【技术实现步骤摘要】
挠性机构
本专利技术与运动平台有关，特别是关于一种挠性机构，其可应用于短行程精密定位平台以提高运动的精度以及响应的速度。
技术介绍
随着半导体纳米尺寸技术的发展，具备高精度与高响应速度的设备，已成为半导体设备厂商持续技术研发的标的，而其中，被广泛作为检测设备构成单元的运动平台，虽可提供高速的运动速度，但因惯性作用，运动中的物品实难以在极短时间内停止在精确位置上，且一般来说，物品的运动速度越高，完全停止前的晃动的程度亦越大，相对所需的整定时间亦越长，不易快速定位于精确的位置上。现有技术为消除运动物品因惯性所致的整定不易，遂揭露有以挠性机构对位移后所产生的运动误差提供补偿，期以降低整定的时间并提高精度，是现有技术固可对运动物品提供运动位置误差的补偿，惟为确保挠性机构的自身精度，现有的挠性机构乃是使其用以提供挠性的各个构成部位，均是一体成型者，使得现有的挠性机构在制造上的难度增加，且在遇有局部挠性构成的弹性疲乏，而需进行维修时，现有的挠性机构因是为一体成型者，故仅能将整个机构予以拆除更换，徒使资源未能有效利用。
【技术保护点】
1.一种挠性机构，其特征在于：包含有：/n一基座；/n一第一座体，与该基座相隔开来，并于一第一轴向上相对该基座位移；/n多数第一挠性单元，桥设于该基座与该第一座体之间，各该第一挠性单元具有该第一轴向上的弹性；/n一横梁，设置该基座上，并与该第一座体相隔开来；/n一第二座体，滑设于该横梁上，并于一第二轴向上相对该横梁位移；以及/n多数第二挠性单元，桥设于该第一座体与该第二座体之间，各该第二挠性单元具有该第二轴向上的弹性。/n
【技术特征摘要】
1.一种挠性机构，其特征在于：包含有：
一基座；
一第一座体，与该基座相隔开来，并于一第一轴向上相对该基座位移；
多数第一挠性单元，桥设于该基座与该第一座体之间，各该第一挠性单元具有该第一轴向上的弹性；
一横梁，设置该基座上，并与该第一座体相隔开来；
一第二座体，滑设于该横梁上，并于一第二轴向上相对该横梁位移；以及
多数第二挠性单元，桥设于该第一座体与该第二座体之间，各该第二挠性单元具有该第二轴向上的弹性。
2.如权利要求1所述的挠性机构，其特征在于：该横梁具有一位于该基座上方的梁身，及二分别自该梁身两端延伸连接至该基座的连接部，使该第一座体介于该梁身及该基座之间。
3.如权利要求2所述的挠性机构，其特征在于：各该第一挠性单元分别具有一固定于该基座上的第一身部，一与该第一座体相接的第二身部与该第一身部相隔开来，一第一挠部与该第一身部及该第二身部连接。
4.如权利要求3所述的挠性机构，其特征在于：各该第二挠性单元分别具有一固定于该第一座体上的第三身部，一与该第二座体相接的第四身部与该第三身部相隔开来，一第二挠部与该第三身部及该第四身部连接。
5.如权利要求4所述的挠性机构，其特征...
【专利技术属性】
技术研发人员：李钧翔，范智凯，张宇荣，
申请(专利权)人：大银微系统股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71
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