一种洁净涂胶显影装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种洁净涂胶显影装置，包括涂胶显影机，所述涂胶显影机顶部安装有FFU过滤单元，所述FFU过滤单元用于将空气吸入、过滤后送入涂胶显影机内。本实用新型专利技术采用FFU过滤单元，空气经过FFU过滤单元净化后送入到涂胶显影机中，提高涂胶显影机内部空气的清洁度。本实用新型专利技术采用FFU过滤单元，空气经过FFU过滤单元净化后送入到涂胶显影机中，通过回风管将涂胶显影机内的空气再次送入到FFU过滤单元进行净化，形成循环，保障了涂胶显影机内部空气的清洁度。

【技术实现步骤摘要】
一种洁净涂胶显影装置
本技术涉及涂胶显影设备
，尤其涉及一种洁净涂胶显影装置。
技术介绍
半导体设备涂胶显影机主要功能是光刻胶在晶圆表面的涂敷和显影，涂胶显影设备的工艺性能指标较高，要实现高性能的技术指标，需要多方面控制各种技术参数，其中涂胶显影设备内的空气洁净度于涂胶显影技术起着至关重要的作用，其决定着晶圆表面光刻胶的涂敷和显影的质量。因此，需要通过改善涂胶显影设备内部环境来提高光刻胶在晶圆表面的涂敷和显影的质量和精度。
技术实现思路
为了解决上述
技术介绍
中所提到的问题，本技术提供一种洁净涂胶显影装置，能够净化涂胶显影机内部的环境。一种洁净涂胶显影装置，包括涂胶显影机，所述涂胶显影机顶部安装有FFU过滤单元，所述FFU过滤单元用于将空气吸入、过滤后送入涂胶显影机内。进一步地，所述FFU过滤单元包括壳体，所述壳体内设有竖向分布的第一框架，所述第一框架的两端与壳体内壁连接，所述壳体内部还设有与第一框架垂直的第二框架，所述第二框架的两端与壳体内壁连接，所述第二框架两侧均设有FFU风机过滤机组，所述FFU风机过滤机组通过安装板安装在第一框架上，所述FFU风机过滤机组包括风机，所述风机下方设有过滤器；所述壳体顶端与风机位置相对应处设有第一进风口，所述壳体底端与过滤器位置相对应处设有出风口，所述涂胶显影机顶部与出风口位置相对应处设有通风口。进一步地，所述涂胶显影机的侧壁上设有回风口，所述回风口连接并连通有回风管；所述壳体顶部还设有第二进风口，所述第二进风口的位置与任一所述FFU风机过滤机组相对应，所述第二进风口与回风管远离回风口的一端连接并连通。本技术的有益效果是：本技术采用FFU过滤单元，空气经过FFU过滤单元净化后送入到涂胶显影机中，通过回风管将涂胶显影机内的空气再次送入到FFU过滤单元进行净化，形成循环，保障了涂胶显影机内部空气的清洁度。附图说明图1为本技术的结构示意图。图2为FFU过滤单元的内部结构示意图。其中，1为涂胶显影机，2为壳体，3为第一框架，4为第二框架，5为FFU风机过滤机组，501为风机，502为过滤器，6为安装板，7为回风管。具体实施方式下面结合附图，通过具体实施例对本技术做进一步详细说明。如附图所示的一种洁净涂胶显影装置，包括涂胶显影机1，涂胶显影机1顶部安装有FFU过滤单元，FFU过滤单元用于将空气吸入、过滤后送入涂胶显影机1内。FFU过滤单元包括壳体2，壳体2内设有竖向分布的第一框架3，第一框架3的两端与壳体2内壁连接，壳体2内部还设有与第一框架3垂直的第二框架4，第二框架4的两端与壳体2内壁连接，第二框架4两侧均设有FFU风机过滤机组5，FFU风机过滤机组5通过安装板6安装在第一框架3上，FFU风机过滤机组5包括风机501，风机501下方设有过滤器502；壳体2顶端与风机501位置相对应处设有第一进风口，壳体2底端与过滤器502位置相对应处设有出风口，涂胶显影机1顶部与出风口位置相对应处设有通风口。涂胶显影机1的侧壁上设有回风口，回风口连接并连通有回风管7；壳体2顶部还设有第二进风口，第二进风口的位置与任一FFU风机过滤机组5相对应，第二进风口与回风管7远离回风口的一端连接并连通。本技术在具体实施时：风机501将空气吸入再经过滤器502过滤后送入到涂胶显影机1内部，涂胶显影机1内部的空气可通过回风管7送入壳体内，再经风机501吸入、过滤器502过滤后送入到涂胶显影机1内部，如此循环，使涂胶显影机1内部形成高洁净的环境。以上所述仅为本技术的优选实施例而已，并不用于限制本技术，尽管参照前述实施例对本技术进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种洁净涂胶显影装置，其特征在于，包括涂胶显影机，所述涂胶显影机顶部安装有FFU过滤单元，所述FFU过滤单元用于将空气吸入、过滤后送入涂胶显影机内。/n

【技术特征摘要】
1.一种洁净涂胶显影装置，其特征在于，包括涂胶显影机，所述涂胶显影机顶部安装有FFU过滤单元，所述FFU过滤单元用于将空气吸入、过滤后送入涂胶显影机内。


2.根据权利要求1所述的洁净涂胶显影装置，其特征在于，所述FFU过滤单元包括壳体，所述壳体内设有竖向分布的第一框架，所述第一框架的两端与壳体内壁连接，所述壳体内部还设有与第一框架垂直的第二框架，所述第二框架的两端与壳体内壁连接，所述第二框架两侧均设有FFU风机过滤机组，所述FFU风机过滤机组通过安装板安装在...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚舜捷，
申请(专利权)人：上海图双精密装备有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31