一种等离子体约束装置及应用该约束装置的离子发生装置制造方法及图纸

技术编号:24962150 阅读:52 留言:0更新日期:2020-07-18 03:17
本实用新型专利技术提出了一种等离子体约束装置,包括引导件,所述的引导件为管形,引导件的侧壁内沿其轴向方向设有两个贯穿槽,两个贯穿槽关于引导件的中心对称设置,所述的观察槽内设有螺线管线圈,螺线管线圈通有电流,两个螺线管线圈取电流同向。

The utility model relates to a plasma confinement device and an ion generating device using the plasma confinement device

【技术实现步骤摘要】
一种等离子体约束装置及应用该约束装置的离子发生装置
本技术涉及一种等离子体约束装置及应用该约束装置的离子发生装置。
技术介绍
等离子体约束装置是一种用于引导和约束等离子体方向和速度的装置,在离子加速装置中起到至关重要的作用。
技术实现思路
针对
技术介绍
中指出的问题,本技术提出一种等离子体约束装置及应用该约束装置的离子发生装置,以得到更优质的离子束。本技术的技术方案是这样实现的:一种等离子体约束装置,包括引导件,所述的引导件为管形,引导件的侧壁内沿其轴向方向设有两个贯穿槽,两个贯穿槽关于引导件的中心对称设置,所述的观察槽内设有螺线管线圈,螺线管线圈通有电流,两个螺线管线圈取电流同向。本技术还进一步设置为,所述的螺线管线圈为超导体,或者普通金属导体,或者金属氧化物导体。本技术还进一步设置为,所述的引导件由绝缘材料制成。一种离子发生装置,包括发生室,发生室为内部中空设置,如上所述的等离子体约束装置设置在所述的发生室内,发生室的侧壁上设有出射口,发生室内设有由屏蔽材料围成的靶室,靶室的出射端与所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种等离子体约束装置,其特征在于:包括引导件,所述的引导件为管形,引导件的侧壁内沿其轴向方向设有两个贯穿槽,两个贯穿槽关于引导件的中心对称设置,所述的观察槽内设有螺线管线圈,螺线管线圈通有电流,两个螺线管线圈取电流同向。/n

【技术特征摘要】
1.一种等离子体约束装置,其特征在于:包括引导件,所述的引导件为管形,引导件的侧壁内沿其轴向方向设有两个贯穿槽,两个贯穿槽关于引导件的中心对称设置,所述的观察槽内设有螺线管线圈,螺线管线圈通有电流,两个螺线管线圈取电流同向。


2.根据权利要求1所述的一种等离子体约束装置,其特征在于:所述的螺线管线圈为超导体,或者普通金属导体,或者金属氧化物导体。


3.根据权利要求1所述的一种等离子体约束装置,其特征在于:所述的引导件由绝缘材料制成。


4.一种离子发生装置,其特征在于:包括发生室,发生室为内部中空设置,如权利要求1-3...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨兢伟
申请(专利权)人:广东太微加速器有限公司
类型:新型
国别省市:广东;44

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