激光光盘母盘基片、集成电路掩膜版基片、各类圆形超高质量表面光学基片在该领域的应用越来越大。在这些超高质量表面要求的光盘母盘基片的生产过程中,需要对这些产品的各类尺寸误差进行全面检测。“光盘母盘玻璃基片平面度”质量指标对产品的应用十分重要,直接影响到光盘行业大批量产品生产的使用效果。在以往的平面度检验测试中,常使用“激光平面干涉仪”(如中科院光机所制PG15-J4型激光平面干涉仪)测量光圈的方法,虽然精度高达0.2~0.3um,但对于大规模生产使用不便,影响生产效率;特别是在研磨阶段,毛面不能检测;并且对于大面积大尺寸(如φ160~φ240mm)和超薄型(外经/厚度=10∶1~200∶1)的光盘母盘基片测量十分困难(光圈变形无法数清),并无法实行数字化直读。
技术实现思路
本专利技术需要解决的技术问题是提供了一种圆形光盘母盘玻璃基片平面度检测仪,旨在解决上述的缺陷。为了解决上述技术问题,本专利技术是通过以下技术方案实现的本专利技术包括一 ...
【技术保护点】
一种圆形光盘母盘玻璃基片平面度检测仪,其特征在于包括:一个三角形工作台面(3),在所述的三角形工作台面(3)上分别安置三个圆座(1),每个圆座1上安置一个可转动的小钢球(11);在所述的三角形工作台面(3)的边缘三角位置,分别均布一组小滚珠轴承连固定座(2);在所述的三角形工作台面(3)的中心位置孔下方安置了一台千分表(4)。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:应永伟,
申请(专利权)人:上海申菲激光光学系统有限公司,
类型:发明
国别省市:31[中国|上海]
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