一种提高溢流循环效率的清洗槽结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种提高溢流循环效率的清洗槽结构，包括主槽体，还包括围绕主槽体设置收集从主槽体溢流的溶液的副槽体，将溶液从副槽体抽取输送至主槽体底部的循环进口的循环设备，所述主槽体的上部设有多个溢流口，且溢流口的开口从上至下逐渐缩小，所述副槽体上设有对溢流溶液进行过滤的过滤装置。本实用新型专利技术通过设置呈离散式小坡口的溢流口，有利于破坏分子表面张力，加速表面液体流动，可根据化学反应的区域，针对性的加速对应区域的表面液体流动，且溢流溶液经过过滤装置过滤后流向副槽体底部时可对溢流处的杂质、泡沫、碎硅片、螺丝等做出隔离。

【技术实现步骤摘要】
一种提高溢流循环效率的清洗槽结构
本技术涉及太阳能工艺设备领域，特别是涉及一种提高溢流循环效率的清洗槽结构。
技术介绍
随着太阳能光伏行业的发展，晶体硅电池发展的趋势是低成本、高效率、大产量。其中高效率意味着，对设备清洗槽的清洗能力要求越来越高，这种要求主要体现在清洗槽的循环、溢流均匀性及鼓泡功能上。现有设备，大多还是沿用以前清洗槽的结构，并未随着行业的发展做出相应的升级。
技术实现思路
本技术为了解决上述现有技术中溢流循环效率低的技术问题，提出一种提高溢流循环效率的清洗槽结构。本技术采用的技术方案是：本技术提出了一种提高溢流循环效率的清洗槽结构，包括主槽体，还包括围绕主槽体设置收集从主槽体溢流的溶液的副槽体，将溶液从副槽体抽取输送至主槽体底部的循环进口的循环设备，所述主槽体的上部设有多个溢流口，且溢流口的开口从上至下逐渐缩小，所述副槽体上设有对溢流溶液进行过滤的过滤装置。所述主槽体呈方形，所述溢流口均匀分布在主槽体四个槽壁的同一高度上。所述溢流口逐渐缩小的底部呈圆弧状或锥状。所述副槽体的上部设有垂直溢流方向的溢流挡板，所述过滤装置设置在溢流挡板上。所述主槽体和副槽体上都设有配液进口，且主槽体的槽底设有联通副槽体的连接孔。从所述循环进口处往上依次设有均流组件和鼓泡组件。所述均流组件包括：至少一块带多个均流孔的均流板，所述均流板上的均流孔正对待清洗物料的位置设置。在一实施例中，所述均流组件包括从上至下依次间隔平行设置的第一均流板和第二均流板，所述第一均流板与第二均流板之间形成溶液混合缓冲区。所述鼓泡组件包括至少一组连接吹气设备的鼓泡管，所述鼓泡管上设有多个出气孔。多根所述鼓泡管平行间隔排布通过U形接头连接形成相互连通的一组，且平行排布的方向和出气孔的出气方向与溶液向上流动的方向垂直。与现有技术比较，本技术通过设置呈离散式小坡口的溢流口，有利于破坏分子表面张力，加速表面液体流动，可根据化学反应的区域，针对性的加速对应区域的表面液体流动，且溢流溶液经过过滤装置过滤后流向副槽体底部时可对溢流处的杂质、泡沫、碎硅片、螺丝等做出隔离。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术实施例中的正视图；图2为本技术实施例中的侧视图；图3为本技术实施例中的俯视图；图4为本技术溢流口第一个实施例中的结构图；图5为图4中的局部放大图；图6为本技术溢流口第二个实施例中的结构图；图7为本技术溢流口第三个实施例中的结构图；图8为本技术鼓泡组件第一个实施例中的结构图；图9为本技术鼓泡组件第二个实施例中的结构图；图10为本技术鼓泡组件第三个实施例中的结构图；图11为本技术实施例中支撑板与挂槽板配合的结构图；图12为本技术实施例中的挂槽板的结构图；图13为本技术另一实施例中溶液流动状态的侧视图。具体实施方式为了使本技术所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者间接在该另一个元件上。当一个元件被称为是“连接于”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或间接连接至该另一个元件上。在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。下面结合附图以及实施例对本技术的原理及结构进行详细说明。如图1至7所示，本技术提出了一种提高溢流循环效率的清洗槽结构，包括主槽体1、副槽体2、循环设备和均流组件3，主槽体1呈方形，副槽体2围绕主槽体1的四周设置与主槽体1共用槽壁，用于收集从主槽体1溢流出来的溶液，且副槽体2的底部设有循环吸口23，主槽体1的底部设有循环进口11，通过循环设备将溶液从副槽体2抽取输送至主槽体1底部进行循环。主槽体1与副槽体2共用的四个侧壁上设有多个溢流口13，溶液可从主槽体1的四周向副槽体2内溢流均匀溶液，溢流口13设置在同一高度上并均匀间隔，且溢流口13的开口从上至下逐渐缩小，其底部为圆弧状或锥状，副槽体2上还设有多个过滤装置22，可对溢流溶液进行过滤，通过设置呈离散式小坡口的溢流口，有利于破坏分子表面张力，加速表面液体流动，可根据化学反应的区域，针对性的加速对应区域的表面液体流动，且溢流溶液经过过滤装置过滤后流向副槽体底部时可对溢流处的杂质、泡沫、碎硅片、螺丝等做出隔离。循环设备为循环泵，分别连接副槽体2的底部的循环吸口23和主槽体1底部的循环进口11。在优选的实施例中，当溢流口13底部为圆弧状时，圆弧角R的半径的范围为R≤10mm，溢流口设置间距L2的范围：20mm≤L2≤80mm，溢流口13的槽口至槽底的距离L3的范围：2mm≤L3≤10mm。副槽体上设有溢流挡板，对流向副槽体底部的溢流溶液进行缓冲，过滤装置间隔设置在溢流挡板上，溢流溶液经过过滤装置过滤后流向副槽体底部，可对溢流处的杂质、泡沫、碎硅片、螺丝等做出隔离。溢流口可以是主槽体槽壁顶部设置的槽口，也可以是靠近主槽体槽壁顶部的开孔，过滤装置可以是非金属的网兜或者其他网状过滤结构。均流组件位于循环进口上方，使送入主槽体的溶液上升时保持均匀，且整个液面都会平稳的上升，保证循环时的均匀性，同时采用均流组件可省去进液管直接进液，亦可避免进液压力过大导致的溅射，阻挡循环带入槽体的大颗粒杂质或反应物。均流组件3具体包括：至少一块均流板，均流板横向设置与溶液朝上的流动方向垂直，可对溶液进行阻挡，同时均流板上设有多个呈阵列排布的均流孔用于通过溶液，均流孔直径D的优选范围为：∅本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种提高溢流循环效率的清洗槽结构，包括主槽体（1），其特征在于，还包括围绕主槽体（1）设置收集从主槽体（1）溢流的溶液的副槽体（2），将溶液从副槽体（2）抽取输送至主槽体（1）底部的循环进口的循环设备，所述主槽体的上部设有多个溢流口（13），且溢流口（13）的开口从上至下逐渐缩小，所述副槽体（2）上设有对溢流溶液进行过滤的过滤装置（22）。/n

【技术特征摘要】
1.一种提高溢流循环效率的清洗槽结构，包括主槽体（1），其特征在于，还包括围绕主槽体（1）设置收集从主槽体（1）溢流的溶液的副槽体（2），将溶液从副槽体（2）抽取输送至主槽体（1）底部的循环进口的循环设备，所述主槽体的上部设有多个溢流口（13），且溢流口（13）的开口从上至下逐渐缩小，所述副槽体（2）上设有对溢流溶液进行过滤的过滤装置（22）。


2.如权利要求1所述的提高溢流循环效率的清洗槽结构，其特征在于，所述主槽体呈方形，所述溢流口均匀分布在主槽体四个槽壁的同一高度上。


3.如权利要求1所述的提高溢流循环效率的清洗槽结构，其特征在于，所述溢流口（13）逐渐缩小的底部呈圆弧状或锥状。


4.如权利要求1所述的提高溢流循环效率的清洗槽结构，其特征在于，所述副槽体（2）的上部设有垂直溢流方向的溢流挡板（21），所述过滤装置（22）设置在溢流挡板（21）上。


5.如权利要求1所述的提高溢流循环效率的清洗槽结构，其特征在于，所述主槽体（1）和副槽体（2）上都设有配液进口，且主槽体的槽底设...

【专利技术属性】
技术研发人员：左国军，陈雷，任金枝，李雄朋，成旭，申斌，谈丽文，邱瑞，
申请(专利权)人：常州捷佳创精密机械有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32