光学测试系统技术方案

技术编号:24633266 阅读:47 留言:0更新日期:2020-06-24 13:11
本实用新型专利技术提供一种光学测试系统,包括激光器、电源、光路调节结构、样品承载结构、第一聚焦透镜、分光器及处理器,样品承载结构包括样品室和样品台,样品台设置于样品室中,样品台用于承载样品,光路调节结构、样品承载结构依次设置于激光器的出射光路上,电源与样品电性连接,第一聚焦透镜、分光器、处理器依次设置于样品的激发光的出射光路上,分光器位于第一聚焦透镜的后焦平面。激光器、光路调节结构、样品承载结构、第一聚焦透镜、分光器及处理器用于对样品进行光致发光测试;电源、样品承载结构、第一聚焦透镜、分光器及处理器用于对样品进行电致发光测试,从而能够同时对样品进行光致发光测试和电致发光测试,提升了测试效率。

Optical test system

【技术实现步骤摘要】
光学测试系统
本技术涉及光电器件测试
,尤其涉及一种光学测试系统。
技术介绍
对于半导体光电材料,评价其性能及了解其内部各种机理的重要、不可替代的手段是光致发光、电致发光测量。光致发光测量是通过激光器发射的激光激发半导体光电材料并通过光谱学的方法测量半导体光电材料的发光性能及其谱特征,据此获得半导体光电材料的相关信息。电致发光测量是通过给半导体光电材料注入电流或电压,使其激发产生光子并通过光谱学的方法测量半导体光电材料的发光性能及其谱特征,据此获得半导体光电材料的相关信息。目前的光学测试系统只有进行单一的测试,只能是单独的光致发光测试,或者单独的电致发光测试,如果需要同时进行光致发光测试和电致发光测试,需要将测试样品在两个系统之间来回转换,因此,测试过程比较复杂,大大降低了测试效率。
技术实现思路
为了解决现有技术的不足,本技术提供一种光学测试系统,能够同时进行光致发光测试和电致发光测试,提升了测试效率。本技术提出的具体技术方案为:提供一种光学测试系统,所述光学测试系统包括激光器、电源、光路调节结构、样品承载结构、本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学测试系统,其特征在于,包括激光器、电源、光路调节结构、样品承载结构、第一聚焦透镜、分光器及处理器,所述样品承载结构包括样品室和样品台,所述样品台设置于样品室中,所述样品台用于承载样品,所述光路调节结构、样品承载结构依次设置于所述激光器的出射光路上,所述电源与所述样品电性连接,所述第一聚焦透镜、分光器、处理器依次设置于所述样品的激发光的出射光路上,所述分光器位于所述第一聚焦透镜的后焦平面,所述激光器的中心波长小于所述样品的光致发光波长。/n

【技术特征摘要】
1.一种光学测试系统,其特征在于,包括激光器、电源、光路调节结构、样品承载结构、第一聚焦透镜、分光器及处理器,所述样品承载结构包括样品室和样品台,所述样品台设置于样品室中,所述样品台用于承载样品,所述光路调节结构、样品承载结构依次设置于所述激光器的出射光路上,所述电源与所述样品电性连接,所述第一聚焦透镜、分光器、处理器依次设置于所述样品的激发光的出射光路上,所述分光器位于所述第一聚焦透镜的后焦平面,所述激光器的中心波长小于所述样品的光致发光波长。


2.根据权利要求1所述的光学测试系统,其特征在于,所述光学测试系统还包括滤光片,所述滤光片、光路调节结构、样品承载结构依次设置于所述激光器的出射光路上。


3.根据权利要求1所述的光学测试系统,其特征在于,所述光路调节结构包括反射器、第二聚焦透镜,所述反射器、第二聚焦透镜依次设置于所述激光器的出射光路上,所述样品位于所述第二聚焦透镜的后焦平面上。


4.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员:吴栋颖杨文献赵宇坤李雪飞陆书龙
申请(专利权)人:中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
类型:新型
国别省市:江苏;32

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