一种洁净涂胶显影装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种洁净涂胶显影装置，包括涂胶显影机，所述涂胶显影机顶部安装有FFU过滤单元，所述FFU过滤单元用于将空气吸入、过滤后送入涂胶显影机内。本实用新型专利技术采用FFU过滤单元，空气经过FFU过滤单元净化后送入到涂胶显影机中，提高涂胶显影机内部空气的清洁度。本实用新型专利技术采用FFU过滤单元，空气经过FFU过滤单元净化后送入到涂胶显影机中，通过回风管将涂胶显影机内的空气再次送入到FFU过滤单元进行净化，形成循环，保障了涂胶显影机内部空气的清洁度。

【技术实现步骤摘要】
一种洁净涂胶显影装置
本技术涉及涂胶显影设备
，尤其涉及一种洁净涂胶显影装置。
技术介绍
半导体设备涂胶显影机主要功能是光刻胶在晶圆表面的涂敷和显影，涂胶显影设备的工艺性能指标较高，要实现高性能的技术指标，需要多方面控制各种技术参数，其中涂胶显影设备内的空气洁净度于涂胶显影技术起着至关重要的作用，其决定着晶圆表面光刻胶的涂敷和显影的质量。因此，需要通过改善涂胶显影设备内部环境来提高光刻胶在晶圆表面的涂敷和显影的质量和精度。
技术实现思路
为了解决上述
技术介绍
中所提到的问题，本技术提供一种洁净涂胶显影装置，能够净化涂胶显影机内部的环境。一种洁净涂胶显影装置，包括涂胶显影机，所述涂胶显影机顶部安装有FFU过滤单元，所述FFU过滤单元用于将空气吸入、过滤后送入涂胶显影机内。进一步地，所述FFU过滤单元包括壳体，所述壳体内设有竖向分布的第一框架，所述第一框架的两端与壳体内壁连接，所述壳体内部还设有与第一框架垂直的第二框架，所述第二框架的两端与壳体内壁连接，所述第二框架两侧均设有FFU风机过滤机组，所述FFU风机过滤本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种洁净涂胶显影装置，其特征在于，包括涂胶显影机，所述涂胶显影机顶部安装有FFU过滤单元，所述FFU过滤单元用于将空气吸入、过滤后送入涂胶显影机内。/n

【技术特征摘要】
1.一种洁净涂胶显影装置，其特征在于，包括涂胶显影机，所述涂胶显影机顶部安装有FFU过滤单元，所述FFU过滤单元用于将空气吸入、过滤后送入涂胶显影机内。


2.根据权利要求1所述的洁净涂胶显影装置，其特征在于，所述FFU过滤单元包括壳体，所述壳体内设有竖向分布的第一框架，所述第一框架的两端与壳体内壁连接，所述壳体内部还设有与第一框架垂直的第二框架，所述第二框架的两端与壳体内壁连接，所述第二框架两侧均设有FFU风机过滤机组，所述FFU风机过滤机组通过安装板安装在...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚舜捷，
申请(专利权)人：上海图双精密装备有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31