用于大型环抛机的稳定自动滴液装置制造方法及图纸

技术编号:24879080 阅读:33 留言:0更新日期:2020-07-14 18:03
一种用于大型环抛机的稳定自动滴液装置,该装置包括水桶、气管、气石、气泵、水泵、水管、抛光液、流量调节器和大型环抛机。本发明专利技术采用气泵、水泵与流量调节器的结合不产生热量积聚,保证了大容积抛光液中抛光粉悬浮不沉淀和抛光液均匀稳定,可以有效地延长抛光液的滴加时间,提高光学元件加工质量,实现了大型环抛机长期稳定自动滴液。本发明专利技术的使用成本低、使用寿命长、容易实现,适合大型环抛机长期工作的状态,减少了人工添加抛光液的频次,节约人工,提高了生产效率。

【技术实现步骤摘要】
用于大型环抛机的稳定自动滴液装置
本专利技术涉及抛光液滴加装置,特别是一种用于大型环抛机的稳定自动滴液装置。
技术介绍
传统环形抛光技术广泛应用于光学元件的平面化加工,特别是对大口径高精度面形要求的光学元件的加工,则需要2.8m环抛机甚至更大尺寸的大型环抛机。抛光过程中使用的抛光液均采用抛光粉和去离子水的混合溶液,传统的抛光液的滴加方式采用的是毛刷蘸取抛光液滴加到蜡盘上,随着技术的进步,专利201310179898.9中环形抛光自动滴加抛光液装置应用到环抛技术中,专利201811521460.3中采用蠕动泵形式的精准自动滴加装置也慢慢应用到环抛技术中。然而,抛光粉是容易沉淀的不溶于水的物质,专利201310179898.9和专利201811521460.3均没有从根本上解决抛光粉的沉淀问题,而且随着大型环抛机的使用频率增大,抛光液使用的需求增大,专利中的磁力搅拌器从原理上和实际使用过程中均不能实现大容积抛光液的均匀搅拌,且磁力搅拌器中的搅拌子使用寿命短并与抛光液接触,使得磁力搅拌器的能力受限。上述两篇专利没有解决抛光粉的沉淀问题,因此无法实现长期稳定自动滴液。溶液搅拌一般采用机械搅拌或则是超声搅拌,机械搅拌设备均采用叶轮搅拌,叶轮与物质接触,体积大、重量重,且操作不方便,搅拌过程中叶轮部分容易产生热量积聚,导致抛光液温度不稳定;超声搅拌,是利用超声在液体中传播导致液体微粒的剧烈震动,微粒间这种剧烈的相互作用可以起到很好的搅拌作用,但是不能搅拌成包块的物质,而且超声搅拌更容易产生热量积聚,导致抛光液不稳定,影响光学元件的加工质量。
技术实现思路
本专利技术提出一种用于大型环抛机的稳定自动滴液装置,该装置采用气泵、水泵与流量调节器的结合保证了大容积抛光液中抛光粉悬浮不沉淀,可以有效地延长抛光液的滴加时间,实现抛光液均匀搅拌,提高光学元件加工质量,实现了大型环抛机长期稳定自动滴液。本专利技术的技术解决方案如下:一种用于大型环抛机的稳定自动滴液装置,该装置包括水桶、气管、气石、气泵、水泵和水管;所述的水桶用于承装抛光液(抛光粉与去离子水的混合物),所述水桶的容量根据所述大型环抛机的用量来定;所述气泵与气管一端相连,该气管的另一端与气石相连,该气石置于水桶内,气泵将空气压缩并经所述气管输出,通过所述气石由气泡的形式排出;所述水泵置于所述水桶的底部,并与所述水管一端相连,该水管另一端下方放置所述大型环抛机,所述水泵将抛光液从所述水桶的底部抽运出来,经过所述水管滴加到大型环抛机上。在所述水管上设有流量调节器,用于调节中水管中抛光液的流量。所述气泵的气体输出量可调,所述气石的表面具有很多孔,使输入气体以气泡形式排出,进而对水桶内的抛光液形成扰动,达到搅拌均匀的效果。本专利技术的技术优点是:本专利技术采用气泵、水泵与流量调节器的结合不产生热量积聚,保证了大容积抛光液中抛光粉悬浮不沉淀和抛光液稳定均匀,可以有效地延长抛光液的滴加时间,提高光学元件加工质量,实现了大型环抛机长期稳定自动滴液。本专利技术的使用成本低、使用寿命长、容易实现,适合大型环抛机长期使用,减少了人工添加抛光液的频次,节约人工,提高了生产效率。附图说明图1为本专利技术大型环抛机长期稳定自动滴液装置实施例1的结构示意图;图中:1-水桶,2-气管,3-气石,4-气泵,5-水泵,6-水管,7-抛光液,8-流量调节器,9-大型环抛机。具体实施方式下面结合实施例对本专利技术作进一步说明,但不应以此限制本专利技术的保护范围。参阅图1,图1为本专利技术大型环抛机长期稳定自动滴液装置结构示意图。由图可见本专利技术一种大型环抛机长期稳定自动滴液装置,其特征在于该装置包括水桶1、气管2、气石3、气泵4、水泵5、水管6、抛光液7、流量调节器8和大型环抛机9。所述的水桶1里承装抛光液(抛光粉与去离子水的混合物),所述水桶1的容量根据所述大型环抛机9的用量来定;所述气泵4将空气压缩由所述气管2输出,所述气泵4的气体输出量可调,所述气石3是上面有很多孔的石头,与所述气管2连接,所述气石3放置在所述水桶1的底部,所述气泵4中输出的气体通过所述气石3由气泡的形式排出,对所述水桶1中抛光液进行扰动,起到搅拌均匀的效果;所述水泵5放置在所述水桶1的底部,将抛光液从所述水桶1的底部抽运出来,经过所述水管6,由所述流量调节器8控制调节所述水管6中抛光液的流量,形成所述抛光液7滴加到所述大型环抛机9上方;实验表明,本专利技术可实现大型环抛机24h以上的长时间稳定滴液,具备制造成本低、使用寿命长的特点,有效节约人工成本、提高了生产效率。本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种用于大型环抛机的稳定自动滴液装置,其特征在于该装置包括水桶(1)、气管(2)、气石(3)、气泵(4)、水泵(5)和水管(6);/n所述的水桶(1)用于承装抛光液(7),所述水桶(1)的容量根据所述大型环抛机(9)的用量来定;/n所述气泵(4)与气管(2)一端相连,该气管(2)的另一端与气石(3)相连,该气石(3)置于水桶(1)内,气泵(4)将空气压缩并经所述气管(2)输出,通过所述气石(3)由气泡的形式排出;/n所述水泵(5)置于所述水桶(1)的底部,并与所述水管(6)一端相连,该水管(6)另一端下方放置所述大型环抛机(9),所述水泵(5)将抛光液从所述水桶(1)的底部抽运出来,经过所述水管(6)滴加到大型环抛机(9)上。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于大型环抛机的稳定自动滴液装置,其特征在于该装置包括水桶(1)、气管(2)、气石(3)、气泵(4)、水泵(5)和水管(6);
所述的水桶(1)用于承装抛光液(7),所述水桶(1)的容量根据所述大型环抛机(9)的用量来定;
所述气泵(4)与气管(2)一端相连,该气管(2)的另一端与气石(3)相连,该气石(3)置于水桶(1)内,气泵(4)将空气压缩并经所述气管(2)输出,通过所述气石(3)由气泡的形式排出;
所述水泵(5)置于所述水桶(1)的底部,并与所述水管(6)一端相连,该水管(6)另一端下方放置所述大型环抛机(9),所述水泵(5)将抛光液从所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:曹俊杨明红徐学科
申请(专利权)人:中国科学院上海光学精密机械研究所上海恒益光学精密机械有限公司
类型:发明
国别省市:上海;31

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