一种气液两相介质阻挡放电等离子体材料表面处理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种气液两相介质阻挡放电等离子体材料表面处理装置，包括箱体，所述箱体侧面设置有烘干气体入口和烘干气体出口，箱体底部设置有滑台，包括滑板、滚轮和滚轮导向槽，滑台上连接有上极板部件，包括支架、调节杆、固定手轮、上电极和上介质板，在上极板部件下方设置有下极板部件，包括下电极支承块、下电极和下介质板，在箱体和滑台上设置有进出液系统，包括进液漏斗、水槽和排水口。本实用新型专利技术合理设置了装置的进出水系统,提供了烘干功能，可实现较好的抽真空效果，从而提高了气相纯度，可实现较好的处理效果，并且设置的开放式滑台和上极板部件便于操作，提高了操作效率。

【技术实现步骤摘要】
一种气液两相介质阻挡放电等离子体材料表面处理装置
本技术涉及材料表面处理
，尤其是涉及一种气液两相介质阻挡放电等离子体材料表面处理装置。
技术介绍
目前等离子体技术作为一种新兴学科，在很多领域获得普遍应用。低温介质阻挡放电等离子体可在大气压下生成大量的活性物种，可引发难以发生的化学反应，该优点可对聚合物材料进行表面处理，这是一种常用的物理改性方法，避免了其他化学改性方法的不足，能快速、高效、低成本、无污染地改变各类高分子聚合材料的表面性能。气液两相介质阻挡放电等离子体材料表面处理装置对材料表面处理时，需要对反应空间抽真空处理，然后充入所需气相，如果反应空间存在液体或湿度较大时对真空度影响较大。然而目前的气液两相介质阻挡放电等离子体材料表面处理装置对于进出液系统设置不够合理，且不能实现空间干燥功能，抽真空效果不够理想，对于气相纯度有较大影响。而且目前的处理装置操作流程设计不够合理，操作效率较低。
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有技术的上述缺点和不足，提供一种气液两相介质阻挡放电等离子体材料表面处理装置。为了本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种气液两相介质阻挡放电等离子体材料表面处理装置，其特征在于，包括：/n箱体，所述箱体侧面设置有烘干气体入口和烘干气体出口，所述箱体顶部设置有真空表、真空泵接口和气瓶接口，所述箱体后端面设置有高压端接线柱和低压端接线柱，所述箱体前端面铰接有前盖板，且所述箱体前端面设置有把手；/n滑台，包括滑板、滚轮和滚轮导向槽，所述滑板连接有所述滚轮，所述滚轮与滚轮导向槽滚动连接；/n上极板部件，包括支架、调节杆、固定手轮、上电极和上介质板，所述支架设置在滑板上，且所述支架顶部和侧面分别设置有光孔和螺纹孔，所述调节杆设置在所述支架光孔内，所述固定手轮包括手轮和螺柱，所述手轮和所述螺柱固定连接，所述螺柱装配...

【技术特征摘要】
1.一种气液两相介质阻挡放电等离子体材料表面处理装置，其特征在于，包括：
箱体，所述箱体侧面设置有烘干气体入口和烘干气体出口，所述箱体顶部设置有真空表、真空泵接口和气瓶接口，所述箱体后端面设置有高压端接线柱和低压端接线柱，所述箱体前端面铰接有前盖板，且所述箱体前端面设置有把手；
滑台，包括滑板、滚轮和滚轮导向槽，所述滑板连接有所述滚轮，所述滚轮与滚轮导向槽滚动连接；
上极板部件，包括支架、调节杆、固定手轮、上电极和上介质板，所述支架设置在滑板上，且所述支架顶部和侧面分别设置有光孔和螺纹孔，所述调节杆设置在所述支架光孔内，所述固定手轮包括手轮和螺柱，所述手轮和所述螺柱固定连接，所述螺柱装配在所述支架的螺纹孔内，所述上电极与所述调节杆固定连接，所述上介质板与所述上电极固定连接；
进出液系统，包括进液漏斗、水槽和排水口，所述进液漏斗设置在箱体顶部，所述水槽设置在所述滑板上，所述排水口设置在所述箱体后端面下部，所述水槽设置有进水孔和出水孔；
下极板部件，包括下电极支承块、下电极和下介质板，所述下电极支承块设置在所述水槽的底部，所述下电极设置在所述下电极支承块上，所述下介质板设置在所述下电极上。
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【专利技术属性】
技术研发人员：郭星辰，孔祥茹，刘建慧，张燕，王鑫，马志鹏，王日鑫，李朋倡，
申请(专利权)人：河南理工大学，
类型：新型
国别省市：河南;41