一种高光学稳定性的超窄带滤光片及其制备方法技术

技术编号:24570099 阅读:254 留言:0更新日期:2020-06-20 23:38
本发明专利技术公开一种高光学稳定性的超窄带滤光片及其制备方法,包括基底及设置在基底上的超窄带滤光膜。基底为FEP光学塑料,超窄带滤光膜为修正的三腔结构。膜系选用高折射率TiO

A super narrow band filter with high optical stability and its preparation method

【技术实现步骤摘要】
一种高光学稳定性的超窄带滤光片及其制备方法
本专利技术涉及一种高光学稳定性的超窄带滤光片及其制备方法,属于光学薄膜领域,可广泛应用于光学、光电和激光系统及仪器作为信号滤波器。
技术介绍
薄膜带通滤光片作为光学滤波器在光学、光谱学、激光、天文物理等领域具有不可替代的重要应用。表征带通滤光片特性的主要参数包括中心波长或峰值波长λ0、峰值透射率Tm和半宽度Δλ。如图1所示,半宽度是一半峰值透射率处的波长宽度,并常用Δλ/λ0表示相对宽度。Δλ/λ0大于5%的滤光片叫宽带滤光片,介于5%和1%之间的叫窄带滤光片,小于1%的叫超窄带滤光片。本专利技术中涉及的滤光片半宽度为1nm,相对宽度为1/530=0.19%,属典型的超窄带滤光片。超窄带滤光片使用时会遇到非常棘手的光学稳定性问题,所谓光学稳定性是指滤光片使用过程中随着使用环境的相对湿度和环境温度变化所产生的光学特性的不稳定性:即滤光片中心波长或峰值波长λ0、峰值透射率Tm和半宽度Δλ会随使用环境的相对湿度和环境温度的变化而变化,其中变化最大的是中心波长或峰值波长λ0的移动,习惯上称λ0的移动为本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高光学稳定性的超窄带滤光片,包括基底以及设置在所述基底上的超窄带滤光膜,其特征在于,所述的超窄带滤光膜的膜系结构为修正的三腔结构:S|

【技术特征摘要】
1.一种高光学稳定性的超窄带滤光片,包括基底以及设置在所述基底上的超窄带滤光膜,其特征在于,所述的超窄带滤光膜的膜系结构为修正的三腔结构:S|(HL)4H2LH(LH)4L(HL)4H4LH(LH)4L(HL)4H2LH(LH)4L’|A,其中,S表示滤光片基底,A表示入射媒质空气,H表示四分之一中心波长厚度的高折射率膜,L表示四分之一中心波长厚度的低折射率膜,L’为减反射膜。


2.根据权利要求1所述的高光学稳定性的超窄带滤光片,其特征在于,所述的高折射率膜为二氧化钛膜,所述的低折射率膜为二氧化硅膜,所述的减反射膜为氟化镁。


3.根据权利要求2所述的高光学稳定性的超窄带滤光片,其特征在于,所述的二氧化钛膜的热线膨胀系数为2.5×10-6/度,所述的二氧化硅膜的热线膨胀系数为0.7×10-6/度,所述的减反射膜氟化镁的热线膨胀系数为18×10-6/度;
所述的二氧化钛膜的折射率温度系数约为-0.57×10-6/度,所述的二氧化硅膜的折射率温度系数为1×10-5/度,所述的减反射膜氟化镁的折射率温度系数为2.3×10-5/度。


4.根据权利要求2所述的高光学稳定性的超窄带滤光片,其特征在于,所述的超窄带滤光膜的膜系中心波长λ0=530nm,所述的二氧化钛膜在波长530nm的折射率为2.44,所述的二氧化硅膜在波长530nm的折射率为1.46,所述的减反射膜在波长530nm的折...

【专利技术属性】
技术研发人员:吴江波金波艾曼灵李冰霞顾培夫刘璐
申请(专利权)人:杭州科汀光学技术有限公司
类型:发明
国别省市:浙江;33

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