一种光学膜及其制备方法、光学膜的应用结构技术

本申请公开了一种光学膜及其制备方法、光学膜的应用结构，其中，用所述光学膜的制备方法制备的光学膜的涂层组中，第一涂层和第二涂层均为有机涂层，使得所述涂层组可以采用“卷到卷”生产工艺制备，有利于提高光学膜的制备效率、降低光学膜的整体制备难度和制备成本。且相较于无机涂层，有机涂层可以通过配方和工艺调整精确灵活地设定其厚度和/或折射率，以实现对任意波段的光线进行反射或透射，从而可以使得所述光学膜具备炫彩、防伪、增强反射和减反增透中的任意一项或多项功能，大大扩宽了光学膜的应用场景。

【技术实现步骤摘要】
一种光学膜及其制备方法、光学膜的应用结构
本申请涉及光学膜制备
，更具体地说，涉及一种光学膜及其制备方法、光学膜的应用结构。
技术介绍
光学膜，又称光学薄膜，是由薄的分层介质构成的，通过界面传播光束的一类光学介质材料。目前，光学膜已广泛用于光学和光电子
通常情况下，光学膜的种类包括炫彩膜、防伪膜、增强反射膜和减反增透膜等，这些种类的光学膜通常由多层介质膜以层叠的方式构成。现有技术中的光学膜的制备工艺通常包括多层挤压工艺和真空镀膜工艺，多层挤压工艺制备的多层共挤膜生产过程复杂，对生产工艺要求较高，面对市场多样化的需求，难以灵活调整以满足不同的应用需求；真空镀膜工艺主要是将两种或两种以上具有不同折射率的无机材料靶材分别通过真空镀膜(如真空蒸镀或磁控溅射等)的方法在基底上依次堆积成膜后形成多层层叠的膜层。这种工艺所生产的光学膜附着力强，但是这种生产工艺成膜速度很慢，因此导致生产光学膜的周期长、生产效率低、生产成本高等。
技术实现思路
为解决上述技术问题，本申请提供了一种光学膜及其制备方法、光学膜的应用结构，以实现提高光学膜的生产效率、缩短光学膜的生产周期以及降低光学膜的生产成本的目的。为实现上述技术目的，本申请实施例提供了如下技术方案：一种光学膜的制备方法，包括：采用“卷到卷”生产工艺在基材表面形成涂层组，所述涂层组包括N层第一涂层和M层第二涂层，所述第一涂层和第二涂层交替层叠设置；M和N均为大于或等于1的整数；所述第一涂层和所述第二涂层均为有机涂层，所述第一涂层的折射率大于所述第二涂层的折射率。可选的，所述在基材表面形成涂层组包括：利用第一有机材料，采用“卷到卷”生产工艺制备所述第一涂层；利用第二有机材料，采用“卷到卷”生产工艺制备所述第二涂层。可选的，所述“卷到卷”生产工艺包括：湿法涂布工艺或干法真空镀膜工艺。可选的，所述湿法涂布工艺包括精密线棒涂布工艺、微凹辊涂布工艺或狭缝挤出涂布工艺；所述干法真空镀膜工艺包括真空蒸镀工艺。可选的，所述第一有机材料包括：引入含有芳基或取代芳基结构单元的第一预设有机高分子材料或混入表面改性纳米颗粒的第一预设有机高分子材料，所述表面改性纳米颗粒的折射率大于或等于预设值。可选的，所述第二有机材料包括：引入含氟结构单元的第二预设有机高分子材料，或经过多孔处理工艺进行处理的所述第二预设有机高分子材料。可选的，所述对所述有机涂层进行多孔处理工艺，以获得所述第二涂层包括：对所述有机涂层进行模板技术、纳米刻蚀技术、纳米印迹技术、溶剂挥发诱导技术或自组装技术处理，以获得具有通孔和/或凹槽和/或发泡结构的有机涂层作为所述第二涂层。一种光学膜，包括：基材；位于所述基材表面的涂层组，所述涂层组包括N层第一涂层和M层第二涂层，所述第一涂层和第二涂层交替层叠设置；M和N均为大于或等于1的整数；所述第一涂层和所述第二涂层均为有机涂层，所述第一涂层的折射率大于所述第二涂层的折射率。可选的，所述第一涂层的折射率与所述第二涂层的折射率的差值的取值范围为0.04-0.6。可选的，所述第一涂层和第二涂层的光学厚度的数量级为预设波长的四分之一。可选的，所述第一涂层和第二涂层中还掺杂有染料或其他功能性填料。一种光学膜的应用结构，包括：待贴附结构；作为所述待贴附结构的装饰层和/或功能层的至少一层光学膜，所述光学膜为上述任一项所述的光学膜。从上述技术方案可以看出，本申请实施例提供了一种光学膜及其制备方法、光学膜的应用结构，其中，所述光学膜的制备方法制备的光学膜的涂层组中，第一涂层和第二涂层均为有机涂层，使得所述涂层组可以采用“卷到卷”生产工艺制备，有利于提高光学膜的制备效率、降低光学膜的整体制备难度和制备成本。且相较于无机涂层，采用“卷到卷”生产工艺形成的有机涂层可以通过配方和工艺调整精准灵活地调节其厚度和/或折射率以实现对任意波段的光线进行反射或透射，从而可以使得所述光学膜具备炫彩、防伪、增强反射和减反增透中的任意一项或多项功能，大大扩宽了光学膜的应用场景。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。图1为本申请的一个实施例提供的一种光学膜的剖面结构示意图；图2为本申请的另一个实施例提供的一种光学膜的剖面结构示意图；图3为本申请的又一个实施例提供的一种光学膜的剖面结构示意图；图4为本申请的再一个实施例提供的一种光学膜的剖面结构示意图。具体实施方式下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。正如
技术介绍
所述，现有技术中的光学膜或在机械性能方面存在缺陷，或生产效率较低、生产成本较高。具体地，下面以两种现有技术中的光学膜结构进行说明。一、纳米多层共挤膜：该结构的光学膜利用纳米层压技术将几百层具有不同厚度和折射率的PET交替层压成膜，利用光线的干涉原理呈现不同的反射色彩和金属光泽，并且色彩具有视角依赖的变化特性。该薄膜具有出色的成型性、耐热性、抗化学药品性和可打印性等特点，进而可实现与玻璃和树脂的层压加工以及与多种树脂的一体成型加工。但该产品对生产工艺要求较高，生产过程复杂，面对多样化的市场，难以进行灵活调整以满足不同的应用需求。二、真空镀无机膜这种工艺主要是将两种或两种以上具有不同折射率的无机材料靶材分别通过真空镀膜(如真空蒸镀或磁控溅射等)的方法在基底上依次堆积成膜后形成多层层叠的光学膜。这种工艺所生产的光学膜附着力强，但是这种生产工艺成膜速度很慢，因此导致生产光学膜的周期长、生产效率低、生产成本高等。另外真空镀膜多采用无机材料，成膜后的柔韧性较有机涂层差，影响光学膜的机械加工性能。有鉴于此，本申请实施例提供了一种光学膜的制备方法，包括：采用“卷到卷”生产工艺在基材10表面形成涂层组20，所述涂层组20包括N层第一涂层21和M层第二涂层22，所述第一涂层21和第二涂层22交替层叠设置；M和N均为大于或等于1的整数；所述第一涂层21和所述第二涂层22均为有机涂层，所述第一涂层21的折射率大于所述第二涂层22的折射率。参考图1和图2，图1和图2为应用本申请实施例提供的光学膜的制备方法制备获得的光学膜的剖面结构示意图。在本实施例中，所述光学膜的制备方法制备的光学膜的涂层组20中，第一涂层21和第二涂层22均为有机涂层，使得所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学膜的制备方法，其特征在于，包括：/n采用“卷到卷”生产工艺在基材表面形成涂层组，所述涂层组包括N层第一涂层和M层第二涂层，所述第一涂层和第二涂层交替层叠设置；M和N均为大于或等于1的整数；/n所述第一涂层和所述第二涂层均为有机涂层，所述第一涂层的折射率大于所述第二涂层的折射率。/n

【技术特征摘要】
1.一种光学膜的制备方法，其特征在于，包括：
采用“卷到卷”生产工艺在基材表面形成涂层组，所述涂层组包括N层第一涂层和M层第二涂层，所述第一涂层和第二涂层交替层叠设置；M和N均为大于或等于1的整数；
所述第一涂层和所述第二涂层均为有机涂层，所述第一涂层的折射率大于所述第二涂层的折射率。


2.根据权利要求1所述的光学膜的制备方法，其特征在于，所述在基材表面形成涂层组包括：
利用第一有机材料，采用“卷到卷”生产工艺制备所述第一涂层；
利用第二有机材料，采用“卷到卷”生产工艺制备所述第二涂层。


3.根据权利要求2所述的光学膜的制备方法，其特征在于，所述“卷到卷”生产工艺包括：湿法涂布工艺或干法真空镀膜工艺。


4.根据权利要求3所述的光学膜的制备方法，其特征在于，所述湿法涂布工艺包括精密线棒涂布工艺、微凹辊涂布工艺或狭缝挤出涂布工艺；
所述干法真空镀膜工艺包括真空蒸镀工艺。


5.根据权利要求2所述的光学膜的制备方法，其特征在于，所述第一有机材料包括：引入含有芳基或取代芳基结构单元的第一预设有机高分子材料或混入表面改性纳米颗粒的第一预设有机高分子材料，所述表面改性纳米颗粒的折射率大于或等于预设值。


6.根据权利要求2所述的光学膜的制备方法，其特征在于，所述第二有机材料包括：引入含氟结构单元的第二预设有机高分子材料，或经...

【专利技术属性】
技术研发人员：滕超，李士锋，王国伟，
申请(专利权)人：六安屹珹新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34