一种低氧恒湿储藏装置及其储藏方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种低氧恒湿装置，包括：气密围护，其中所述气密围护的体积小于20m

【技术实现步骤摘要】
一种低氧恒湿储藏装置及其储藏方法
本专利技术涉及一种高密封环境气调保护技术(ControlledAtmospheretechnologyofHighSealedenvironment，CAHS)，特别地涉及一种低氧恒湿储藏装置及其储藏方法。
技术介绍
文物、古书籍等藏品的储藏对环境的氧含量和湿度具有较高的要求。目前，由于储藏环境得不到有效的控制，一些藏品已经出现了不同程度的发霉、老化等现象。现有技术中的一致观点认为，只有使用主动式低氧恒湿气调技术才能使储藏空间内的气体长期处在低氧和恒湿状态，有效减少藏品的发霉和氧化，实现藏品的长期储藏。然而，主动控湿相对较高的成本造成了推广应用的困难。因此，如何为大量的藏品提供一个更为经济和便捷的储藏环境是本领域中一个需要解决的问题。
技术实现思路
针对现有技术中存在的技术问题，本专利技术提出了一种低氧恒湿储藏装置，包括：气密围护，其中所述气密围护的体积小于20m3；除氧剂；其经配置以调整和维持所述气密围护内的氧含量；以及控湿剂和/或干燥剂，其经配置以调整和维持所述气密围护内湿度；其中，所述除氧剂和控湿剂和/或干燥剂的用量至少部分基于所述气密围护的体积和密封性。如上所述的低氧恒湿储藏装置，其中所述气密围护的体积为小于10m3，小于5m3，或者小于3m3。如上所述的低氧恒湿储藏装置，其中所述气密围护的换气率小于0.05d-1，或者小于0.02d-1。如上所述的低氧恒湿储藏装置，其中所述气密围护的氧含量的范围为小于2％；小于1％；小于0.5％；或者小于等于0.1％，并且将气密围护内的氧含量维持在所述的氧含量范围10天以上、20天以上、50天以上、100天以上或200天以上。如上所述的低氧恒湿储藏装置，其中所述除氧剂为铁系除氧剂或有机系类型除氧剂。如上所述的低氧恒湿储藏装置，所述除氧剂的用量根据以下公式计算：M1＝A1·A2·V·(C1-C2)/Q+V·N·D·21％/Q其中，M1为除氧剂用量；A1为气密围护结构影响系数；A2为储藏物品系数；V为气调空间的容积；C1为气调空间内起始氧含量；C2为气调空间内需求氧含量；Q为除氧剂吸氧量；N为气密围护结构的换气率，D为需要低氧储藏的时间。如上所述的低氧恒湿储藏装置，其中所述控湿剂和/或干燥剂将所述气密围护内相对湿度控制在目标相对湿度；其中，在10天以上、20天以上、50天以上、100天以上或200天以上的时间内所述气密围护内的相对湿度与所述目标相对湿度之间的差异小于5％，或者小于3％。如上所述的低氧恒湿储藏装置，其中所述目标湿度的范围为20～25℃条件下相对湿度30％-80％。如上所述的低氧恒湿储藏装置，其中所述控湿剂和/或干燥剂用量满足如下公式：M2＝A3·K·V·(Rlim-R2)·S/P；其中，M2为控湿剂和/或干燥剂的用量，A3为标准密封状态下该控湿剂和/或干燥剂的单位容积内的用量参考值，K为湿度参数，V为气密围护的体积，R2为目标相对湿度，Rlim为环境极限湿度，S为同温度下的饱和湿度，P为控湿剂和/或干燥剂的吸水率。如上所述的低氧恒湿储藏装置，其中所述控湿剂和/或干燥剂的用量根据以下公式计算：M2＝P1M1/P+A3·K·V(Rlim-R2)·S/P其中，M2为控湿剂和/或干燥剂用量；M1为除氧剂用量；P1为除氧剂的放湿量；P为控湿剂和/或干燥剂的吸水率；A3为标准密封状态下单位容积内控湿剂和/或干燥剂的用量参考值；K为湿度参数；V为气密空间的体积；Rlim为极限相对湿度；R2为目标相对湿度；S为同温度下的饱和湿度。如上所述的低氧恒湿储藏装置，其中所述控湿剂纤维型控湿剂或硅胶控湿剂。如上所述的低氧恒湿储藏装置，其中所述气密围护为刚性储藏柜或展柜。根据本专利技术的另一个方面，提出一种如上任一所述低氧恒湿储藏装置的储藏方法，包括：布置待处理的物品，并且在所述待处理物品之间保留间隔；均匀摆放控湿剂和/或干燥剂；在摆放所述控湿剂和/或干燥剂之后，再均匀摆放除氧剂；以及在摆放所述除氧剂之后，立即密封所述低氧恒湿装置。如上所述的低氧恒湿储藏方法，进一步包括：检查或检测所述低氧恒湿储藏装置的气密性。如上所述的低氧恒湿储藏方法，进一步包括：响应于打开所述低氧恒湿储藏装置，将所述除氧剂和控湿剂和/或干燥剂全部取出并更换；以及，再重新密封所述低氧恒湿装置。本专利技术的低氧恒湿储藏装置及储藏方法，不包括主动降氧控湿装置，无需任何换气设备就能够将储藏柜内的气密空间中的氧浓度和湿度保持恒定。附图说明下面，将结合附图对本专利技术的优选实施方式进行进一步详细的说明，其中：图1是根据本专利技术一个实施例的低氧恒湿储藏装置的结构示意图；图2是根据本专利技术一个实施例的低氧恒湿储藏装置内氧含量变化示意图；以及图3是根据本专利技术一个实施例的低氧恒湿储藏装置内的湿度变化示意图。具体实施方式为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。在以下的详细描述中，可以参看作为本申请一部分用来说明本申请的特定实施例的各个说明书附图。在附图中，相似的附图标记在不同图式中描述大体上类似的组件。本申请的各个特定实施例在以下进行了足够详细的描述，使得具备本领域相关知识和技术的普通技术人员能够实施本申请的技术方案。应当理解，还可以利用其它实施例或者对本申请的实施例进行结构、逻辑或者电性的改变。本专利技术涉及一种低氧恒湿储藏装置，其具有非常高的气密性，以保证储藏装置的内部储藏空间与外界高度隔离，尽量避免外界氧气和湿度变化产生的影响。在此基础上，本专利技术的恒湿储藏装置采用被动的氧含量和湿度调控方式，即通过内部储藏空间的除氧剂和控湿剂和/或干燥剂来保证储藏空间内的低氧状态和恒定湿度。图1是根据本专利技术一个实施例的低氧恒湿储藏装置的示意图。如图1所示，本实施例的储藏装置为刚性储藏柜，包括：柜体101和柜门102。柜体101和柜门102形成一个气密围护。该气密围护的体积为小于20m3，或者小于10m3，或者小于5m3，优选为小于3m3。在一些实施例中，该气密围护的换气率为0.1d-1，优选为小于0.05d-1，最优为小于0.02d-1，其中，以换气率表征气密围护的密封性，定义为每天气密围护内气体置换的比例。例如，换气率为0.1d-1的含义即为每天气密围护内10％的气体被外界气体替换。在一些实施例中，刚性储藏柜还包括安全保护装置103，以保证气密围护内的压力稳定。在一些实施例中，刚性储藏柜还包括保温层，以保持气密围护内的温度受外界的影响较小。在一些实施例中，不需要物理保护的情况下，气密围护也可以是柔性的。对于藏品而言，需要在一个长的时本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种低氧恒湿储藏装置，包括：/n气密围护，其中所述气密围护的体积小于20m

【技术特征摘要】
1.一种低氧恒湿储藏装置，包括：
气密围护，其中所述气密围护的体积小于20m3；
除氧剂；其经配置以调整和维持所述气密围护内的氧含量；以及
控湿剂和/或干燥剂，其经配置以调整和维持所述气密围护内湿度；
其中，所述除氧剂和控湿剂和/或干燥剂的用量至少部分基于所述气密围护的体积和密封性。


2.如权利要求1所述的低氧恒湿储藏装置，其中所述气密围护的体积为小于10m3，小于5m3，或者小于3m3。


3.如权利要求1所述的低氧恒湿储藏装置，其中所述气密围护的换气率小于0.05d-1，或者小于0.02d-1。


4.如权利要求1所述的低氧恒湿储藏装置，其中所述气密围护的氧含量的范围为小于2％；小于1％；小于0.5％；或者小于等于0.1％，并且将气密围护内的氧含量维持在所述的氧含量范围5天以上，10天以上、20天以上、50天以上、100天以上或200天以上。


5.根据权利要求4所述的低氧恒湿储藏装置，其中所述除氧剂为铁系除氧剂或有机系类型除氧剂。


6.根据权利要求4所述的低氧恒湿储藏装置，所述除氧剂的用量根据以下公式计算：
M1＝A1·A2·V·(C1-C2)/Q+V·N·D·21％/Q
其中，M1为除氧剂用量；A1为气密围护结构影响系数；A2为储藏物品系数；V为气调空间的容积；C1为气调空间内起始氧含量；C2为气调空间内需求氧含量；Q为除氧剂吸氧量；N为气密围护结构的换气率，D为需要低氧储藏的时间。


7.如权利要求1所述的低氧恒湿储藏装置，其中所述控湿剂和/或干燥剂将所述气密围护内相对湿度控制在目标相对湿度；其中，在10天以上、20天以上、50天以上、100天以上或200天以上的时间内所述气密围护内的相对湿度与所述目标相对湿度之间的差异小于5％，或者小于3％。


8.如权利要求7所述的低氧恒湿储藏装置，其中所述目标湿度的范围为20...

【专利技术属性】
技术研发人员：不公告发明人，
申请(专利权)人：天津森罗科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：天津;12