显示面板及其制备方法、显示装置制造方法及图纸

技术编号:24761145 阅读:30 留言:0更新日期:2020-07-04 10:20
一种显示面板及其制备方法、显示装置。该显示面板具有显示区和用于密封的周边区,并且包括在显示区和周边区中的绝缘层,该绝缘层在周边区中包括凹槽,在显示区中于绝缘层上形成有用于多个像素单元的发光元件层,发光元件层包括发光层。该显示面板具有较好的封装效果。

Display panel, preparation method and display device thereof

【技术实现步骤摘要】
显示面板及其制备方法、显示装置
本公开的实施例涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。
技术介绍
显示面板可以包括阵列基板以及与阵列基板相对的用于封装与保护的对置基板。阵列基板包括用于显示的多个像素单元以及驱动这些像素单元发光的驱动电路等功能结构。对置基板通过封框胶与阵列基板结合,以对阵列基板上的像素单元以及驱动电路等功能结构提供封装与保护。
技术实现思路
本公开至少一实施例提供一种显示面板,具有显示区和用于密封的周边区,包括:绝缘层,在所述显示区和所述周边区中,其中,所述绝缘层在所述周边区中包括凹槽,在所述显示区中于所述绝缘层上形成有用于多个像素单元的发光元件层,所述发光元件层包括发光层。例如,本公开至少一实施例提供的显示面板中,所述凹槽的纵截面呈正梯形或者倒梯形。例如,本公开至少一实施例提供的显示面板中,所述发光元件层还包括像素界定层,所述像素界定层包括分别用于多个像素单元的多个像素开口,所述发光层至少覆盖所述多个像素开口。例如,本公开至少一实施例提供的显示面板中,所述凹槽与所述像素开口的平面形状和尺寸相同,或者所述凹槽的平面尺寸大于所述像素开口的平面尺寸。例如,本公开至少一实施例提供的显示面板中,所述绝缘层在所述周边区中包括多个所述凹槽,所述多个像素开口呈第一阵列排布,所述多个凹槽呈第二阵列排布,所述第一阵列和第二阵列具有相同排布方向以及在所述排布方向上具有相同的节距。例如,本公开至少一实施例提供的显示面板中,所述绝缘层的位于所述周边区的表面具有疏液性质。例如,本公开至少一实施例提供的显示面板中,所述发光层至少部分延伸至所述凹槽中。例如,本公开至少一实施例提供的显示面板中,所述绝缘层包括:第一子绝缘层,具有第一凹槽部分,第二子绝缘层,层叠在所述第一子绝缘层上,具有与所述第一凹槽部分连通的开口,所述第一凹槽部分和所述开口构成所述凹槽。例如,本公开至少一实施例提供的显示面板中,所述第一凹槽部分的纵截面呈正梯形,所述开口的纵截面呈倒梯形或者矩形。例如,本公开至少一实施例提供的显示面板中,所述第一子绝缘层的材料包括负性光刻胶材料,所述第二子绝缘层的材料包括正性光刻胶材料或无机材料。例如,本公开至少一实施例提供的显示面板还包括:衬底基板,用于支撑所述显示区和所述周边区;驱动电路,在所述显示区中位于所述衬底基板上,用于驱动所述多个像素单元,其中,所述绝缘层覆盖所述驱动电路。例如,本公开至少一实施例提供的显示面板还包括:对置基板和封框胶,其中,所述封框胶覆盖所述凹槽,将所述对置基板结合在所述显示面板上。本公开至少一实施例提供一种显示面板的制备方法,包括:形成显示区和用于密封的周边区,包括:在所述显示区和所述周边区中形成绝缘层,在所述周边区中在所述绝缘层中形成凹槽,在所述显示区中在所述绝缘层上形成用于多个像素单元的发光元件层,其中,所述发光元件层包括发光层。例如,本公开至少一实施例提供的制备方法中,所述绝缘层形成为至少在所述周边区的表面具有疏液性质。例如,本公开至少一实施例提供的制备方法中,形成所述发光元件层包括形成像素界定层,其中,所述像素界定层包括分别用于所述多个像素单元的多个像素开口,所述发光层形成为至少覆盖所述多个像素开口。例如,本公开至少一实施例提供的制备方法中,采用喷墨打印、旋涂或者喷涂的方式形成所述发光层,并且形成的所述发光层的材料延伸至所述凹槽中。例如,本公开至少一实施例提供的制备方法中,形成所述绝缘层包括:形成第一子绝缘层,所述第一子绝缘层具有第一凹槽部分,在所述第一子绝缘层上形成第二子绝缘层,所述第二子绝缘层具有与所述第一凹槽部分连通的开口,其中,所述第一凹槽部分和所述开口构成所述凹槽。例如,本公开至少一实施例提供的制备方法中,所述第二子绝缘层采用具有疏液性质的材料形成,或者对所述第二子绝缘层的位于所述周边区的表面进行表面处理,以使所述第二子绝缘层的位于所述周边区的表面具有疏液性质。例如,本公开至少一实施例提供的制备方法中,采用Ar、N2、CF4或O2的等离子体进行所述表面处理。例如,本公开至少一实施例提供的制备方法还包括:提供衬底基板,用于支撑所述显示区和所述周边区;其中,形成所述显示区还包括:在所述衬底基板上形成用于所述多个像素单元的驱动电路,其中,所述绝缘层形成在所述驱动电路上。例如,本公开至少一实施例提供的制备方法还包括:提供对置基板,且将所述对置基板通过封框胶结合在显示面板上,其中,所述封框胶覆盖所述凹槽。本公开至少一实施例提供一种显示装置,包括上述任一的显示面板。附图说明为了更清楚地说明本公开实施例的技术方案,下面将对实施例的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅涉及本公开的一些实施例,而非对本公开的限制。图1A为一种显示面板的截面示意图;图1B为一种显示面板的平面示意图;图2为一种显示面板中水、氧等杂质进入路线的示意图;图3A为另一种显示面板的截面示意图;图3B为另一种显示面板的平面示意图;图4为另一种显示面板中水、氧等杂质进入路线的示意图;图5A为本公开一些实施例提供的一种显示面板的截面示意图;图5B为本公开一些实施例提供的一种显示面板的平面示意图;图6为本公开一些实施例提供的另一种显示面板的平面示意图;图7A为本公开一些实施例提供的再一种显示面板的截面示意图;图7B为本公开一些实施例提供的再一种显示面板的平面示意图;图8A-8D为本公开一些实施例提供的显示面板在制备过程中的截面示意图;图9为本公开一些实施例提供的同时形成多个显示面板的平面示意图;图10为本公开一些实施例提供的一种显示装置的示意图。具体实施方式为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本公开实施例的附图,对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例是本公开的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例,本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本公开保护的范围。除非另外定义,本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性,而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同,而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接,而是可以包括电性的连接,不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系,当被描述对象的绝对位置改变后,则该相对位置关系也可能相应地改变。通常来说,在显示面板的一种结构中,对置基板和阵列基板通过封框胶彼此结合,从而本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板,具有显示区和用于密封的周边区,包括:/n绝缘层,在所述显示区和所述周边区中,/n其中,所述绝缘层在所述周边区中包括凹槽,在所述显示区中于所述绝缘层上形成有用于多个像素单元的发光元件层,所述发光元件层包括发光层。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示面板,具有显示区和用于密封的周边区,包括:
绝缘层,在所述显示区和所述周边区中,
其中,所述绝缘层在所述周边区中包括凹槽,在所述显示区中于所述绝缘层上形成有用于多个像素单元的发光元件层,所述发光元件层包括发光层。


2.根据权利要求1所述的显示面板,其中,所述凹槽的纵截面呈正梯形或者倒梯形。


3.根据权利要求1所述的显示面板,其中,所述发光元件层还包括像素界定层,
所述像素界定层包括分别用于多个像素单元的多个像素开口,
所述发光层至少覆盖所述多个像素开口;
其中,所述凹槽与所述像素开口的平面形状和尺寸相同,或者所述凹槽的平面尺寸大于所述像素开口的平面尺寸。


4.根据权利要求3所述的显示面板,其中,所述绝缘层在所述周边区中包括多个所述凹槽,
所述多个像素开口呈第一阵列排布,所述多个凹槽呈第二阵列排布,所述第一阵列和第二阵列具有相同排布方向以及在所述排布方向上具有相同的节距。


5.根据权利要求1所述的显示面板,其中,所述绝缘层的位于所述周边区的表面具有疏液性质。


6.根据权利要求1所述的显示面板,其中,所述发光层至少部分延伸至所述凹槽中。


7.根据权利要求1-6任一所述的显示面板,其中,所述绝缘层包括:
第一子绝缘层,具有第一凹槽部分,
第二子绝缘层,层叠在所述第一子绝缘层上,具有与所述第一凹槽部分连通的开口,
所述第一凹槽部分和所述开口构成所述凹槽。


8.根据权利要求7所述的显示面板,其中,所述第一凹槽部分的纵截面呈正梯形,所述开口的纵截面呈倒梯形或者矩形。


9.根据权利要求7所述的显示面板,其中,所述第一子绝缘层的材料包括负性光刻胶材料,所述第二子绝缘层的材料包括正性光刻胶材料或无机材料。


10.根据权利要求1所述的显示面板,还包括:
衬底基板,用于支撑所述显示区和所述周边区;
驱动电路,在所述显示区中位于所述衬底基板上,用于驱动所述多个像素单元,
其中,所述绝缘层覆盖所述驱动电路。


11.根据权利要求1所述的显示面板,还包括:
对置基...

【专利技术属性】
技术研发人员:孙力侯文军罗程远
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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