【技术实现步骤摘要】
一种防微振平台
本技术涉及洁净厂房的防微振建筑结构的
,尤其涉及一种防微振平台。
技术介绍
在集成电路生产过程中,由于线宽尺寸越来越小,受制于环境的因素也越来越多,从一块硅片开始到一块芯片产出,中间要经过几百道物理、化学的加工工序。在此期间,如果遭受任何污染,就会产生大量问题产品,如光刻工序,很小的微振动会引起对焦不准,曝光后的线路模糊,降低产品的成品率。除了对防微振动的要求,集成电路在生产过程中对空气的质量要求也比较高,空气在生产厂房内的滞留会携带较多的尘埃、颗粒、水汽、细菌等,不利于集成电路的生产。如图1所示,目前硅集成电路前工序工艺生产洁净厂房的FAB层(即工艺层)一般单独采用华夫板1(即waffle)的结构形式建成防微振平台,具体的,在支撑柱2之间以及由支撑柱2围成的区域内都是采用华夫板1的结构形式。在FAB层上设置有穿透FAB层的通孔3,满足净化空气从上而下垂直层流的功能。但是采用该设置方式所建成的防微振平台,在竖直方向上的刚度较差。
技术实现思路
本技术提供一种防微振平台,以提高工艺层的刚度,改善工艺层的微振现象。本技术提供了一种防微振平台,该防微振平台包括沿竖直方向层叠的工艺层及回风层,其中,工艺层位于回风层的上方,且工艺层及回风层间隔设置以形成第一回风夹道。该防微振平台还包括环绕设置在工艺层上的第一围护墙、以及环绕设置在回风层上的第二围护墙。其中,第一围护墙及第二围护墙间隔设置以形成第二回风夹道,且第一回风夹道与第二回风夹道连通。上述防微振平台还包括设置在第一围护 ...
【技术保护点】
1.一种防微振平台,其特征在于,包括:/n沿竖直方向层叠的工艺层(11)及回风层(12),其中,所述工艺层(11)位于所述回风层(12)的上方;且所述工艺层(11)及所述回风层(12)间隔设置以形成第一回风夹道(13);/n环绕设置在所述工艺层(11)上的第一围护墙(21),以及环绕设置在所述回风层(12)上的第二围护墙(22);所述第一围护墙(21)及所述第二围护墙(22)间隔设置以形成第二回风夹道(23),且所述第一回风夹道(13)与所述第二回风夹道(23)连通;/n设置在所述第一围护墙(21)顶部且与所述工艺层(11)相对的过滤器(30),且所述过滤器(30)与所述第二回风夹道(23)连通;/n用于支撑所述工艺层(11)及所述回风层(12)且阵列排列的多个支撑柱(40);/n其中,所述工艺层(11)包括位于每排支撑柱(40)或每列支撑柱(40)中相邻的两个支撑柱(40)之间的cheese板(51)、以及位于由所述cheese板(51)围成的口字形区域内的华夫板(52);且所述cheese板(51)及所述华夫板(52)上设置有与所述第一回风夹道(13)连通的通孔(50)。/n
【技术特征摘要】
1.一种防微振平台,其特征在于,包括:
沿竖直方向层叠的工艺层(11)及回风层(12),其中,所述工艺层(11)位于所述回风层(12)的上方;且所述工艺层(11)及所述回风层(12)间隔设置以形成第一回风夹道(13);
环绕设置在所述工艺层(11)上的第一围护墙(21),以及环绕设置在所述回风层(12)上的第二围护墙(22);所述第一围护墙(21)及所述第二围护墙(22)间隔设置以形成第二回风夹道(23),且所述第一回风夹道(13)与所述第二回风夹道(23)连通;
设置在所述第一围护墙(21)顶部且与所述工艺层(11)相对的过滤器(30),且所述过滤器(30)与所述第二回风夹道(23)连通;
用于支撑所述工艺层(11)及所述回风层(12)且阵列排列的多个支撑柱(40);
其中,所述工艺层(11)包括位于每排支撑柱(40)或每列支撑柱(40)中相邻的两个支撑柱(40)之间的cheese板(51)、以及位于由所述cheese板(51)围成的口字形区域内的华夫板(52);且所述cheese板(51)及所述华夫板(52)上设置有与所述第一回风夹道(13)连通的通孔(50)。
2.如权利要求1所述的防微振平台,其特征在于,每个支撑柱(40)包括第一支撑柱(41)以及第二支撑柱(42);其中,所述第二支撑柱(42)的端面面积小于所述第一支撑柱(41)的端面面积,所述第一支撑柱(41)的横截面的形状为倒置的等腰梯形;
所述第一支撑柱(41)与所述cheese板(51)固定连接;所述第二支撑柱(42)穿过所述回风层(12)并与所述第一支撑柱(41)固定连接,且所述第二支撑柱(42)与所述回风层(12)固定连接。
3.如权利要求1所述的防微振平台,其特征在于,每排支撑柱(40)或每列支撑柱(40)中相邻的两个支撑柱(40)之间设置有连接所述两个支撑柱(40)的钢筋砼梁(511),位于所述相邻的两个支撑柱(40)之间的通孔(50)设置在所述钢筋砼梁(511)上,以在所述相邻的两个支撑柱(40)之间形成所述cheese板(51)。
4.如权利要求3所述的防微振平台,其特征在于...
【专利技术属性】
技术研发人员:赵广鹏,冯晓伟,胡斌,徐建雄,
申请(专利权)人:世源科技工程有限公司,
类型:新型
国别省市:北京;11
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