一种提高溶液均匀性的清洗槽结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种提高溶液均匀性的清洗槽结构，包括主槽体，还包括围绕主槽体设置收集从主槽体溢流的溶液的副槽体，将溶液从副槽体抽取输送至主槽体底部的循环进口的循环设备，位于循环进口上方使溶液均匀上升的均流组件。本实用新型专利技术通过循环设备将溶液从副槽体抽取输送至主槽体底部进行循环，并通过设置均流组件使送入主槽体的溶液上升时保持均匀，且整个液面都会平稳的上升，保证循环时的均匀性，同时采用均流组件可省去进液管直接进液，亦可避免进液压力过大导致的溅射，阻挡循环带入槽体的大颗粒杂质或反应物。

【技术实现步骤摘要】
一种提高溶液均匀性的清洗槽结构
本技术涉及太阳能工艺设备领域，特别是涉及一种提高溶液均匀性的清洗槽结构。
技术介绍
随着太阳能光伏行业的发展，晶体硅电池发展的趋势是低成本、高效率、大产量。其中高效率意味着，对设备清洗槽的清洗能力要求越来越高，这种要求主要体现在清洗槽的循环、溢流均匀性及鼓泡功能上。现有设备，大多还是沿用以前清洗槽的结构，并未随着行业的发展做出相应的升级。
技术实现思路
本技术为了解决上述现有技术中溶液均匀性不好的技术问题，提出一种提高溶液均匀性的清洗槽结构。本技术采用的技术方案是：本技术提出了一种提高溶液均匀性的清洗槽结构，包括主槽体，还包括围绕主槽体设置收集从主槽体溢流的溶液的副槽体，将溶液从副槽体抽取输送至主槽体底部的循环进口的循环设备，位于循环进口上方使溶液均匀上升的均流组件。进一步的，所述均流组件包括至少一块带多个均流孔的均流板。所述均流板上的均流孔正对待清洗物料的位置设置。优选地，所述均流组件包括从上至下依次设置的第一均流板和第二均流板，所述第一均流板上第一均流孔的孔径小于第二均流板上第二均流孔的孔径。进一步的，所述第一均流板和第二均流板间隔平行设置，所述第一均流板与第二均流板之间形成溶液混合缓冲区。进一步的，所述均流组件的上方设有鼓泡组件。优选地，所述鼓泡组件包括至少一组连接吹气设备的鼓泡管，所述鼓泡管上设有多个出气孔。优选地，多根所述鼓泡管平行间隔排布通过U形接头连接形成相互连通的一组，且平行排布的方向和出气孔的出气方向与溶液的向上流动方向垂直。在一实施例中，所述鼓泡管的两端与吹气设备连接进气。在另一实施例中，所述鼓泡管的两端相连，且开设所述出气孔的侧面设有与吹气设备连接的接口。与现有技术比较，本技术通过循环设备将溶液从副槽体抽取输送至主槽体底部进行循环，并通过设置均流组件使送入主槽体的溶液上升时保持均匀，且整个液面都会平稳的上升，保证循环时的均匀性，同时采用均流组件可省去进液管直接进液，亦可避免进液压力过大导致的溅射，阻挡循环带入槽体的大颗粒杂质或反应物。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术实施例中的正视图；图2为本技术实施例中的侧视图；图3为本技术实施例中的俯视图；图4为本技术溢流口第一个实施例中的结构图；图5为图4中的局部放大图；图6为本技术溢流口第二个实施例中的结构图；图7为本技术溢流口第三个实施例中的结构图；图8为本技术鼓泡组件第一个实施例中的结构图；图9为本技术鼓泡组件第二个实施例中的结构图；图10为本技术鼓泡组件第三个实施例中的结构图；图11为本技术实施例中支撑板与挂槽板配合的结构图；图12为本技术实施例中的挂槽板的结构图；图13为本技术另一实施例中溶液流动状态的侧视图。具体实施方式为了使本技术所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者间接在该另一个元件上。当一个元件被称为是“连接于”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或间接连接至该另一个元件上。在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。下面结合附图以及实施例对本技术的原理及结构进行详细说明。如图1至3所示，本技术提出了一种提高溶液均匀性的清洗槽结构，包括主槽体1、副槽体2、循环设备和均流组件3，主槽体1呈方形，副槽体2围绕主槽体1的四周设置，与主槽体1共用槽壁，用于收集从主槽体1溢流出来的溶液，溶液可从主槽体1的四周向副槽体2内溢流，均匀溶液，且副槽体2的底部设有循环吸口23，主槽体1的底部设有两个循环进口11，通过循环设备将溶液从副槽体2抽取输送至主槽体1底部进行循环，均流组件3位于循环进口上方，使送入主槽体的溶液上升时保持均匀，且整个液面都会平稳的上升，保证循环时的均匀性，同时采用均流组件可省去进液管直接进液，亦可避免进液压力过大导致的溅射，阻挡循环带入槽体的大颗粒杂质或反应物。循环设备为循环泵，分别连接副槽体的底部的循环吸口23和主槽体底部的循环进口11。均流组件3具体包括：至少一块均流板，均流板横向设置与溶液朝上的流动方向垂直，可对溶液进行阻挡，同时均流板上设有多个呈阵列排布的均流孔用于通过溶液，均流孔直径D的优选范围为：∅1mm≤D≤∅5mm，具体的可依据开孔率＜1（开孔率为出液截面积之和/总进液口截面积）的原则，均匀排布均流孔，使溶液均匀向上流动。且均流孔正对待清洗物的位置设置，其他位置铺设实心板，在保证溶液均匀向上流动的同时，同时保证溶液流动集中在被清洗物区域。如图13所示，在具体的实施例中，均流板共两块，包括从上至下依次设置的第一均流板31和第二均流板32，第一均流板31和第二均流板32平行间隔设置，使第一均流板31与第二均流板32之间形成溶液混合缓冲区8，进一步提高溶液的均匀性，且第二均流板32上的均流孔大于第一均流板31上的均流孔。且均流板还可设置其他数目，且从下往上均流板上的均流孔依次缩小，保证混合的均匀性。如图8至10所示，本技术还包括鼓泡组件，鼓泡组件设置在均流组件3的上方，避免了鼓出的气泡被匀流板的无孔区遮挡，使气泡不能浮出液面，影响鼓泡效果，其具体包括：吹气设备和至少一组连接吹气设备的鼓泡管4，每组鼓泡管由多根鼓泡管4平行间隔排布再通过U形接头连接组成一个相互连通的整体，且平行排布的方向和出气孔的出气方向与溶液的向上流动方向垂直，出气孔具本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种提高溶液均匀性的清洗槽结构，包括主槽体（1），其特征在于，还包括围绕主槽体（1）设置收集从主槽体溢流的溶液的副槽体（2），将溶液从副槽体抽取输送至主槽体底部的循环进口的循环设备，位于循环进口上方使溶液均匀上升的均流组件（3）。/n

【技术特征摘要】
1.一种提高溶液均匀性的清洗槽结构，包括主槽体（1），其特征在于，还包括围绕主槽体（1）设置收集从主槽体溢流的溶液的副槽体（2），将溶液从副槽体抽取输送至主槽体底部的循环进口的循环设备，位于循环进口上方使溶液均匀上升的均流组件（3）。


2.如权利要求1所述的提高溶液均匀性的清洗槽结构，其特征在于，所述均流组件（3）包括至少一块带多个均流孔的均流板。


3.如权利要求2所述的提高溶液均匀性的清洗槽结构，其特征在于，所述均流板上的均流孔正对待清洗物料的位置设置。


4.如权利要求2所述的提高溶液均匀性的清洗槽结构，其特征在于，所述均流组件（3）包括从上至下依次设置的第一均流板（31）和第二均流板（32），所述第一均流板（31）上第一均流孔的孔径小于第二均流板（32）上第二均流孔的孔径。


5.如权利要求4所述的提高溶液均匀性的清洗槽结构，其特征在于，所述第一均流板（31）和第二均流板（...

【专利技术属性】
技术研发人员：左国军，陈雷，任金枝，李雄朋，成旭，申斌，谈丽文，邱瑞，
申请(专利权)人：常州捷佳创精密机械有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32