粉末棒沉积设备制造技术

本实用新型专利技术提供一种粉末棒沉积设备，包括喷灯、沉积室、靶棒及吊杆，所述靶棒的一端连接于所述吊杆端部，所述靶棒伸入所述沉积室，所述喷灯喷射反应气流沉积粉末附着于靶棒上，所述沉积室连通于上部沉积腔体，所述上部沉积腔体包括同轴设置的上部沉积腔体内层和上部沉积腔体外层及盖设在远离沉积室的端部的上部沉积腔体端盖，其中上部沉积腔体内层用以容纳粉末棒上提空间，上部沉积腔体外层用于外部气体的灌入。本实用新型专利技术设计将上部腔体分为内外两层，有效将粉末棒容纳空间和气体进入腔体分离，避免随着粉末棒增加，容纳空间变小，造成沉积腔体中的气流紊乱，粉末棒的棒径产生波动。

【技术实现步骤摘要】
粉末棒沉积设备
本技术涉及光通信
，特别是指一种粉末棒沉积设备。
技术介绍
在未来400G及以上传输系统中，降低光纤损耗和获得大有效面积是光纤制造领域的重要课题之一。对于石英光纤，在600nm～1600nm的衰减主要来自瑞利散射，由瑞利散射所引起的衰减aR可由下式计算：aR＝R/λ4+B。其中，λ为波长，R为瑞利散射系数(dB/km/μm4)，B为对应常数。为了降低光纤损耗，最主要的工艺是降低芯层掺锗或纯硅芯设计，通过降低光纤掺杂浓度，可以有效降低光纤的瑞利散射。但是光纤的瑞利散射R除了受掺杂浓度Rc的影响，还受密度波动Rd影响。其表达式R＝Rc+Rd。传统工艺中采用的纯硅芯设计容易引起芯层与包层之间粘度不匹配而引起密度波动，需要降低芯层掺锗的同时改善芯层与包层之间的粘度匹配，才有可能降低光纤损耗。如何能够通过少量掺杂实现改善各层粘度匹配达到折射率结构设计，又可以调控生产过程棒径波动获得大有效面积，低衰减、低损耗等综合性能好的光纤是本技术解决的主要技术问题。
技术实现思路
鉴于以上内容，有必要提供一种粉末棒本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种粉末棒沉积设备，包括喷灯、沉积室、靶棒及吊杆，所述靶棒的一端连接于所述吊杆端部，所述靶棒伸入所述沉积室，所述喷灯喷射反应气流沉积粉末附着于靶棒上，其特征在于：所述沉积室连通于上部沉积腔体，所述上部沉积腔体包括同轴设置的上部沉积腔体内层和上部沉积腔体外层及盖设在远离沉积室的端部的上部沉积腔体端盖，其中上部沉积腔体内层用以容纳粉末棒上提空间，上部沉积腔体外层用于外部气体的灌入。/n

【技术特征摘要】
1.一种粉末棒沉积设备，包括喷灯、沉积室、靶棒及吊杆，所述靶棒的一端连接于所述吊杆端部，所述靶棒伸入所述沉积室，所述喷灯喷射反应气流沉积粉末附着于靶棒上，其特征在于：所述沉积室连通于上部沉积腔体，所述上部沉积腔体包括同轴设置的上部沉积腔体内层和上部沉积腔体外层及盖设在远离沉积室的端部的上部沉积腔体端盖，其中上部沉积腔体内层用以容纳粉末棒上提空间，上部沉积腔体外层用于外部气体的灌入。


2.根据权利要求1所述的粉末棒沉积设备，其特征在于：上部沉积腔体端盖对应于上部沉积腔体外层的部分设有不少于10个气孔，用以控制进气气流大小。


3.根据权利要求1所述的粉末棒沉积设备，其特征在于：所述气孔的总面积占上部沉积腔体端盖对应于上部沉积腔体外层的部分的面积的30％-60％。


4.根据权利要求1所述的粉末棒沉积设备，其特征在于：所述靶棒包括空心靶棒和实心靶棒，所述空心靶棒的第一端部连接于所述吊杆上；所述实心靶棒的第一端部穿插固定在所述空心靶棒的第二端部的内孔中，所述实心靶棒的第二端部为自由端，所述靶棒在所述吊杆的带动下转动或移动；所述空心靶棒第一端部和所述实心靶棒的第二端部之间的表面...

【专利技术属性】
技术研发人员：钱宜刚，吴椿烽，沈一春，薛驰，薛济萍，
申请(专利权)人：中天科技精密材料有限公司，江苏中天科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32