【技术实现步骤摘要】
用于大型环抛机的稳定自动滴液装置
本专利技术涉及抛光液滴加装置,特别是一种用于大型环抛机的稳定自动滴液装置。
技术介绍
传统环形抛光技术广泛应用于光学元件的平面化加工,特别是对大口径高精度面形要求的光学元件的加工,则需要2.8m环抛机甚至更大尺寸的大型环抛机。抛光过程中使用的抛光液均采用抛光粉和去离子水的混合溶液,传统的抛光液的滴加方式采用的是毛刷蘸取抛光液滴加到蜡盘上,随着技术的进步,专利201310179898.9中环形抛光自动滴加抛光液装置应用到环抛技术中,专利201811521460.3中采用蠕动泵形式的精准自动滴加装置也慢慢应用到环抛技术中。然而,抛光粉是容易沉淀的不溶于水的物质,专利201310179898.9和专利201811521460.3均没有从根本上解决抛光粉的沉淀问题,而且随着大型环抛机的使用频率增大,抛光液使用的需求增大,专利中的磁力搅拌器从原理上和实际使用过程中均不能实现大容积抛光液的均匀搅拌,且磁力搅拌器中的搅拌子使用寿命短并与抛光液接触,使得磁力搅拌器的能力受限。上述两篇专利没有解决抛光粉的沉淀问题,因此无法实现长期稳定自动滴液。溶液搅拌一般采用机械搅拌或则是超声搅拌,机械搅拌设备均采用叶轮搅拌,叶轮与物质接触,体积大、重量重,且操作不方便,搅拌过程中叶轮部分容易产生热量积聚,导致抛光液温度不稳定;超声搅拌,是利用超声在液体中传播导致液体微粒的剧烈震动,微粒间这种剧烈的相互作用可以起到很好的搅拌作用,但是不能搅拌成包块的物质,而且超声搅拌更容易产生热量积聚,导致抛光液不稳定,影响 ...
【技术保护点】
1.一种用于大型环抛机的稳定自动滴液装置,其特征在于该装置包括水桶(1)、气管(2)、气石(3)、气泵(4)、水泵(5)和水管(6);/n所述的水桶(1)用于承装抛光液(7),所述水桶(1)的容量根据所述大型环抛机(9)的用量来定;/n所述气泵(4)与气管(2)一端相连,该气管(2)的另一端与气石(3)相连,该气石(3)置于水桶(1)内,气泵(4)将空气压缩并经所述气管(2)输出,通过所述气石(3)由气泡的形式排出;/n所述水泵(5)置于所述水桶(1)的底部,并与所述水管(6)一端相连,该水管(6)另一端下方放置所述大型环抛机(9),所述水泵(5)将抛光液从所述水桶(1)的底部抽运出来,经过所述水管(6)滴加到大型环抛机(9)上。/n
【技术特征摘要】
1.一种用于大型环抛机的稳定自动滴液装置,其特征在于该装置包括水桶(1)、气管(2)、气石(3)、气泵(4)、水泵(5)和水管(6);
所述的水桶(1)用于承装抛光液(7),所述水桶(1)的容量根据所述大型环抛机(9)的用量来定;
所述气泵(4)与气管(2)一端相连,该气管(2)的另一端与气石(3)相连,该气石(3)置于水桶(1)内,气泵(4)将空气压缩并经所述气管(2)输出,通过所述气石(3)由气泡的形式排出;
所述水泵(5)置于所述水桶(1)的底部,并与所述水管(6)一端相连,该水管(6)另一端下方放置所述大型环抛机(9),所述水泵(5)将抛光液从所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:曹俊,杨明红,徐学科,
申请(专利权)人:中国科学院上海光学精密机械研究所,上海恒益光学精密机械有限公司,
类型:发明
国别省市:上海;31
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