盖玻璃和具有盖玻璃的电子装置以及制造盖玻璃的方法制造方法及图纸

根据实施例，一种盖玻璃包括：玻璃板，形成电子装置的至少一部分；以及第一涂层，沉积在所述玻璃板的表面上，所述第一涂层至少部分地包括网状结构。所述第一涂层包括硅(Si)、氧(O)和至少一种杂质，并且使得Si‑O键为所述第一涂层的80重量％或更大。涂覆有聚硅氮烷的涂层铺设在增强玻璃板的一个表面上，提供优雅的雾感玻璃盖。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】盖玻璃和具有盖玻璃的电子装置以及制造盖玻璃的方法
本公开的各种实施例涉及盖玻璃和具有盖玻璃的电子装置以及制造盖玻璃的方法。
技术介绍
术语“电子装置”可表示根据其配备的程序执行特定功能的装置，诸如家用电器、电子调度器、便携式多媒体播放器、移动通信终端、平板PC、视频/声音装置、台式PC或膝上型计算机、汽车导航系统等。例如，电子装置可将存储的信息输出为语音或图像。随着电子装置高度集成，并且高速、高容量的无线通信变得常见，诸如移动通信终端的电子装置近来已配备有各种功能。例如，电子装置具有集成功能，包括娱乐功能(诸如玩视频游戏)、多媒体功能(诸如重放音乐/视频)、用于移动银行的通信和安全功能以及日程安排或电子钱包功能。近来重视智能电话、膝上型计算机或其他电子装置的纤薄化和紧凑性的趋势引起了对采用优雅的玻璃部件作为电子装置的外部材料的尝试。此外，正在开发各种表面处理技术，以除美学效果之外还提供功能效果。上述信息仅作为背景信息呈现以帮助理解本公开。至于任何以上内容是否可适于作为针对本公开的现有技术，尚未做出确定，也未做出断言。...

【技术保护点】
1.一种电子装置的盖玻璃，包括：/n玻璃板(400)，形成所述电子装置(300)的至少一部分；以及/n第一涂层(430)，设置在所述玻璃板的表面上，所述第一涂层至少部分地包括网状结构，/n其中，所述第一涂层包括硅(Si)、氧(O)和至少一种杂质，并且/n其中，Si-O键至少为所述第一涂层的质量的80重量％。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171114 KR 10-2017-01517791.一种电子装置的盖玻璃，包括：
玻璃板(400)，形成所述电子装置(300)的至少一部分；以及
第一涂层(430)，设置在所述玻璃板的表面上，所述第一涂层至少部分地包括网状结构，
其中，所述第一涂层包括硅(Si)、氧(O)和至少一种杂质，并且
其中，Si-O键至少为所述第一涂层的质量的80重量％。


2.如权利要求1所述的盖玻璃，其中，所述第一涂层通过热处理(920，925)硬化为至少2200MPa。


3.如权利要求2所述的盖玻璃，其中，所述第一涂层的所述网状结构包括：
一个或更多个突起和凹入形状(2A)，具有沿着纵向方向的预定节距和沿着与所述纵向方向垂直的方向的预定高度，并且
其中，所述一个或更多个突起和凹入形状的所述预定节距在20μm至60μm的范围内，并且所述突起和凹入形状的所述高度在0.5μm至0.9μm的范围内。


4.如权利要求2所述的盖玻璃，其中，所述第一涂层的所述网状结构具有突起和凹入形状，所述突起和凹入形状具有沿着纵向方向的预定节距和沿着与所述纵向方向垂直的方向的预定高度，并且
其中，所述高度与所述预定节距的比在0.004至0.015的范围内。


5.如权利要求3所述的盖玻璃，其中，所述第一涂层(904-930)具有在5％至35％的范围内的雾度和91％或更小的透光率。


6.如权利要求3所述的盖玻璃，其中，所述第一涂层的包括所述一个或更多个突起和凹入形状的所述网状结构产生表面粗糙度，并且
其中，所述第一涂层的所述表面粗糙度的平均值(Ra)具有在100nm至300nm的范围内的值，或者所述第一涂层的所述表面粗糙度的均方根(RMS)粗糙度具有在130nm至400nm的范围内的值。


7.如权利要求2所述的盖玻璃，其中，所述第一涂层包括具有指定厚度的一个或更多个突起和凹入形状，
其中，所述一个或更多个突起和凹入形状(2A)包括多个谷和多个峰(2A)，并且
其中，所述谷表示所述第一涂层的厚度在300nm至600nm的范围内的部分，并且所述峰表示所述第一涂层的厚度在0.6μm至2μm的范围内的部分。


8.如权利要求2所述的盖玻璃，所述盖玻璃还包括：第二涂层(450)，设置在所述第一涂层(430)的表面上，并且具有与所述第一涂层的所述网状结构对应的形状，
其中，所述第二涂层包括氟链或烃链。


9.如权利要求8所述的盖玻璃，其中，所述第二涂层被构造为提供抗指纹可见性，并且其中，根据以...

【专利技术属性】
技术研发人员：金昱泰，金仁基，李知远，李昌洙，李炯珍，曹圭河，曹榕显，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国;KR