化学增幅型正型感光性树脂组成物及其应用制造技术

本发明专利技术提供一种化学增幅型正型感光性树脂组成物，其包括树脂(A)、光酸产生剂(B)及溶剂(C)。本发明专利技术更包括应用此化学增幅型正型感光性树脂组成物所制得的保护膜，及包括此保护膜的组件。此保护膜具有良好的感度及耐化性，且可应用于薄膜晶体管基板用平坦化膜、层间绝缘膜或光波导路的芯材或包覆材。

【技术实现步骤摘要】
化学增幅型正型感光性树脂组成物及其应用
本专利技术有关于一种化学增幅型正型感光性树脂组成物，及由其形成的保护膜、及具有保护膜的组件。其中，特别是提供一种曝光、显影后形成感度佳、耐化性佳等特性的保护膜用正型感光性树脂组成物。此保护膜适用于液晶显示组件、有机EL显示组件等的薄膜晶体管(ThinFilmTransistor；TFT)基板用平坦化膜、层间绝缘膜或光波导路的芯材或包覆材。
技术介绍
薄膜晶体管型液晶显示组件或有机电致发光组件(organicelectroluminescencedevice，有机EL组件)等显示组件，通常包括层间绝缘膜或平坦化膜等绝缘膜。此种绝缘膜通常使用感放射线性组成物来形成。就图案化性能的观点而言，习知多使用利用萘醌二叠氮化物(naphthoquinonediazide)等酸产生剂的正型感放射线性树脂组成物(参照日本专利特开2001-354822号公报)，做为此种感放射线性组成物，但近年来提出了多种感放射线性组成物。举例而言，提出了一种正型化学增幅材料，其目的在于：以较使用萘醌二叠氮化物等酸产生剂的前述正型感放本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种化学增幅型正型感光性树脂组成物，其特征在于，该化学增幅型正型感光性树脂组成物包含：/n树脂(A)；/n光酸产生剂(B)；以及/n溶剂(C)，/n其中，该树脂(A)是由混合物所共聚合而得，该混合物包括聚合性单体以及具有下式(2)的结构的硫醇化合物，而该聚合性单体包括不饱和羧酸单体(a-1)、含式(1)的酸解离性基的单体(a-2)以及单体(a-1)、单体(a-2)以外的其他不饱和单体(a-3)：/n

【技术特征摘要】
20181225 TW 1071470241.一种化学增幅型正型感光性树脂组成物，其特征在于，该化学增幅型正型感光性树脂组成物包含：
树脂(A)；
光酸产生剂(B)；以及
溶剂(C)，
其中，该树脂(A)是由混合物所共聚合而得，该混合物包括聚合性单体以及具有下式(2)的结构的硫醇化合物，而该聚合性单体包括不饱和羧酸单体(a-1)、含式(1)的酸解离性基的单体(a-2)以及单体(a-1)、单体(a-2)以外的其他不饱和单体(a-3)：



于该式(1)中，该R1和该R2各自独立为氢原子、烷基、脂环式烃基或芳基，其中该烷基、该脂环式烃基或该芳基所具有的氢原子的一部分或全部可被取代；而且，该R1及该R2不可同时为氢原子；该R3为烷基、脂环式烃基、芳烷基或者芳基；其中该R3的该烷基、该脂环式烃基、该芳烷基及该芳基所具有的氢原子的一部分或全部可被取代；该R1与该R3可相互键结而与该R1所键结的碳原子以及该R3所键结的氧原子一起形成环状醚结构；
X-R4-SH式(2)
于该式(2)中，X表示酯基、羟基、胺基或烷氧基硅烷基，且该R4表示经取代或未经取代的伸烷基或伸芳基。


2.如权利要求1所述的化学增幅型正型感光性树脂组成物，其特征在于，该其他不饱和单体(a-3)包括含环氧基的不饱和单体(a-3-1)。


3.如权利要求1所述的化学增幅型正型感光性树脂组成物，其特征在于，该光酸产...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘骐铭，施俊安，
申请(专利权)人：奇美实业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71