无水分基质加入过氧化物源制备口腔产品的方法技术

无水分基质加入过氧化物源制备口腔产品的方法，属口腔产品技术领域。无水分基质中加入过氧化物源制备口腔产品时，还加入占无水分基质重量0.002％～1.0％的氢氧化镁或碳酸镁；所述无水分基质由丙二醇、气相二氧化硅、聚乙烯吡咯烷酮组成，三者的重量配比范围为1:0.03～0.15:0.01～0.08；所述的过氧化物源是过氧化脲、或过氧化钙、或过碳酸盐、或过硼酸盐、或过氧化氢、或聚乙烯吡咯烷酮过氧化氢的络合物。有益效果：不但能使产品中的过氧化物源保持稳定，而且可以调高口腔产品的pH值，从而提高口腔产品的使用性能，不致因为pH过低造成对牙齿的损害。

The method of preparing oral products without water matrix and peroxide source

【技术实现步骤摘要】
无水分基质加入过氧化物源制备口腔产品的方法
本专利技术属口腔产品

技术介绍
过氧化物是指含有过氧基-O-O-的化合物。分子中含有过氧离子是其特征。它们溶于水后，形成过氧化氢，过氧化氢的氧元素处于高价状态，它能自身发生氧化还原，一个氧变成-2价，一个氧变成0价，就是氧原子，又称新生态氧，氧原子不稳定，能夺去细菌的电子变成稳定的-2价氧离子，达到杀菌的作用。产生新生态氧的过程可以理解H2O2被激活的过程，H2O2在一般正常情况下，只会缓慢分解成水和氧气，分解速度极其慢，但是很多物质都会加快其分解的速度，从而产生新生态氧。有机物、金属离子、短波射线等都可以使其分解速度加快。这样就使得这类物质只能单独使用，很难制成制剂使用。申请号为201910227205.6的中国专利技术专利申请文件公布了“一种用于口腔产品的无水分基质”，所述基质由丙二醇、气相二氧化硅、聚乙烯吡咯烷酮组成。向该基质加入过氧化物源若按通常方法制备出口腔产品，产品的pH值偏低，虽然这对稳定含过氧化物源有利，但过低的pH又会对口腔产品的某些使用性能造成不利影响。例如：低p本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种无水分基质加入过氧化物源制备口腔产品的方法，其特征在于：/n无水分基质中加入过氧化物源制备口腔产品时，还加入占无水分基质重量0.002％～1.0％的氢氧化镁或碳酸镁；/n所述无水分基质由丙二醇、气相二氧化硅、聚乙烯吡咯烷酮组成，三者的重量配比范围为1:0.03～0.15:0.01～0.08；/n所述的过氧化物源是过氧化脲、或过氧化钙、或过碳酸盐、或过硼酸盐、或过氧化氢、或聚乙烯吡咯烷酮过氧化氢的络合物。/n

【技术特征摘要】
1.一种无水分基质加入过氧化物源制备口腔产品的方法，其特征在于：
无水分基质中加入过氧化物源制备口腔产品时，还加入占无水分基质重量0.002％～1.0％的氢氧化镁或碳酸镁；
所述无水分基质由丙二醇、气相二氧化硅、聚乙烯吡咯烷酮组成，三者的重量配比范围为1:0.03～0.15:0.01～0.08；
所述的过氧化物源是过氧化脲、或过...

【专利技术属性】
技术研发人员：张磊，陆可望，史晓军，
申请(专利权)人：昆明野水生物科技有限公司，
类型：发明
国别省市：云南;53