针对GF-AIUS掩星探测基于查找表的切高校正方法技术

本发明专利技术涉及针对GF‑AIUS掩星探测基于查找表的切高校正方法，包括以下步骤：获取初始数据，对初始数据进行处理得到一级数据，在GF5‑AIUS的探测光谱范围内，分析大气成份中的多种痕量气体的敏感性特征；通过敏感性及光谱特征的分析，在光谱范围基础上，选取包含N

【技术实现步骤摘要】
针对GF-AIUS掩星探测基于查找表的切高校正方法
本专利技术涉及切高校正领域，尤其是一种针对高分五号大气环境红外甚高分辨率GF5-AIUS的切高校正方法。
技术介绍
在卫星掩星观测模式中切高的准确性起着至关重要的作用。切高(TangentHeight)指的是观测点与大气层的切点到地球表面的垂直距离。在反演大气中气体成分的过程中，切高的高度影响着大气成分反演的精确程度。由于红外GF5-AIUS一级切高序列是根据卫星星历表与星地与太阳的相对位置确定，并不准确，因此在后续反演之前需要对其进行校正。目前国外的红外掩星传感器如ACE-FTS等进行切高的方法需要如CO2先验知识等信息，而且反演速率较慢。一级产品切高的误差来源主要有仪器系统误差，大气折射影响和随机误差三部分。针对GF5-AIUS的仪器特征与观测光谱数据及N2在大气低层含量稳定且其吸收通道受其它大气成分的扰动较小与O3在高层含量相对较大且吸收线变化较明显的特点，针对切高校正建立了一种新的基于查找表的快速切高校正方法。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了解决现有技术存在的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.针对GF-AIUS掩星探测基于查找表的切高校正方法，其特征在于，包括以下步骤：/n通过红外掩星传感器获取初始数据，对所述初始数据进行处理得到一级数据，所述一级数据包括多个一级切高和透过率数据；/n在GF5-AIUS的探测光谱范围内，分析大气成份中的多种痕量气体的敏感性特征；通过所述敏感性及光谱特征的分析，在所述光谱范围基础上，选取包含N

【技术特征摘要】
1.针对GF-AIUS掩星探测基于查找表的切高校正方法，其特征在于，包括以下步骤：
通过红外掩星传感器获取初始数据，对所述初始数据进行处理得到一级数据，所述一级数据包括多个一级切高和透过率数据；
在GF5-AIUS的探测光谱范围内，分析大气成份中的多种痕量气体的敏感性特征；通过所述敏感性及光谱特征的分析，在所述光谱范围基础上，选取包含N2与O3吸收的两个连续的光谱范围，根据辐射传输方程，利用正向模型ARTS，模拟两个连续光谱范围上的不同切高上的光谱透过率数据；
通过计算不同切高上N2波段与O3波段实际的光谱透过率与模拟光谱透过率的最小均方根，确定查找表校正的最小半径范围；
在选取的两个N2波段与O3波段连续的探测光谱范围内，分析不同切高上的光谱特征，利用查找表切高校正方法对所述一级数据中的低层切高与高层切高分别进行校正，合并得到校正后的切高。


2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述利用查找表切高校正方法步骤包括：
通过计算不同切高上实际的光谱透过率与模拟光谱透过率的最小方差，确定查找表校正的最小半径范围，即一级切高校正时的波动范围；
针对低层切高，利用N2吸收线所在的光谱范围，在最小半径范围内，计算此光谱范围内的光谱透过率与模拟的光谱透过率的最小方差，获取校正后的低层的最佳切高值。
针对高层切高，利用O3吸收线所在的光谱范围，在最小半径范围内，计算此光谱范围内的光谱透过率与模拟的光谱透过率的最小方差，获取校正后的高层的最佳切高值。
合并校正后的低层切高序列与高层切高序列，得到校正后的全序列。


3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，通过利用最小方差的办法，确定切高序列进行校正的最小半径范围。


4.根据权利要求2或3的方法，其特征在于，低层切高的理论范围为观测切高序列中的第16-22个切高，...

【专利技术属性】
技术研发人员：李小英，王红梅，罗琪，曹西凤，刘双慧，
申请(专利权)人：中国科学院空天信息创新研究院，
类型：发明
国别省市：北京;11