可变点阵全息隐形图案成型方法技术

本发明专利技术公开了一种可变点阵全息隐形图案成型方法，包括：设计微结构图案；将微结构图案绘制成光栅点阵；光栅点阵送至铂金浮雕机，铂金浮雕机将光栅点阵参数解读并传送至激光器，激光器将光栅点阵激光蚀刻在光刻胶版上；将蚀刻过的光刻胶版经由显影液显影出图案以成为光刻母片；根据印刷载体，光刻母片将图案转印至定位转移膜、电化铝、复合纸或薄膜上。本方法改变传统的机械切割技术，自主设计微结构图案，再将微结构图案绘制成光栅点阵，依次通过铂金浮雕机和激光器将光栅点阵激光蚀刻在光刻胶版，并形成光刻母片以将图案转印至各类产品上，使得用户在产品表观上看不到图形内容，达到隐形防伪的目的。

Forming method of variable lattice holographic invisible pattern

【技术实现步骤摘要】
可变点阵全息隐形图案成型方法
本专利技术涉及全息点阵光刻技术，特别涉及可变点阵全息隐形图案成型方法。
技术介绍
传统的全息点阵光刻技术，主要是利用镭射点阵光斑在光刻胶版雕刻，先利用传统机械切割技术将在金属遮罩片上切出所需要的形状和大小，如方形、圆形等，激光透过金属遮罩片形成方形或圆形光斑并在光刻胶版雕刻，最终转印到产品上。现有的点阵光刻技术往往光斑点单一，图案不可变，导致光斑点无法有过多的变化。
技术实现思路
本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本专利技术提出一种可变点阵全息隐形图案成型方法，其能够根据自主设计图案制作具有隐形防伪功能的产品。根据本专利技术实施例的可变点阵全息隐形图案成型方法，包括以下步骤：步骤一、设计微结构图案；步骤二、将微结构图案绘制成光栅点阵；步骤三、光栅点阵送至铂金浮雕机，铂金浮雕机将光栅点阵参数解读并传送至激光器，激光器将光栅点阵激光蚀刻在光刻胶版上；步骤四、将蚀刻过的光刻胶版经由显影液显影出图案以成为光刻母片；步骤五、根据印刷载体，光刻母片将图案转印至定位转移膜、电化本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.可变点阵全息隐形图案成型方法，其特征在于，包括以下步骤：/n步骤一、设计微结构图案；/n步骤二、将微结构图案绘制成光栅点阵；/n步骤三、光栅点阵送至铂金浮雕机，铂金浮雕机将光栅点阵参数解读并传送至激光器，激光器将光栅点阵激光蚀刻在光刻胶版上；/n步骤四、将蚀刻过的光刻胶版经由显影液显影出图案以成为光刻母片；/n步骤五、根据印刷载体，光刻母片将图案转印至定位转移膜、电化铝、复合纸或薄膜上。/n

【技术特征摘要】
1.可变点阵全息隐形图案成型方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤一、设计微结构图案；
步骤二、将微结构图案绘制成光栅点阵；
步骤三、光栅点阵送至铂金浮雕机，铂金浮雕机将光栅点阵参数解读并传送至激光器，激光器将光栅点阵激光蚀刻在光刻胶版上；
步...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈维斌，陈敏辉，刘振江，
申请(专利权)人：珠海市瑞明科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44