产生双图案光罩的处理方法以及其记录媒体技术

本发明专利技术提供一种产生双图案光罩的处理方法。处理方法包括取得接触窗分布图案，该接触窗分布图案包含多个接触窗。对该多个接触窗依照接触窗种类分类成阵列型、成对型、或是独立型的多个接触窗区块。拆解该多个接触窗成为第一图案群与第二图案群，其之间是交叉配置。第一图案群与该第二图案群的接触窗数量在误差范围内是一致。检查该第一图案群与该第二图案群是否有相邻二接触窗之间的距离小于最小距离，如果有改变该相邻二接触窗其一的当前图案群。输出该第一图案群或该第二图案群，以进行制造对应的第一光罩与第二光罩。

【技术实现步骤摘要】
产生双图案光罩的处理方法以及其记录媒体
本专利技术涉及一种半导体制造技术，尤其涉及一种产生双图案光罩的处理方法。
技术介绍
由于所要形成的光阻图案是利用光罩对光阻层通过光源照射，以将光罩的图案转换到光阻层上，其中无可避免在光阻层的图案，相对于光源的波长，例如黄光，其会有光学绕射效应而产生图案放大与变形。为了避免光罩上的接触窗过于接近，导致光学绕射效应造成元件结构的不当连接，其可以将原本单个光罩，分为两个光罩来完成，如此可降低光罩的接触窗密度，减少光学绕射效应。然而，如何适当将单个光罩的接触窗图案，拆解(decomposition)为两个光罩是需要实际研发。
技术实现思路
本专利技术提供一种产生双图案光罩的处理方法的技术，可以适当将一个光罩的多个接触窗，系统性地拆解成两个光罩，其两个光罩的接触窗数量接近，且接触窗密度可以仍为均匀的分布。在一实施例中，本专利技术提供一种产生双图案光罩的处理方法，由处理装置执行。处理方法包括进行接触窗相位拆解，其中针对属于该阵列型、该成对型及该独立型分别的该多个接触窗，以最佳化参数本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种产生双图案光罩的处理方法，由处理装置执行，包括：/n取得接触窗分布图案，所述接触窗分布图案包含多个接触窗；/n将所述多个接触窗依照多个接触窗尺寸分类成多种接触窗群；/n对所述多种接触窗群分别的每一种的所述多个接触窗，识别出阵列型、成对型、或是独立型的多个接触窗区块；/n进行接触窗相位拆解，其中针对属于所述阵列型、所述成对型及所述独立型分别的所述多个接触窗，以最佳化参数分别拆解成为第一图案群与第二图案群；/n进入循环处理步骤，所述循环处理步骤包括：/n依照接触窗相位规则检查，对所述第一图案群与所述第二图案群检查是否有产生冲突处；/n如果有产生所述冲突处，改变进行所述第一图案群与所述第二图...

【技术特征摘要】
1.一种产生双图案光罩的处理方法，由处理装置执行，包括：
取得接触窗分布图案，所述接触窗分布图案包含多个接触窗；
将所述多个接触窗依照多个接触窗尺寸分类成多种接触窗群；
对所述多种接触窗群分别的每一种的所述多个接触窗，识别出阵列型、成对型、或是独立型的多个接触窗区块；
进行接触窗相位拆解，其中针对属于所述阵列型、所述成对型及所述独立型分别的所述多个接触窗，以最佳化参数分别拆解成为第一图案群与第二图案群；
进入循环处理步骤，所述循环处理步骤包括：
依照接触窗相位规则检查，对所述第一图案群与所述第二图案群检查是否有产生冲突处；
如果有产生所述冲突处，改变进行所述第一图案群与所述第二图案群的互换微调；
对所述第一图案群与所述第二图案群进行统计分析，检查所述第一图案群与所述第二图案群在允许的误差范围内是否一致，当一致时输出所述第一图案群与所述第二图案群；以及
当所述第一图案群与所述第二图案群不一致时，进行接触窗相位切换修正，且回到所述循环处理步骤继续循环处理，
其中如果循环次数超过一数量，则停止循环且发出失败通知。


2.根据权利要求1所述的产生双图案光罩的处理方法，其中对所述第一图案群与所述第二图案群进行统计分析的所述步骤包括：
计算接触窗相位拆解后的所述第一图案群与所述第二图案群分别的总接触窗数量；
依照统计的标准偏差值，对所述多个接触窗尺寸分别统计，得到所述第一图案群与所述第二图案群之间的比例；以及
决定拆解成所述第一图案群与所述第二图案群后的整体的拆解效率，当所述拆解效率在50-50％的合理范围内且所述标准偏差值(3sigma)小于设定值时，输出所述第一图案群与所述第二图案群。


3.根据权利要求1所述的产生双图案光罩的处理方法，
其中所述阵列型是相邻设定距离内三个或更多个尺寸相同接触窗，以一维或是二维规则分布，
其中所述成对型是相邻设定距离内二个尺寸相同接触窗，以接触窗边界互为平行且有重叠的分布；以及
其中所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄建清，曾士珉，
申请(专利权)人：华邦电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71