一种金属离子对复合物包覆的量子点及其制备方法技术

涉及一种金属离子对复合物包覆的量子点及其制备方法。使用烷基复合物(X‑R)对量子点进行预处理，在量子点表面创造金属离子生长的位点，随后加入相应的金属盐，通过两相法进行金属离子对复合物的生长，反应一段时间后，得到金属离子对复合物包覆的量子点。与现有技术相比，所制备的金属离子对复合物包覆的量子点具有优异的光稳定性以及化学稳定性。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】一种金属离子对复合物包覆的量子点及其制备方法
本专利技术属于半导体纳米材料(量子点)制备
，尤其是涉及一种金属离子对复合物包覆的量子点及其制备方法。
技术介绍
量子点具有波长范围广、半峰宽窄、荧光量子效率高、电传输性能良好、成本低廉、处理工艺简单等优点，被广泛研究并应用于光电器件、显示照明、检测传感等领域，引起了广泛关注，是近年来国内外学者研究的热点。量子点对水和氧气极为敏感，容易受到周围环境的影响而发生荧光猝灭。此外，量子点的高稳定性是进行物性研究和开发器件应用的基础，如何提高量子点的稳定性是推广应用的首要问题。现阶段，提高量子点稳定性主要有以下几种方法：(1)二氧化硅包覆。Huang等(J.Am.Chem.Soc.2016,138,5749-5752)提出在“无水”环境中形成二氧化硅的方法，在量子点的甲苯溶液中，直接加入正硅酸甲酯，在水解形成二氧化硅的同时，快速消耗甲苯溶液中残留的水分，最大限度地降低了残留水分对钙钛矿量子点的破坏，所得到的钙钛矿量子点/SiO2复合物的光稳定性得到了极大的提升。(2)聚合物包覆。Zhou等(A本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种金属离子对复合物包覆量子点的方法，其特征在于，所述的金属离子对复合物包覆量子点的制备方法如下：/n步骤1)配置浓度为0.01-0.2mmol/mL的双十二烷基二甲基溴化铵-甲苯溶液，标记为A溶液，同时，配置浓度为0.01-0.2mmol/mL的九水硫化钠或乙基黄原酸钾-水溶液，标记为B溶液；配置浓度为0.01-0.2mmol/mL的磷酸二氢钾或磷酸二氢铵-水溶液，标记为C溶液；将A溶液与B溶液混合并超声0.5-2小时(体积比1:1)，高速离心后取上面的液体得到双十二烷基二甲基硫化物(S-DDA)-甲苯溶液，浓度为0.005-0.1mmol/mL，标记为D溶液；采取同样的方法，将A溶液与C溶...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】一种金属离子对复合物包覆量子点的方法，其特征在于，所述的金属离子对复合物包覆量子点的制备方法如下：
步骤1)配置浓度为0.01-0.2mmol/mL的双十二烷基二甲基溴化铵-甲苯溶液，标记为A溶液，同时，配置浓度为0.01-0.2mmol/mL的九水硫化钠或乙基黄原酸钾-水溶液，标记为B溶液；配置浓度为0.01-0.2mmol/mL的磷酸二氢钾或磷酸二氢铵-水溶液，标记为C溶液；将A溶液与B溶液混合并超声0.5-2小时(体积比1:1)，高速离心后取上面的液体得到双十二烷基二甲基硫化物(S-DDA)-甲苯溶液，浓度为0.005-0.1mmol/mL，标记为D溶液；采取同样的方法，将A溶液与C溶液混合，得到双十二烷基二甲基磷化物(P-DDA)甲苯溶液，浓度为0.005-0.1mmol/mL，标记为E溶液；
步骤2)取50-200μL步骤1所得的D溶液S-DDA或E溶液P-DDA加入量子点溶液(10-20mg/mL)，在25-70℃的范围内搅拌0.5-2小时；
步骤3)将0.01-0.4mol的金属盐加入2)中，在25-70℃的范围内搅拌1-4小时；
步骤4)将3)中的量子点溶液高速离心，去除未反应的金属盐，得到金属离子对复合物包覆的量子点。


根据权利要求1中所述的金属离子对复合物...

【专利技术属性】
技术研发人员：李良，李志春，孙桦，
申请(专利权)人：李良，李志春，孙桦，
类型：发明
国别省市：上海;31