阵列基板以及显示面板制造技术

本发明专利技术提供一种阵列基板以及显示面板，该阵列基板包括衬底、第一栅极层、栅极绝缘层、第二栅极层，其中：所述第一栅极层图案化形成扫描信号线和第一电极板，所述第二栅极图案化形成复位走线和第二电极板，所述栅极绝缘层由一层或至少两层的无机层沉积而成，所述栅极层在所述第一电极板的对应位置设置有凹槽，所述第二电极板设置于所述凹槽中；由于无机层干蚀刻选择比较大，所述栅极绝缘层能在覆盖第一栅极层时实现较好的平坦化，从而缓解第二栅极层在刻蚀时在第一栅极层的边缘存在金属残留的问题，同时由于栅极绝缘层设置有凹槽，所述第二电极板设置在凹槽中，可以保证第一栅极和第二栅极间的电容不变。

【技术实现步骤摘要】
阵列基板以及显示面板
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种阵列基板以及显示面板。
技术介绍
当前阵列基板的第一栅极层在图案化处理后，会形成较陡的边缘，致使栅极绝缘层在覆盖第一栅极层时无法实现平坦化，从而导致第二栅极层刻蚀时，在第一栅极层的边缘存在金属残留；但如果加大栅极绝缘层厚度使其实现平坦化，又会导致第一栅极层和第二栅极层之间电容减少。即当前阵列基板存在问题，需要改进。
技术实现思路
本专利技术提供一种阵列基板以及显示面板，以缓解当前阵列基板存在金属蚀刻后栅极间金属残留和栅极间电容减少的问题。为解决上述问题，本专利技术提供的技术方案如下：本专利技术提供一种阵列基板，其包括：衬底；第一栅极层，设置于衬底之上，图案化形成扫描信号线和第一电极板；栅极绝缘层，设置于所述第一栅极层和所述衬底之上，且覆盖所述第一栅极层；第二栅极层，设置于栅极绝缘层之上，所述第二栅极层图案化形成复位走线和第二电极板；其中，所述栅极绝缘层在所述第一电极板的对应位置设置有凹槽，所述第二电极本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括：/n衬底；/n第一栅极层，设置于衬底之上，图案化形成扫描信号线和第一电极板；/n栅极绝缘层，设置于所述第一栅极层和所述衬底之上，且覆盖所述第一栅极层；/n第二栅极层，设置于所述栅极绝缘层之上，所述第二栅极层图案化形成复位走线和第二电极板；/n其中，所述栅极绝缘层在所述第一电极板的对应位置设置有凹槽，所述第二电极板设置于所述凹槽内。/n

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括：
衬底；
第一栅极层，设置于衬底之上，图案化形成扫描信号线和第一电极板；
栅极绝缘层，设置于所述第一栅极层和所述衬底之上，且覆盖所述第一栅极层；
第二栅极层，设置于所述栅极绝缘层之上，所述第二栅极层图案化形成复位走线和第二电极板；
其中，所述栅极绝缘层在所述第一电极板的对应位置设置有凹槽，所述第二电极板设置于所述凹槽内。


2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述栅极绝缘层由至少两层无机层沉积而成。


3.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述栅极绝缘层由两层无机层构成，所述两层栅极绝缘层为第一无机层和第二无机层，所述第二无机层设置在第一无机层远离衬底的一侧。


4.如权利要求3所述的阵列基板，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨薇薇，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42