【技术实现步骤摘要】
一种硅片的清洗槽
本技术涉及硅片生产
,具体为一种硅片的清洗槽。
技术介绍
随着光伏行业的快速发展,对硅片的需求越来越多,同时对硅片清洗的要求也越来越高,硅片在生产的过程中须经严格清洗,微量污染也会导致器件失效,清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物,这些杂质有的以原子状态或离子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。现有的硅片清洗方式大多采用静置浸泡的方式进行,这种清洗方式存在一定的缺陷,很难去除硅片上粘附的一些强吸附能力的杂质,同时现有的清洗槽功能较为单一,硅片的清洗和干燥需要分个装置进行处理,降低了硅片的处理效率,同时多个装置也占据更多的空间。
技术实现思路
针对现有技术的不足,本技术提供了一种硅片的清洗槽,解决了上述
技术介绍
中提出的问题。为实现以上目的,本技术通过以下技术方案予以实现:一种硅片的清洗槽,包括槽体,所述槽体的顶部固定安装有超声波发生器,所述槽体的右侧固定连接有排液口,所述排液口的顶部固定安装有控制阀,所述槽体的内部固定连接有挡板,所述挡板的顶部放置 ...
【技术保护点】
1.一种硅片的清洗槽,包括槽体(1),其特征在于:所述槽体(1)的顶部固定安装有超声波发生器(2),所述槽体(1)的右侧固定连接有排液口(3),所述排液口(3)的顶部固定安装有控制阀(4),所述槽体(1)的内部固定连接有挡板(5),所述挡板(5)的顶部放置有硅片放置板(6),所述硅片放置板(6)的顶部设置有卡槽(7),所述硅片放置板(6)顶部的右侧固定连接有侧板(8),所述卡槽(7)的内部卡接有硅片(9),所述槽体(1)的左侧固定连接有溢流管(10),所述槽体(1)的右侧固定安装有干燥室(11),所述干燥室(11)的内壁的右侧固定安装有加热板(12),所述加热板(12)的左 ...
【技术特征摘要】
1.一种硅片的清洗槽,包括槽体(1),其特征在于:所述槽体(1)的顶部固定安装有超声波发生器(2),所述槽体(1)的右侧固定连接有排液口(3),所述排液口(3)的顶部固定安装有控制阀(4),所述槽体(1)的内部固定连接有挡板(5),所述挡板(5)的顶部放置有硅片放置板(6),所述硅片放置板(6)的顶部设置有卡槽(7),所述硅片放置板(6)顶部的右侧固定连接有侧板(8),所述卡槽(7)的内部卡接有硅片(9),所述槽体(1)的左侧固定连接有溢流管(10),所述槽体(1)的右侧固定安装有干燥室(11),所述干燥室(11)的内壁的右侧固定安装有加热板(12),所述加热板(12)的左侧固定连接有电热片(13),所述干燥室(11)的左侧固定安装有风机(14),所述槽体(1)的顶部铰接有顶板(15),所述顶板(15)的中部固定套接有输液管(16),所述输液管(16)的底部固...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘爱军,曹丙强,庄艳歆,周浪,
申请(专利权)人:江苏金晖光伏有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏;32
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