电镀设备和使用该电镀设备的电镀方法技术

电镀设备和使用该电镀设备的电镀方法。一种电镀设备，包括镀槽和在镀槽中沿水平方向并配置成支撑基板的台架。电镀设备还包括在基板的两侧的多个阴极和在基板上的阳极，阳极与基板间隔开并且被配置为可在第一方向上移动。

【技术实现步骤摘要】
电镀设备和使用该电镀设备的电镀方法
本公开涉及电镀设备和使用该电镀设备的电镀方法，更具体地，涉及通过水平镀法形成均匀镀层的电镀设备和使用该电镀设备的电镀方法。
技术介绍
镀敷用于通过给予材料和零件的表面功能性质(例如耐腐蚀性、耐久性和导电性)或通过物理、化学和电化学处理改善外观来增加最终产品的附加值。因此，它已广泛用于材料和零件工业。镀敷可分为在水溶液中进行的湿式镀敷和在大气和真空中进行的干式镀敷。湿式镀敷的示例包括电镀、无电镀、阳极氧化和化学转化处理，干式镀敷的示例包括热浸、热喷涂、物理沉积和化学沉积。湿式镀敷具有镀敷速度快，经济可行性高，易于添加各种功能性质，便于连续加工和批量生产等优点。
技术实现思路
本公开的专利技术人使用这样的镀敷工艺并开发了用于形成掩模的工艺，例如，在制造有机发光显示设备时使用的精细金属掩模(FMM)。根据设计，有机发光显示设备的有机层可以具有图案化的发光层结构。在具有图案化发光层结构的有机发光显示设备中，对于各个像素，发射不同颜色光的发光层是分开的。例如，用于发射红光的红色有机发光层，用于发射绿光的绿色有机发光层和用于发射蓝光的蓝色有机发光层可以分别在红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素中分开。可以使用具有用于各个子像素的开口的掩模(例如，FMM)在各个子像素的发光区域上沉积和图案化有机发光层。这种掩模通常通过经由曝光和显影形成图案然后经由湿法蚀刻在金属板上转印图案来制造。然而，当使用湿法蚀刻工艺制造掩模时，由于蚀刻的各向同性，难以在蚀刻工艺期间精确地控制图案宽度。因此，难以获得高分辨率图案。因此，本公开的专利技术人专利技术了一种使用湿式镀敷工艺代替上述蚀刻工艺制造掩模的方法。作为湿式镀敷工艺，广泛使用垂直镀敷方法，其中在镀槽中垂直设置基板的状态下进行镀敷。根据垂直镀敷方法，在镀槽中的镀槽的底部垂直设置基板。也就是说，当镀槽填充有镀液时，在镀液的表面垂直于基板设置的状态下进行镀敷。当通过垂直镀敷方法进行镀敷时，阴极连接到基板上的种子图案的一侧，阳极设置在镀液上。本公开的专利技术人发现当使用垂直镀敷方法时可能发生各种问题。例如，根据垂直镀敷方法，因为阴极仅在基板的一侧连接到种子图案，所以阴极和种子图案在单个点处接触。因此，种子图案的电阻随着远离阴极和种子图案之间的接触部分而增加。因此，根据垂直镀敷方法，很难在整个基板上形成均匀的镀层。此外，根据垂直镀敷方法，基板沿垂直方向设置。因此，在镀敷过程中产生的诸如氢这样的气体和诸如盐这样的副产物可以在垂直方向上累积。例如，可以累积镀敷障碍物。此外，根据垂直镀敷方法，需要将沿水平方向转移的基板旋转到垂直方向，以将基板装载到镀槽中。在从镀槽中卸下镀敷基板之后，需要将基板再次旋转到水平方向。因此，镀槽及其外围装置变得笨重。因此，本公开的专利技术人认识到垂直镀敷方法的上述问题。然后，本公开的专利技术人专利技术了一种使用水平镀敷方法进行镀敷的电镀设备和用于制造该电镀设备的方法。本公开的一个方面是提供一种使用水平镀敷方法进行镀敷以保持种子图案在基板上的恒定电阻的电镀设备以及用于制造该电镀设备的方法。本公开的另一方面是提供一种使用水平镀敷方法进行镀敷以最小化镀敷过程中产生的诸如气体或副产物这样的障碍物的累积的电镀设备以及用于制造该电镀设备的方法。本公开的另一方面是提供一种使用水平镀敷方法执行镀敷以实现用于执行镀敷的镀敷系统的最小体积的电镀设备以及用于制造该电镀设备的方法。本公开的另一方面是提供一种可以通过将连接到基板上的种子图案的阴极分成多个部分而将不同的电流密度施加到相应的镀敷区域的电镀设备以及用于制造该电镀设备的方法。作为另一方面，本公开提供一种可以通过最小化取决于镀敷面积的镀敷偏差来改善镀敷厚度的均匀性的电镀设备以及用于制造该电镀设备的方法。本公开的另一方面提供一种能够使用包括多个子阳极的阳极来调节每个镀敷区域的电流密度的电镀设备以及用于制造该电镀设备的方法。附加的特征和方面将在随后的描述中阐述，并且部分地将从描述中显而易见，或者可以通过实践本文提供的专利技术构思来学习。本专利技术构思的其他特征和方面可以通过书面描述中特别指出的结构、或由其衍生的结构、本专利技术的权利要求以及附图来实现和获得。为了实现实施和广泛描述的本专利技术构思的这些和其他方面，提供了一种电镀设备，其包括镀槽和在镀槽中沿水平方向并且被配置为支撑基板的台架。电镀设备还包括在基板的第一侧和第二侧的多个阴极和在基板上的阳极，阳极与基板间隔开并且被配置为可在第一方向上移动。在另一方面，提供了一种水平电镀设备，其包括具有填充镀液的空间的镀槽。水平电镀设备还包括多个第一阴极和多个第二阴极，所述多个第一阴极和多个第二阴极设置成在镀槽中彼此面对并且被配置为将不同的电流密度施加到相应的镀敷区域。水平电镀设备还包括在多个第一阴极和多个第二阴极上的阳极，并且阳极被配置为可在多个第一阴极和多个第二阴极之间移动。另一方面，提供一种电镀方法，包括将包括种子图案的基板沿水平方向放置在镀槽中。电镀方法还包括在基板的第一侧和第二侧放置多个阴极并在基板上放置阳极，阳极与基板间隔开。电镀方法还包括向多个阴极和阳极施加电流，并基于阳极在第一方向上的移动在基板上形成镀层。根据本公开，可以解决垂直镀敷方法的问题，例如在镀敷方法中产生的种子图案的电阻的不均匀性、副产物的产生、制造设备的大体积。根据本公开，多个阴极设置在基板的第一侧和第二侧，并且可以调节或调整施加到位置彼此对应的阴极的电压。因此，可以自由地调节施加到每个镀敷区域的电流密度。根据本公开，可以形成具有均匀厚度的镀层，从而无论镀覆面积如何都改善镀敷厚度的均匀性。根据本公开，阳极被划分成多个部分，并且电压被选择性地施加到多个划分出的阳极。因此，可以针对各个阳极下的区域不同地调节电流密度。在检查了下面的附图和详细描述之后，其他系统、方法、特征和优点对于本领域技术人员将是或将变得显而易见。旨在将所有这些附加系统、方法、特征和优点包括在本说明书内，包括在本公开的范围内，并且由所附权利要求保护。本节中的任何内容均不应视为对这些权利要求的限制。下面结合本公开的实施方式讨论其他方面和优点。应当理解，本公开的前述一般描述和以下详细描述都是示例和解释性的，并且旨在提供对要求保护的本公开的进一步说明。附图说明可以被包括以提供对本公开的进一步理解并且被并入并构成本说明书的一部分的附图示出了本公开的实施方式，并且与说明书一起用于解释本公开的各种原理。图1例示了根据本公开的实施方式的电镀设备。图2是沿图1的X-Z平面截取的剖视图。图3是沿图1的Y-Z平面截取的剖视图。图4是根据本公开的实施方式的电镀设备的平面图。图5是被提供以用于说明施加到根据本公开的实施方式的电镀设备的阴极的电流的曲线图。图6是根据本公开另一实施方式的电镀设备的平面图。图7是沿图6的X-Z平面截取的剖视图。图8A至图8C是分别示本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电镀设备，所述电镀设备包括：/n镀槽；/n沿水平方向的基板；/n在所述基板的一个表面上的第一方向上在所述基板的第一侧和第二侧的多个阴极；和/n在所述基板上的阳极，所述阳极与所述基板间隔开并且被配置为能在所述第一方向上移动。/n

【技术特征摘要】
20181231 KR 10-2018-01735571.一种电镀设备，所述电镀设备包括：
镀槽；
沿水平方向的基板；
在所述基板的一个表面上的第一方向上在所述基板的第一侧和第二侧的多个阴极；和
在所述基板上的阳极，所述阳极与所述基板间隔开并且被配置为能在所述第一方向上移动。


2.根据权利要求1所述的电镀设备，其中所述多个阴极包括：
在所述基板的所述第一侧的多个第一阴极，和
在所述基板的所述第二侧的多个第二阴极，并且
所述多个第一阴极中的每一个被配置为对应于所述多个第二阴极中的每一个。


3.根据权利要求2所述的电镀设备，所述电镀设备还包括：
电源单元，所述电源单元与所述多个阴极和所述阳极电连接以施加电流；和
控制器，所述控制器被配置为控制所述电源单元基于所述基板上的对应于所述阳极的位置的镀敷面积来调节施加到所述多个阴极的电压。


4.根据权利要求1所述的电镀设备，
其中，在所述基板的所述一个表面上，所述阳极在所述第一方向上的长度短于所述阳极在垂直于所述第一方向的第二方向上的长度。


5.根据权利要求4所述的电镀设备，其中，所述阳极包括多个子阳极，所述多个子阳极彼此间隔开。


6.根据权利要求5所述的电镀设备，其中所述阳极还包括在所述多个子阳极之间的至少一个绝缘层。


7.根据权利要求6所述的电镀设备，其中：
所述多个子阳极中的每一个在所述第二方向上延伸，并且
所述多个子阳极和所述至少一个绝缘层在所述第一方向上交替设置。


8.根据权利要求6所述的电镀设备，其中：
所述多个子阳极中的每一个在所述第一方向上延伸，并且
所述多个子阳极和所述至少一个绝缘层在所述第二方向上交替设置。


9.根据权利要求5所述的电镀设备，其中所述多个子阳极以矩阵形式设置在平面上。


10.根据权利要求1所述的电镀设备，还包括所述镀槽中沿水平方向并配置为支撑所述基板的台架。


11.一种水平电镀设备，所述水平电镀设备包括：
具有填充镀液的空间的镀槽；
多个第一阴极和多个第二阴极，所述多个第一阴极和所述多个第二阴极设置成在所述镀槽中彼此面对并且被配置为向各个镀敷区域施加不同的电流密度；和
在所述多个第一阴极和所述多个第二阴极上的阳极，所述阳极被配置为能在所述多个第一阴极和所述多个第二阴极之间移动。


12.根据权利要求11所述的水平电镀设备，其中当...

【专利技术属性】
技术研发人员：金高泰，金祐赞，崔畅埈，文相喆，金顼，
申请(专利权)人：乐金显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR