【技术实现步骤摘要】
一种洁净生产厂房布置结构
本申请涉及发光二极管生产、化合物半导体生产的洁净生产厂房
,特别涉及一种洁净生产厂房布置结构。
技术介绍
发光二极管生产通常是采用单层、多层洁净生产厂房,柱距以9米为主。洁净房间的回风方式通常是采用房间之间的隔墙、技术夹道以及房间内的混凝土结构柱周边作为回风的空间;同时,工艺辅助设备也是布置在同层室内、技术夹道中。然而,如图1所示,随着加工产品尺寸的扩大,工艺设备体积加大,工艺辅助设备也增大、变多,工艺设备具备了前后区的分隔,主设备和辅助设备的分隔。由于是小房间的分隔方式,工艺设备布置的灵活性较差,位于上层的静压箱或送风管20压送的洁净空气进入洁净生产层30后,由侧边的回风夹道或回风管10进行回风,由于各种管线布置在吊顶之上,存在安全隐患,同时,这种上送侧回的回风方式,也只适用于空气洁净度等级较低的生产环境要求。
技术实现思路
本申请提供了一种洁净生产厂房布置结构,通过将生产厂房分隔成上下两层,增加了工艺设备布置的灵活性,同时采用了垂直层流的送风方式。为了达到上 ...
【技术保护点】
1.一种洁净生产厂房布置结构,其特征在于,包括:/n屋架及静压箱;/n洁净生产层;/n洁净下技术夹层;/n所述洁净生产层与所述洁净下技术夹层之间采取结构开孔以连通所述洁净生产层和所述洁净下技术夹层;/n所述洁净生产厂房一侧或两侧设置回风夹道,所述回风夹道的一端与所述洁净下技术夹层连通,另一端与位于所述洁净生产层上方的所述静压箱连通,用于将洁净空气压送至所述洁净生产层,通过所述回风夹道回收和循环所述洁净下技术夹层内的空气。/n
【技术特征摘要】
1.一种洁净生产厂房布置结构,其特征在于,包括:
屋架及静压箱;
洁净生产层;
洁净下技术夹层;
所述洁净生产层与所述洁净下技术夹层之间采取结构开孔以连通所述洁净生产层和所述洁净下技术夹层;
所述洁净生产厂房一侧或两侧设置回风夹道,所述回风夹道的一端与所述洁净下技术夹层连通,另一端与位于所述洁净生产层上方的所述静压箱连通,用于将洁净空气压送至所述洁净生产层,通过所述回风夹道回收和循环所述洁净下技术夹层内的空气。
2.根据权利要求1所述的洁净生产厂房布置结构,其特征在于,所述洁净生产层与所述洁净下技术夹层之间采用垂直层流的送风方式。
3.根据权利要求1所述的洁净生产厂房布置结构,其特征在于,一部分所述结构开孔还用于连接所述洁净下技术夹层内的工艺辅助设备和所述洁净生产层的主机台的动力管线穿过。
4.根据权利要求1...
【专利技术属性】
技术研发人员:罗桥,张东,
申请(专利权)人:中国电子工程设计院有限公司,世源科技工程有限公司,
类型:新型
国别省市:北京;11
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