一种电学层析成像（简称ET）两相流测量系统技术方案

本发明专利技术公开了一种电学层析成像（简称ET）两相流测量系统，适用于两相流媒质中液体媒质特征实时变动的输送工况。系统包括ET传感器、附加参考点测量装置、信号发生与数据采集处理系统。附加参考点传感器与ET传感器置于同一输送管道体系，其功能为实时测量两相流媒质中稀相液体媒质的特征值，为ET提供参考依据，通过判断ET传感器敏感场特征值分布，实时抵消参考点媒质的特征值，得出两相媒质的分布；其中电阻层析成像敏感场特征值为电导率，电容层析成像敏感场特征值为电容。附加参考点测量装置的设置借助构成两相流不同物质因比重差引起沉降导致自然重力分离的分布状况确定。适用于水力输送固体物质和水力输送油类物质的工业领域。

【技术实现步骤摘要】
一种电学层析成像（简称ET）两相流测量系统
本专利技术涉及电学层析成像（简称ET）两相流测量领域，特别是涉及两相流媒质中液体媒质特征实时变化的工况条件。
技术介绍
在现代工业及工程中，利用水力通过管道输送固体物质、油类物质的方式得到广泛应用。输送过程需要实时测量两相流体中各相体积占比、反应各相在测量横截面的分布情况，指导输送及施工操作，改善输送工艺，提升输送效率，降低生产成本。工业及工程应用中，近年来电学层析成像（简称ET）两相流测量技术以其无辐射、测量面积与管道横截面面积占比大，可实现各相体积占比测量外，亦可提供横截面上两相流分布信息而得到很大发展。对已有公开专利进行检索，有多项此方面的专利。如中国专利公告号CN108007500A，名称为“电阻层析浓度与速度测量传感器系统”，对多相流浓度测量和速度测量做了说明。中国专利公告号CN103235013B，名称为“非接触式一体化电容/电阻双模态层析成像测量装置与方法”公开了一种层析多相流测量分析技术。中国专利公告号CN1344929A，名称为“用于气/液两相管流监测的电阻层析成像仪及监测方本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电学层析成像（简称ET）两相流测量系统，涵盖电阻层析成像（简称ERT）两相流测量系统和电容层析成像（简称ECT）两相流测量系统，其特征在于包括：附加参考点测量装置；电学层析成像（简称ET）两相流测量系统传感器、信号发生与数据采集处理系统。/n

【技术特征摘要】
1.一种电学层析成像（简称ET）两相流测量系统，涵盖电阻层析成像（简称ERT）两相流测量系统和电容层析成像（简称ECT）两相流测量系统，其特征在于包括：附加参考点测量装置；电学层析成像（简称ET）两相流测量系统传感器、信号发生与数据采集处理系统。


2.根据权利要求1所述的一种电学层析成像（简称ET）两相流测量系统，其特征在于，在输送管道附加参考点测量装置；
附加参考点测量装置传感器与电学层析成像（简称ET）两相流测量系统传感器置于同一两相流体输送管道体系，快速检测参考点处的稀相液体媒质的特征变化，该测量数据代表电学层析成像（简称ET）两相流测量系统传感器所在管道液体媒质的特征，为电学层析成像（简称ET）测量系统提供参考依据；
电阻层析成像（简称ERT）测量系统通过判断其传感器测量段内处于敏感场中物体的电导率分布，实时抵消参考点测量的稀相液体电导率特征，得出两相媒质的分布状况，各相体积占比；电容层析成像（简称ECT）测量系统通过判断其传感器测量段内处于敏感场中物体的电容分布，实时抵消参考点测量的稀相液体电容特征，得出两相媒质的分布状况，各相体积占比。


3.根据权利要求2所述的一种电学层析成像（简称ET）两相流测量系统，其特征在于，附加参考点测量装置传感器的设置根据构成两相流各相...

【专利技术属性】
技术研发人员：章建军，李日新，曹福，李永生，金邦雄，赵六军，周游，邹运其，周继伟，
申请(专利权)人：武汉绿林系统科技有限责任公司，长江武汉航道工程局，
类型：发明
国别省市：湖北;42