【技术实现步骤摘要】
一种提高溶液均匀性的清洗槽结构
本技术涉及太阳能工艺设备领域，特别是涉及一种提高溶液均匀性的清洗槽结构。
技术介绍
随着太阳能光伏行业的发展，晶体硅电池发展的趋势是低成本、高效率、大产量。其中高效率意味着，对设备清洗槽的清洗能力要求越来越高，这种要求主要体现在清洗槽的循环、溢流均匀性及鼓泡功能上。现有设备，大多还是沿用以前清洗槽的结构，并未随着行业的发展做出相应的升级。
技术实现思路
本技术为了解决上述现有技术中溶液均匀性不好的技术问题，提出一种提高溶液均匀性的清洗槽结构。本技术采用的技术方案是：本技术提出了一种提高溶液均匀性的清洗槽结构，包括主槽体，还包括围绕主槽体设置收集从主槽体溢流的溶液的副槽体，将溶液从副槽体抽取输送至主槽体底部的循环进口的循环设备，位于循环进口上方使溶液均匀上升的均流组件。进一步的，所述均流组件包括至少一块带多个均流孔的均流板。所述均流板上的均流孔正对待清洗物料的位置设置。优选地，所述均流组件包括从上至下依次设置的第一均流板和第二均流板，所述第...
【技术保护点】
1.一种提高溶液均匀性的清洗槽结构，包括主槽体（1），其特征在于，还包括围绕主槽体（1）设置收集从主槽体溢流的溶液的副槽体（2），将溶液从副槽体抽取输送至主槽体底部的循环进口的循环设备，位于循环进口上方使溶液均匀上升的均流组件（3）。/n
【技术特征摘要】
1.一种提高溶液均匀性的清洗槽结构，包括主槽体（1），其特征在于，还包括围绕主槽体（1）设置收集从主槽体溢流的溶液的副槽体（2），将溶液从副槽体抽取输送至主槽体底部的循环进口的循环设备，位于循环进口上方使溶液均匀上升的均流组件（3）。
2.如权利要求1所述的提高溶液均匀性的清洗槽结构，其特征在于，所述均流组件（3）包括至少一块带多个均流孔的均流板。
3.如权利要求2所述的提高溶液均匀性的清洗槽结构，其特征在于，所述均流板上的均流孔正对待清洗物料的位置设置。
4.如权利要求2所述的提高溶液均匀性的清洗槽结构，其特征在于，所述均流组件（3）包括从上至下依次设置的第一均流板（31）和第二均流板（32），所述第一均流板（31）上第一均流孔的孔径小于第二均流板（32）上第二均流孔的孔径。
5.如权利要求4所述的提高溶液均匀性的清洗槽结构，其特征在于，所述第一均流板（31）和第二均流板（...
【专利技术属性】
技术研发人员：左国军，陈雷，任金枝，李雄朋，成旭，申斌，谈丽文，邱瑞，
申请(专利权)人：常州捷佳创精密机械有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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