【技术实现步骤摘要】
精密调节的激光干涉比长基准装置
本技术涉及一种激光干涉比长基准装置,尤其是一种高精度、高稳定、可溯源的激光干涉比长基准装置。
技术介绍
激光比长装置主要用于测量线纹距离的精密长度测量工具。比长装置一般采用测量显微镜或光电显微镜作为瞄准定位部件,并以精密线纹尺的刻度或光波波长作为已知长度,与被测长度比较而确定量值。比长仪主要用于检定线纹尺,测量分划板上的线距和物理、天文类照相底片上的光波谱线距离,也可用于测量孔径。使用的时候,在尺架上加装被检线纹尺,然后调整光电读数显微镜瞄准线纹尺中轴。待测试环境条件达标后,启动伺服电机,承载尺架的滑台水平移动。当有线纹刻线通过光电读数显微镜瞄准中心时,光电读数显微镜输出一个电脉冲信号,触发控制系统对激光干涉仪采样,当前采样值与初始刻线的采样值相减,得到当前刻线与初始刻线的距离值,该距离值及当前刻线的长度量值。系统控制设备自动重复此过程,实现对线纹尺所有刻线长度量值检测。现有的激光比长装置采用气浮导轨来实现滑台的水平移动,其动态性能不够稳定,导致测量精度降低。技 ...
【技术保护点】
1.一种精密调节的激光干涉比长基准装置,包括地基以及地基上的基础承台;所述基础承台上安装有可左右滑动的滑台,滑台上固定有用于装配待测线纹尺的尺架;还包括用于测量的激光干涉测长系统和线纹读数系统;其特征在于:所述基础承台上沿滑台滑动方向铺设有精密承轨,所述精密承轨包括外轨和内轨;所述外轨为平面承轨,所述内轨为V型承轨;所述滑台底部设置有精密滑动副;所述精密滑动副包括与平面承轨配合的平面滑动副以及与V型承轨配合的V型滑动副。/n
【技术特征摘要】
1.一种精密调节的激光干涉比长基准装置,包括地基以及地基上的基础承台;所述基础承台上安装有可左右滑动的滑台,滑台上固定有用于装配待测线纹尺的尺架;还包括用于测量的激光干涉测长系统和线纹读数系统;其特征在于:所述基础承台上沿滑台滑动方向铺设有精密承轨,所述精密承轨包括外轨和内轨;所述外轨为平面承轨,所述内轨为V型承轨;所述滑台底部设置有精密滑动副;所述精密滑动副包括与平面承轨配合的平面滑动副以及与V型承轨配合的V型滑动副。
2.根据权利要求1所述的一种精密调节的激光干涉比长基准装置,其特征在于:还包括用于驱动滑台滑动的驱动装置,所述驱动装置包括与精密承轨平行的丝杠;...
【专利技术属性】
技术研发人员:汤江文,薛靓,杨桩,蒋丽,徐传娣,
申请(专利权)人:中国测试技术研究院机械研究所,
类型:新型
国别省市:四川;51
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