一种硅片加工废水的处理方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种硅片碱蚀液冲洗废水的回收工艺及方法，更具体地是涉及一种含有氢氧化钾、硅酸钾、有机物的碱液的净化工艺，属于三废处理技术领域。包括固液分离膜过滤系统、纳滤膜过滤系统。所述的固液分离膜过滤系统位于纳滤膜过滤系统的前端。固液分离膜过滤系统包括但不局限于陶瓷固液分离膜、管式固液分离膜、板式固液分离膜以及中空纤维膜等。所述的纳滤膜过滤系统包括但不局限于卷式纳滤膜。其中纳滤膜设置两级。膜过滤系统设置若干个阀门用于调整系统的操作压力、进出水流量以及固液分离膜的反冲洗、化学清洗等。本发明专利技术具有过滤效果好、自动化程度高、适应性强、占地面积小等优点，因此本发明专利技术特别适用于硅片碱蚀液冲洗废水的回收。

【技术实现步骤摘要】
一种硅片加工废水的处理方法及装置
本专利技术涉及一种硅片碱蚀液冲洗废水的回收工艺及方法，更具体地是涉及一种含有氢氧化钾、硅酸钾、硅粉、有机物的硅片碱蚀液冲洗废水处理工艺，属于水、废水、污水或污泥的处理

技术介绍
单晶和多晶硅片生产过程中，需要对晶棒进行切割成需要的硅片。硅片经过切割后，需标识、倒角、抛光。在硅片能进行抛光前，切片损伤必须被清除，接下来，硅片需要腐蚀，以去除磨片造成的损伤。磨片是使用研磨砂来清除硅片表面的材料和前一步骤留下的损伤。在磨片过程中，硅片两面会被同时研磨，一定量的材料将被从两面磨去。磨片的主要目的是将硅片的切片微损伤去除。磨片主要在磨盘上进行，磨盘是带齿轮的，齿轮有利于磨液的均匀分配，防止磨盘被淹没，并保持硅片紧贴表面。齿轮还能使磨液在硅片表面流动并均匀分配。磨片之后，硅片表面残留有许多磨片过程中产生的硅的颗粒，这种颗粒尺寸很小，这些小颗粒需要清除。硅片磨片之后，仍有一薄层损伤层，还需通过其它方法来清除磨片带来的损伤。通常通过化学腐蚀硅片表面的方法来清除这种损伤。腐蚀的方法有两种：碱腐蚀和酸腐蚀。相对于酸腐蚀，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种硅片加工废水的处理方法，其特征在于，所述的硅片加工废水是指硅片生产过程用于清除硅片磨片的损伤的碱液的冲洗液，包括如下步骤：/n第1步，对废水采用固液分离膜过滤处理，截留其中的颗粒杂质；/n第2步，对固液分离膜的透过液采用纳滤膜过滤处理，截留其中的多价盐；/n第3步，对纳滤膜的浓缩液加酸中和处理。/n

【技术特征摘要】
1.一种硅片加工废水的处理方法，其特征在于，所述的硅片加工废水是指硅片生产过程用于清除硅片磨片的损伤的碱液的冲洗液，包括如下步骤：
第1步，对废水采用固液分离膜过滤处理，截留其中的颗粒杂质；
第2步，对固液分离膜的透过液采用纳滤膜过滤处理，截留其中的多价盐；
第3步，对纳滤膜的浓缩液加酸中和处理。


2.根据权利要求1所述的硅片加工废水的处理方法，其特征在于，在一个实施方式中，硅片加工废水中含有浓度为6-7%的KOH、5000-20000mg/L的硅酸钾、CODcr50-500mg/L；在一个实施方式中，所述的第2步中纳滤处理是指两级纳滤处理，上一级的纳滤膜的浓缩液送入下一级进行过滤处理；在一个实施方式中，纳滤膜的透过液送入硅片碱蚀工序中回用。


3.根据权利要求1所述的硅片加工废水的处理方法，其特征在于，在一个实施方式中，在经过固液分离膜过滤之后，对硅片加工废水采用絮凝处理；在一个实施方式中，絮凝过程采用的絮凝剂主要是有机絮凝剂；在一个实施方式中，所述的有机絮凝剂选自聚丙烯酰胺、聚丙烯酸钠、聚氧乙烯、聚乙烯胺、聚乙烯磺酸盐等；在一个实施方式中，所述的絮凝剂的加入量是50-100ppm；在一个实施方式中，还加入絮凝成核剂；在一个实施方式中，所述的絮凝成核剂是阳离子型聚苯乙烯微球；在一个实施方式中，絮凝成核剂的用量是50-200ppm。


4.根据权利要求1所述的硅片加工废水的处理方法，其特征在于，在一个实施方式中，固液分离膜是超滤膜或者微滤膜，固液分离膜采用错流过滤，膜面流速控制在3-5m/s，操作压力控制在0.1-1MPa，温度控制在1-80℃。


5.根据权利要求1所述的硅片加工废水的处理方法，其特征在于，在一个实施方式中，固液分离膜过滤采用错流过滤，膜元件采用外压式固液分离膜，并设有滤液反冲洗和气擦洗，当膜的跨膜压差大于设定值时，系统自动进入反洗程序，滤液通过产水端进入进水侧将污染物带走，从而恢复膜通量；在一个实施方式中，纳...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗小勇，吴正雷，王磊，刘乐天，董凯，钟志君，庄力，杨晓明，彭文博，范克银，党建兵，
申请(专利权)人：江苏久吾高科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32