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一种用于MCVD的稀土及共掺剂原料蒸汽的输送装置制造方法及图纸

技术编号:24790530 阅读:60 留言:0更新日期:2020-07-07 19:57
本发明专利技术公开了提供了一种用于MCVD的稀土及共掺剂原料蒸汽的输送装置,包括双层金属套管、原料输送管道、加热流体的进出管道、加热流体、热电偶、流体加热箱以及系统保温箱。本发明专利技术采用双层金属套管对原料输送管道进行支撑和保温;采用循环流体加热原料输送管道;采用金属堵头将输送管道和双层金属套管的焊接密封;采用将输送装置做EP处理可以使稀土及共掺剂原料蒸汽的输送部件具备耐高温、耐腐蚀、强度高、不会破损、密封性好、温度均匀精准、能耗低、成本低以及寿命长的特点。制备出的掺稀土光纤预制棒水峰低、损耗小、各组分精确可控、折射率剖面精细。

【技术实现步骤摘要】
一种用于MCVD的稀土及共掺剂原料蒸汽的输送装置
本专利技术属于光纤光缆制备
,更具体地,涉及一种用于MCVD的稀土及共掺剂原料蒸汽的输送装置。
技术介绍
随着光纤激光器在工业加工、医疗、航空、军事等领域地快速发展,人们对光纤激光器的功率、光束质量、光暗化性能、转换效率等性能提出了更高的要求。掺稀土光纤作为光纤激光器的核心部件,充当激光增益介质和光波导的角色,所以掺稀土光纤的背景损耗、吸收系数、光光转换效率、数值孔径、光束质量、光暗化性能等直接决定了光纤激光器的品质。掺稀土光纤由掺稀土预制棒拉丝而成,制备掺稀土光纤预制棒的MCVD方法主要分为液相掺杂法和气相掺杂法。液相掺杂法是制备掺稀土光纤预制棒最早采用的工艺方法,它是通过MCVD工艺在反应管内壁沉积结构疏松的沉积层,将这种结构疏松的沉积层浸泡在含有稀土离子的溶液中,使沉积层吸附溶液中的稀土离子,然后再经过脱水、玻璃化等工艺将稀土离子掺杂进反应管中,属于一种离线掺杂工艺,制备的掺稀土光纤损耗较大、稀土掺杂不均匀、折射率剖面不可控且不适合制备大模场掺稀土光纤。气相掺杂法是近些年发展本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于MCVD的稀土及共掺剂原料蒸汽的输送装置,其特征在于:包括双层金属套管、原料输送管道、加热流体进出管道、加热流体、热电偶、流体加热箱以及系统保温箱;/n所述双层金属套管呈圆柱状,内径为D1、外径为D2,内层和外层均为厚度为0.3±0.05mm的金属,两金属管之间的间隙为1-2mm、并做抽真空处理,套管长度在1000-1200mm之间;/n所述的原料输送管道包括稀土螯合物输气管道、三氯化铝输气管道、氧气管道和氦气管道,输送管道均位于所述的双层金属套管内;/n所述加热流体进出管道用于输送加热流体,使双层金属套管内的温度保持在T,精度控制在T±1℃,当套管内温度低于T-1℃时,加热流体通...

【技术特征摘要】
1.一种用于MCVD的稀土及共掺剂原料蒸汽的输送装置,其特征在于:包括双层金属套管、原料输送管道、加热流体进出管道、加热流体、热电偶、流体加热箱以及系统保温箱;
所述双层金属套管呈圆柱状,内径为D1、外径为D2,内层和外层均为厚度为0.3±0.05mm的金属,两金属管之间的间隙为1-2mm、并做抽真空处理,套管长度在1000-1200mm之间;
所述的原料输送管道包括稀土螯合物输气管道、三氯化铝输气管道、氧气管道和氦气管道,输送管道均位于所述的双层金属套管内;
所述加热流体进出管道用于输送加热流体,使双层金属套管内的温度保持在T,精度控制在T±1℃,当套管内温度低于T-1℃时,加热流体通过进口泵入双层金属套管,此时冷流体从出口流出;所述加热流体用于加热双层金属套管内的输气管道,加热流体通过上述的流体进出口管道在双层金属套管和流体加热箱内循环;
所述的热电偶用于检测双层金属套管内的温度,当其探测的温度低于T-1℃时,其反馈一个信号给控制系统,控制热流体向双层金属套管的泵入,所述的流体加热箱用于储存加热流体,其通过流体进出管道与双层金属套管相通,加热内箱有流体温控单元,确保流体的温度控制在T±2℃之间;
所述的原料输送管道、加热流体进出管道以及热电偶与双层金属套管的两端通过两个圆饼状的金属堵头密封,其密封方式为焊接,原料输送管道、加热流体进出管道以及热电偶焊接在堵头上,堵头分别焊接在双层金属套管的两...

【专利技术属性】
技术研发人员:黄宏琪
申请(专利权)人:黄宏琪
类型:发明
国别省市:湖北;42

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