一种低功耗半浮栅存储器及其制备方法技术

本发明专利技术属于半导体器件技术领域，具体为一种低功耗半浮栅存储器及其制备方法。本发明专利技术低功耗半浮栅存储器，包括：衬底；在衬底上的石墨烯栅极；部分覆盖石墨烯栅极的阻挡层；覆盖阻挡层的半浮栅；位于半浮栅上的半闭合隧穿层；异质结，其第一端位于半浮栅上，且与半闭合隧穿层平行邻接，其第二端覆盖半闭合隧穿层和异质结的第一端；石墨烯漏极和石墨烯源极，位于异质结的第二端上；其中，阻挡层、半浮栅、半闭合隧穿层、异质结的一端和第二端，依次为不同的二维材料。本发明专利技术可有效改善了器件的可靠性，加快数据写入速度，增加数据保持时间，进一步降低功耗。

【技术实现步骤摘要】
一种低功耗半浮栅存储器及其制备方法
本专利技术属于半导体器件
，具体涉及一种低功耗半浮栅存储器及其制备方法。
技术介绍
现今主流的存储技术分为两类：挥发性存储技术和非挥发性存储技术。对于挥发性存储技术，主要是静态随机存储器SRAM和动态随机存储器DRAM。挥发性存储器有着纳秒级的写入速度，然而其数据保持能力只有毫秒级，使得其只能用在缓存等有限的存储领域。对于非挥发性存储技术，比如闪存技术，其数据保持能力可以达到10年，然而相对缓慢的写入操作，极大地限制了其在高速缓存领域的应用。另一方面，二维材料，如过渡金属硫化物不仅有较高的迁移率，而且当其薄膜厚度减到单层，仍然保持着优异的电学特性，是应用于半导体器件的良好材料。此外，二维材料表面没有悬挂键并且有着丰富的能带体系，这使得其在能带工程设计电子器件领域有着天然的优势。没有悬挂键的特性使得其可以自由堆叠电子器件，丰富的能带体系使得其可以满足各种新型电子器件所需的能带结构。进一步，对于传统的场效应晶体管，电子的玻尔兹曼分布给功耗的降低设置了上限。负电容晶体管有望克服该热离子限制，构建超低功耗消费电子。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种能够改善器件可靠性、提高器件数据写入速度、增加器件数据保持时间、降低器件功耗的半浮栅存储器及其制备方法。本专利技术提供的低功耗半浮栅存储器，包括：衬底；石墨烯栅极，形成在所述衬底上；阻挡层，其为具有负电容特性的第一类二维材料，部分覆盖所述石墨烯栅极；半浮栅，其为第二类二维材料，形成在所述阻挡层上；半闭合隧穿层，其为具有负电容特性的第三类二维材料，位于所述半浮栅上；异质结，异质结的第一端位于所述半浮栅上，其为具有第一导电类型的第四类二维材料，且与所述半闭合隧穿层平行邻接；异质结的第二端，其为具有第二导电类型的第五类二维材料，覆盖所述半闭合隧穿层和所述异质结的第一端；石墨烯漏极和石墨烯源极，位于所述异质结的第二端上。本专利技术的低功耗半浮栅存储器中，优选为，所述第五类二维材料、所述第四类二维材料和所述第二类二维材料的能带构成阶梯层状能带。本专利技术的低功耗半浮栅存储器中，优选为，所述第三类二维材料、第二类二维材料和所述第一类二维材料的能带构成闪存势阱能带结构。本专利技术的低功耗半浮栅存储器中，优选为，所述第一类二维材料和/或所述第三类二维材料为CuInP2S6或者CuInP2S6/BN叠层。本专利技术的低功耗半浮栅存储器中，优选为，所述第二类二维材料是n型导电的HfS2或MoS2，或者是p型导电的WSe2或MoSe2。本专利技术的低功耗半浮栅存储器中，优选为，所述第四类二维材料为n型导电的HfS2或MoS2，或者是p型导电的WSe2或MoSe2；所述第五类二维材料材料为p型导电的WSe2或MoSe2，或者是n型导电的HfS2或MoS2。本专利技术还公开一种低功耗半浮栅存储器制备方法，包括以下步骤：提供衬底；将石墨烯转移至所述衬底上，作为栅极；将具有负电容特性的第一类二维材料转移至所述栅极上，使其部分覆盖所述栅极，作为阻挡层；将第二类二维材料转移至所述阻挡层上，作为半浮栅；将具有负电容特性的第三类二维材料转移至所述半浮栅上，作为半闭合隧穿层；将具有第一导电类型的第四类二维材料转移至所述半浮栅上，且与所述半闭合隧穿层平行邻接，作为异质结的第一端；将具有第二导电类型的第五类二维材料转移至所述异质结的第一端和所述半闭合隧穿层上，作为异质结的第二端；将石墨烯转移至所述异质结的第二端上，分别作为石墨烯漏极和石墨烯源极。本专利技术的低功耗半浮栅存储器制备方法中，优选地，所述转移方法为机械剥离法。本专利技术的低功耗半浮栅存储器制备方法中，优选地，所述第五类二维材料、所述第四类二维材料和所述第二类二维材料的能带构成阶梯层状能带。本专利技术的低功耗半浮栅存储器制备方法中，优选地，所述第三类二维材料、第二类二维材料和所述第一类二维材料的能带构成闪存势阱能带结构。本专利技术采用二维材料作为半浮栅晶体管的组成材料，利用其无悬挂键的优势，减小界面缺陷，有效改善了器件的可靠性。以二维材料构成高速开关的异质结，能够加快数据写入速度，同时也可以增加数据保持时间。另外，采用具有负电容特性的二维材料作为阻挡层和隧穿层，可以减小亚阈值摆幅，降低工作电压，从而进一步降低功耗。采用石墨烯作为栅极材料，可以利用其高电导率的优点，减小串联电阻，从而降低功耗。附图说明图1是低功耗半浮栅存储器的制备方法的流程图。图2是形成石墨烯栅极后的器件结构示意图。图3是形成阻挡层后的器件结构示意图。图4是形成半浮栅后的器件结构示意图。图5是形成半闭合隧穿层后的器件结构示意图。图6是形成异质结后的器件结构示意图。图7是低功耗半浮栅存储器的结构示意图。具体实施方式为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本专利技术保护的范围。在本专利技术的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“垂直”“水平”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。此外，在下文中描述了本专利技术的许多特定的细节，例如器件的结构、材料、尺寸、处理工艺和技术，以便更清楚地理解本专利技术。但正如本领域的技术人员能够理解的那样，可以不按照这些特定的细节来实现本专利技术。除非在下文中特别指出，器件中的各个部分可以由本领域的技术人员公知的材料构成，或者可以采用将来开发的具有类似功能的材料。图1是低功耗半浮栅存储器的制备方法的流程图。图2~7示出了低功耗半浮栅存储器的制备方法各步骤的结构示意图。以下结合附图1~7对本专利技术的具体实施方式做进一步的说明。如图1所示，具体制备步骤为：步骤S1，提供衬底；步骤S2，形成栅极，提供衬底200作为起始基底，衬底可以是表面覆盖绝缘介质的硅衬底，也可以是柔性绝缘衬底。在本实施方式中采用覆盖二氧化硅的硅衬底。然后，采用机械剥离的方法将石墨烯转移到衬底200上方，作为栅极201，所得结构如图2所示。采用石墨烯作为栅极材料，可以利用其高电导率的优点，减小串联电阻，从而降低功耗。步骤S3，形成阻挡层，采用机械剥离的方法将第一类二维材料转移到石墨烯栅极201表面，使第一类二维材料部分覆盖栅极201表面，作为阻挡层202，所得结构如图本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种低功耗半浮栅存储器，其特征在于，包括：/n衬底；/n石墨烯栅极，形成在所述衬底上；/n阻挡层，其为具有负电容特性的第一类二维材料，部分覆盖所述石墨烯栅极；/n半浮栅，其为第二类二维材料，覆盖所述阻挡层；/n半闭合隧穿层，其为具有负电容特性的第三类二维材料，位于所述半浮栅上；/n异质结，异质结的第一端位于所述半浮栅上，其为具有第一导电类型的第四类二维材料，且与所述半闭合隧穿层平行邻接；异质结的第二端，其为具有第二导电类型的第五类二维材料，覆盖所述半闭合隧穿层和所述异质结的第一端；/n石墨烯漏极和石墨烯源极，位于所述异质结的第二端上。/n

【技术特征摘要】
1.一种低功耗半浮栅存储器，其特征在于，包括：
衬底；
石墨烯栅极，形成在所述衬底上；
阻挡层，其为具有负电容特性的第一类二维材料，部分覆盖所述石墨烯栅极；
半浮栅，其为第二类二维材料，覆盖所述阻挡层；
半闭合隧穿层，其为具有负电容特性的第三类二维材料，位于所述半浮栅上；
异质结，异质结的第一端位于所述半浮栅上，其为具有第一导电类型的第四类二维材料，且与所述半闭合隧穿层平行邻接；异质结的第二端，其为具有第二导电类型的第五类二维材料，覆盖所述半闭合隧穿层和所述异质结的第一端；
石墨烯漏极和石墨烯源极，位于所述异质结的第二端上。


2.根据权利要求1所述的低功耗半浮栅存储器，其特征在于，所述第五类二维材料、所述第四类二维材料和所述第二类二维材料的能带构成阶梯层状能带结构。


3.根据权利要求1所述的低功耗半浮栅存储器，其特征在于，所述第三类二维材料、第二类二维材料和所述第一类二维材料的能带构成闪存势阱能带结构。


4.根据权利要求3所述的低功耗半浮栅存储器，其特征在于，所述第一类二维材料和/或所述第三类二维材料为CuInP2S6或者CuInP2S6/BN叠层。


5.根据权利要求4所述的低功耗半浮栅存储器，其特征在于，所述第二类二维材料是n型导电的HfS2或MoS2，或者是p型导电的WSe2或MoSe2。


6.根据权利要求5所述的低功耗半浮栅存储器，其特征在于，...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱宝，陈琳，孙清清，张卫，
申请(专利权)人：复旦大学，上海集成电路制造创新中心有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31