一种新型大模场光纤制造技术

本发明专利技术的实施例提供了一种新型大模场光纤，涉及光纤技术领域。新型大模场光纤包括纤芯、内包层、第一折射层及外包层，内包层包覆于纤芯的外周缘，第一折射层包覆于内包层的外周缘，外包层包覆于第一折射层的外周缘，所述第一折射层的第一折射率大于所述内包层的内包折射率。在本发明专利技术中，新型大模场光纤的内的激光横模一般为高阶模及基模，在内包层的外周缘设置一层第一折射层，第一折射层的折射率大于内包层的内包折射率使整个新型大模场光纤对高阶模的束缚能力减弱，高阶模将更多的扩散到外包层中，从而减少高阶模与基模的重叠度，降低高阶模的增益能力并增加弯曲损耗。

【技术实现步骤摘要】
一种新型大模场光纤
本专利技术涉及光纤
，具体而言，涉及一种新型大模场光纤。
技术介绍
光纤激光器具有转换效率高、光束质量好、热管理方便、结构紧凑等优点，能够获得高功率和高光束质量的激光输出，在远程焊接、三维切割、激光打标、精密加工等先进制造领域具有良好的应用前景。目前，高功率光纤激光器普遍采用双包层光纤实现低亮度泵浦光的高效耦合，随着大模场面积双包层掺杂光纤制造工艺与高亮度激光二极管泵浦技术的发展，单根单模双包层光纤激光器的输出功率以惊人的速度迅速提高，美国IPG光子技术公司的单模光纤激光器输出功率高达两万瓦。然而，随着输出功率增加到几千瓦甚至万瓦量级，光纤纤芯中功率密度和热负载大幅增加，光纤激光中激发了多种非线性物理效应，导致光纤激光功率增长缓慢甚至进入了瓶颈，近十年来光纤激光极限输出功率一直停滞不前，限制了光纤激光在各个领域的应用。目前现有技术中的光纤激光器高阶模与基模的重叠区域较大，导致激光光束质量较差。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供了一种新型大模场光纤，其能够使整个新型大模场光纤对高阶模的束本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种新型大模场光纤，其特征在于，包括：纤芯、内包层、第一折射层及外包层，所述内包层包覆于所述纤芯的外周缘，所述第一折射层包覆于所述内包层的外周缘，所述外包层包覆于所述第一折射层的外周缘，所述第一折射层的第一折射率大于所述内包层的内包折射率。/n

【技术特征摘要】
1.一种新型大模场光纤，其特征在于，包括：纤芯、内包层、第一折射层及外包层，所述内包层包覆于所述纤芯的外周缘，所述第一折射层包覆于所述内包层的外周缘，所述外包层包覆于所述第一折射层的外周缘，所述第一折射层的第一折射率大于所述内包层的内包折射率。


2.根据权利要求1所述的新型大模场光纤，其特征在于，所述第一折射率为1.457～1.459。


3.根据权利要求1所述的新型大模场光纤，其特征在于，所述第一折射层的第一折射率在所述纤芯的纤芯折射率及所述内包层的内包折射率之间。


4.根据权利要求1所述的新型大模场光纤，其特征在于，所述内包层的厚度小于所述第一折射层的厚度。


5.根据权利要求4所述的新型大模场光纤，其特征在于，所述内包层的厚度为1um...

【专利技术属性】
技术研发人员：陶汝茂，谢亮华，
申请(专利权)人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心，
类型：发明
国别省市：四川;51