不均检查装置及其方法、以及图像显示装置及其方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种不均检查装置及其方法、以及图像显示装置及其方法。在不均检查装置中，从光照射部件向基板上的膜照射光，并通过拍摄部件接收由膜反射的特定波长的干涉光，从而取得膜的原始图像。在根据原始图像获取的对象图像中求出多根等浓度线（７２１），并取得设定在各评价位置（７２２）评价区域（７２３）中所存在的等浓度线（７２１）的数目，从而取得评价值，其中，该多根等浓度线（７２１）分别表示范围相邻的两个浓度范围的边界，而且，该评价值针对该评价位置（７２２）表示对象图像中的浓度变化的梯度。其结果，通过参照评价值，能够易于对基板上的膜的膜厚变化梯度进行确认。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种检査形成在基板上的膜的膜厚不均的技术、以及用于该 膜厚不均的检査中的图像显示的技术。
技术介绍
到目前为止，在显示装置用的玻璃基板等(以下，简单称为"基板") 的主面上形成规定的图案时，在基板的主面上涂敷抗蚀液的同时使旋转基板，从而形成抗蚀膜，而且，在JP特开2006-49630号公报中提出了这样的 技术，S卩，取得由旋转涂敷机刚涂敷抗蚀液之后的基板图像，从而检査在基 板主面上的涂敷不均。另外，在JP特开平7-301608号公报(文献l)中公开了这样的方法， 即，向形成有透光性膜的基板照射光，并利用拍摄部件接收由基板的膜反射 的干涉光，然后根据从拍摄部件输出的信号，判断有无表示干涉条纹的波形， 从而检测出在基板上膜厚局部地变化的缺陷(即，高频率的膜厚不均)，其 中，上述干涉条纹是由于在基板上存在比较大的膜厚变化而产生的。然而， 一般不会将在基板的膜上膜厚缓慢变化的膜厚不均、即低频率的 膜厚不均认为是缺陷，但即使是低频率的膜厚不均，根据膜厚变化梯度的不 同，也有时会对后续的工艺以及最终产品产生影响。然而，即使使用上述文 献1的方法，也无法取得膜厚变化梯度，并且，作业人员即使想要通过肉眼 进行检查，也很难确认微小的膜厚变化梯度。因此，需要一种能够容易地对 基板上的膜的膜厚变化梯度进行确认的新方法。
技术实现思路
本专利技术涉及一种对于形成在基板上的膜的膜厚不均进行检査的不均检 査装置，其目的在于，易于对形成在基板上的膜的膜厚变化梯度进行确认。本专利技术涉及的不均检査装置，具有保持部件，其保持形成有透光性膜的基板；光照射部件，其向膜照射光；拍摄部件，其接收从光照射部件射出 并由膜反射的特定波长的干涉光，从而取得膜的原始图像；等浓度线取得部 件，其在原始图像或者对象图像中求出多根等浓度线，其中，上述对象图像 是根据原始图像获取的图像，而且多根等浓度线分别表示范围相邻的两个浓 度范围的边界；评价值取得部件，其基于多根等浓度线求出评价值，该评价 值表示在对象图像中的多个位置的浓度变化梯度。根据本专利技术，通过参照评价值，能够易于对基板上的膜的膜厚变化梯度 进行确认。在本专利技术的一个方案中，评价值取得部件取得分别设定于多个位置的区 域中所存在的等浓度线的数目，并将该数目作为评价值，在本专利技术的另一个 方案，多个位置设定在多根等浓度线上，评价值取得部件取得从多个位置到 相邻的等浓度线为止的距离，并将该距离作为评价值。其结果，能够容易的 取得评价值。本专利技术还提供一种图像显示装置，用于显示图像，该图像用于检査形成 在基板上的膜的膜厚不均，该图像显示装置具有保持部件，其保持形成有 透光性膜的基板；光照射部件，其向膜照射光；拍摄部件，其接收从光照射 部件射出并由膜反射的特定波长的干涉光，从而取得膜的原始图像；等浓度 线取得部件，其在原始图像或者对象图像中求出多根等浓度线，其中，上述 对象图像是根据原始图像获得的图像，而且多根等浓度线分别表示范围相邻 的两个浓度范围的边界；显示部件，其显示上述多根等浓度线。根据本专利技术，通过参照显示部件所显示的等浓度线，能够易于对基板上 的膜的膜厚变化梯度进行确认。在本专利技术的一个优选实施方式中，显示部件将多根等浓度线重叠在对象 图像上而进行显示，从而能够与对象图像一起确认基板上的膜的膜厚变化梯 度。在本专利技术的其他优选实施方式中，对象图像被实施过平滑处理，从而能 够取得平滑的等浓度线，并且能够以可靠确认基板上的膜的膜厚变化梯度的 状态显示等浓度线。本专利技术还提供一种不均检査方法，用于检査形成在基板上的膜的膜厚不 均，并且还提供一种图像显示方法，用于显示图像，该图像用于检查形成在基板上的膜的膜厚不均。通过下面的参照附图而对本专利技术进行的详细说明，上述目的以及其他目 的、特征、实施方式以及优点会变得更加清楚。附图说明图1是表示不均检査装置的结构的图。图2是表示拍摄部件的受光面的图。图3是表示计算机的结构的图。图4是表示计算机所实现的功能结构的框图。图5是表示不均检査装置对基板上的膜的膜厚不均进行检査的处理的流 程的图。图6是表示对象图像的图。图7是表示等浓度线图像的图。图8是表示评价位置以及评价区域的图。图9是表示等浓度线重叠的对象图像的图。图IO是用于说明取得评价值的处理的其他例子的图。具体实施例方式图1是表示本专利技术的一个实施方式的不均检查装置1的结构的图。不均检查装置1是如下的装置在液晶显示装置等平面显示装置所使用的玻璃基板9上，取得通过在一侧主面91上涂敷抗蚀液而形成的图案形成用抗蚀膜 92的图像，并基于该图像对基板9的膜92的膜厚不均进行检查。此外，基 板9的大小例如为700X600毫米，基板9的厚度为数十纳米 两微米。如图1所示，不均检查装置1具备载物台2，其使形成有膜92的主面 91 (以下，称为"上表面91")朝向上侧(图1中的+Z侦lj)而保持基板9; 光照射部件3，其以规定的入射角向基板9上的膜92照射光，其中，该基板 9被载物台2保持；受光单元4，其接收光照射部件3发出并由基板9的上 表面91上的膜92反射的光；移动机构21，其使载物台2相对于光照射部件 3以及受光单元4进行相对移动；以及计算机5，其发挥不均检查装置1的 控制部件的作用。载物台2的+Z侧的表面优先采用无反射面(黑色磨砂)。移动机构21采用连接到马达211的滚珠螺杆(省略图示)的结构，通过马达211旋转， 载物台2可沿着导轨212向沿着基板9的上表面91的图1中的X方向移动。光照射部件3具备卤素灯31，其为发出白光(即，包括可见光区域的 所有波长的光)的光源；圆柱状的石英棒32,其向与载物台2的移动方向垂 直的图1中的Y方向延伸；以及圆柱透镜33，其向Y方向延伸。在光照射 部件3中，卤素灯31安装在石英棒32的+Y侧端部，从卤素灯31入射到石 英棒32的光被转换为向Y方向延伸的线状光(即，光束剖面为在Y方向上 长的线状的光)，并从石英棒32的侧面出射，然后通过圆柱透镜33而导向 基板9的上表面91 。换而言之，石英棒32以及圆柱透镜33构成这样的光学 系统将来自卤素灯31的光转换为与载物台2的移动方向垂直的线状光， 并将其导向基板9的上表面91。在图1中，以单点划线表示从光照射部件3到基板9的光路(从基板9 到受光单元4的光路也相同)。从光照射部件3出射的一部分光被基板9的 上表面91上的膜92的+Z侧上表面反射。膜92对来自光照射部件3的光具 有透光性，所以，在来自光照射部件3的光中未被膜92的上表面反射的光 透过膜92，而且其一部分被基板9的上表面91 (即膜92的下表面)反射。 在不均检查装置1中，由基板9上的膜92的上表面反射的光与由基板9的 上表面91反射的光的干涉光入射到受光单元4，并经由滤光器43以及透镜 42而特定的波长的干涉光导向拍摄部件41。图2是表示拍摄部件41的受光面的图。如图2所示，在拍摄部件41设 有线传感器(Line Sensor) 410，该线传感器410具有在Y方向上排列为直 线状的多个受光元件(例如CCD (charge Coupled Device:电荷耦合器件)) 411。在拍摄部件41中，通过用线传感器410来接收来自基板9的干涉光， 从而取得干涉光的强度分布(即，来自本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种不均检查装置，用于检查形成在基板上的膜的膜厚不均，其特征在于，具有：保持部件，其保持形成有透光性膜的基板；光照射部件，其向上述膜照射光；拍摄部件，其接收从上述光照射部件射出并由上述膜反射的特定波长的干涉光，从而取得上述膜的原始图像；等浓度线取得部件，其在上述原始图像或者对象图像中求出多根等浓度线，其中，上述对象图像是根据上述原始图像获取的图像，而且上述多根等浓度线分别表示范围相邻的两个浓度范围的边界；评价值取得部件，其基于上述多根等浓度线求出评价值，该评价值表示在上述对象图像中的多个位置的浓度变化梯度。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：浅井吉治，
申请(专利权)人：大日本网目版制造株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]