【技术实现步骤摘要】
显示装置用基板及其制造方法、以及这些中使用的防反射层用树脂组合物溶液
本专利技术涉及一种显示装置用基板及其制造方法、以及这些中使用的防反射层用树脂组合物溶液，更详细而言涉及一种具有遮光膜的显示装置用基板及其制造方法、以及这些中使用的防反射层用树脂组合物溶液。
技术介绍
在液晶显示器等显示装置中，出于提高对比度或防止漏光等目的，而在红、绿、蓝等各像素的边界处形成有格子状、条纹状或镶嵌(mosaic)状的黑色矩阵(BlackMatrix)等遮光膜。作为此种遮光膜，已知使用含有黑色颜料等遮光成分的感光性树脂组合物并形成于透明基板上的遮光膜，但在具有表面配置有此种遮光膜的透明基板的显示装置中，自透明基板侧入射的光会在遮光膜的表面(与透明基板的界面)发生反射，因此存在周围放置的物体等会映入画面的问题。因此，为了解决此种映入等问题，研究了抑制光在遮光膜表面的反射的方法。例如，在国际公开第2010/070929号(专利文献1)中记载了：在具有透明基板与遮光层的显示面板用基板中，通过在透明基板上设置作为遮光层的光学浓度不同的...
【技术保护点】
1.一种显示装置用基板，其特征在于，包括：/n透明基板；以及/n遮光膜，所述遮光膜包括：配置于所述透明基板上，含有折射率为1.2～1.8的无机填料及透明树脂硬化物，且平均厚度为0.01μm～1μm的防反射层；以及配置于所述防反射层上，含有选自由有机黑色颜料、无机黑色颜料及混色伪黑色颜料所组成的群组中的至少一种遮光成分及树脂硬化物，且平均厚度为0.1μm～30μm的遮光层，并且所述防反射层与所述遮光层的界面处的所述防反射层的表面粗糙度为40nm～200nm。/n
【技术特征摘要】
20181214 JP 2018-2343821.一种显示装置用基板，其特征在于，包括：
透明基板；以及
遮光膜，所述遮光膜包括：配置于所述透明基板上，含有折射率为1.2～1.8的无机填料及透明树脂硬化物，且平均厚度为0.01μm～1μm的防反射层；以及配置于所述防反射层上，含有选自由有机黑色颜料、无机黑色颜料及混色伪黑色颜料所组成的群组中的至少一种遮光成分及树脂硬化物，且平均厚度为0.1μm～30μm的遮光层，并且所述防反射层与所述遮光层的界面处的所述防反射层的表面粗糙度为40nm～200nm。
2.根据权利要求1所述的显示装置用基板，其特征在于，所述无机填料的平均粒径为25nm～300nm。
3.根据权利要求1或2所述的显示装置用基板，其特征在于，相对于所述防反射层整体，所述无机填料的含量为5质量％～95质量％。
4.一种显示装置用基板的制造方法，所述显示装置用基板包括透明基板以及配置于所述透明基板上的包括防反射层及遮光层的遮光膜，所述显示装置用基板的制造方法的特征在于，包括：
在所述透明基板上，形成含有折射率为1.2～1.8的无机填料及光硬化性透明树脂、平均厚度为0.01μm～1μm且表面粗糙度为40nm～200nm的防反射层用树脂组合物层的步骤；
在所述防反射层用树脂组合物层上，形成含有选自由有机黑色颜料、无机黑色颜料及混色伪黑色颜料所组成的群组中的至少一种遮光成分及光硬化性树脂的遮光层用树脂组合物层的步骤；以及
对所述防反射层用树脂组合物层及所述遮光层用树脂组合物层一并实施曝光处理后，一并实施显影处理，并且实施后烘烤，而形成含有所述无机填料及透明树脂硬化物的防反射层以及含有所述遮光成分及树脂硬化物且平均厚度为0.1μm～30μm的遮光层的步骤。
5.根据权利要求4所述的显示装置用基板的制造方法，其特征在于，所述防反射层用树脂组合物层中的光硬化性透明树脂及所述遮光层用树脂组合物层中的光硬化性树脂均为碱可溶性，所述显影处理为碱显影处理。
6.一种显示装置用基板的制造方法，所述显示装置用基板包括透明基板以及配置于所述透明基板上的包括防反射层及遮光层的遮光膜，所述显示装置用基板的制造方法的特征在于，包括：
在所述透明基板上，对含有折射率为1.2～1.8的无机填料及热硬化性透明树脂与热硬化性单体中的至少...
【专利技术属性】
技术研发人员：小野悠树，
申请(专利权)人：日铁化学材料株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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