表面处理组合物制造技术

本发明专利技术提供一种表面处理组合物，其含有含全氟聚醚基的硅烷化合物及溶剂，含全氟聚醚基的硅烷化合物相对于含全氟聚醚基的硅烷化合物及溶剂的总量的比例在30～99质量％的范围。

Surface treatment composition

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】表面处理组合物
本专利技术涉及表面处理组合物。
技术介绍
已知，某种含氟硅烷化合物如果用于基材的表面处理，则可以提供优异的拨水性、拨油性、防污性等。例如专利文献1中记载了一种表面处理组合物，其含有在分子主链具有全氟聚醚基、在分子末端或末端部具有与Si原子键合的能够水解的基团的含全氟聚醚基的硅烷化合物。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2016-138240号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术问题对于由这种表面处理组合物得到的层(以下有时称为“表面处理层”)要求具有良好的表面物性，并且进一步要求其表面物性的不均小。本专利技术的目的在于提供表面的物性(例如摩擦耐久性)的不均小的表面处理层。用于解决技术问题的技术方案含全氟聚醚基的硅烷化合物从要求良好的操作性等角度来看，有时以含有含全氟聚醚基的硅烷化合物及溶剂的组合物的形态使用。例如专利文献1的实施例中记载了一种表面处理组合物，其相对于含有含全氟聚醚基的硅烷化合物(以下有时称为“含PFPE硅烷化合物”)及溶剂的表面处理组合物100质量份，含有20质量份的含PFPE硅烷化合物。然而，根据本专利技术人的研究发现，在由如上所述的含有含PFPE基硅烷化合物20质量份及溶剂的表面处理组合物得到的层中，有时其表面物性会产生不均。根据本专利技术的第一要旨，提供一种表面处理组合物，其含有含全氟聚醚基的硅烷化合物及溶剂，含全氟聚醚基的硅烷化合物相对于含全氟聚醚基的硅烷化合物及溶剂的总量100质量份的比例在30～99质量份的范围。根据本专利技术的第二要旨，提供一种粒料，其含有上述本专利技术的表面处理组合物。根据本专利技术的第三的要旨，提供物品，其包括基材、以及在该基材的表面由上述本专利技术的表面处理组合物形成的层。专利技术效果根据本专利技术，能够提供有助于形成表面的物性(例如摩擦耐久性)的不均小的表面处理层的表面处理组合物。具体实施方式以下，对本专利技术的表面处理组合物进行说明。本专利技术的表面处理组合物含有含全氟聚醚基的硅烷化合物及溶剂，含全氟聚醚基的硅烷化合物相对于含全氟聚醚基的硅烷化合物及溶剂的总量100质量份的比例在30～99质量份的范围。(含PFPE硅烷化合物)作为上述含PFPE硅烷化合物，只要具有主要提供拨水性及表面滑动性等的含氟部及提供与其他物质的结合能力的硅烷部，则没有特别限定。在本说明书中，全氟聚醚基(以下也称为“PFPE”)是指聚醚基的氢原子全部被氟原子所取代的基团。在一个方式中，上述含PFPE硅烷化合物为由(A1)、(A2)、(B1)、(B2)、(C1)、(C2)、(D1)或(D2)表示的化合物。(Rf-PFPE)β1’-X3-(SiR13n1R143-n1)β1…(B1)(R143-n1R13n1Si)β1-X3-PFPE-X3-(SiR13n1R143-n1)β1…(B2)(Rf-PFPE)γ1’-X5(SiRak1Rbl1Rcm1)γ1…(C1)(Rcm1Rbl1Rak1Si)γ1-X5-PFPE-X5-(SiRak1Rbl1Rcm1)γ1…(C2)(Rf-PFPE)δ1’-X7-(CRdk2Re12Rfm2)δ1…(D1)(Rfm2Re12Rdk2C)δ1-X7-PFPE-X7-(CRdk2Re12Rfm2)δ1…(D2)以下，对由上述式(A1)、(A2)、(B1)、(B2)、(C1)、(C2)、(D1)及(D2)表示的含PFPE硅烷化合物进行说明。在本说明书中使用的情况下，“2～10价的有机基团”是指含碳的2～10价的基团。作为该2～10价的有机基团，没有特别限定，可以列举进一步使1～9个氢原子自烃基脱离而得的2～10价的基团。作为2价的有机基团，并没有特别限定，可以列举进一步使1个氢原子自烃基脱离而得的2价的基团。在本说明书中使用的情况下，“烃基”是指含有碳及氢的基团且使1个氢原子自分子脱离而得的基团。作为该烃基，并没有特别限定，可以列举可以被1个或1个以上的取代基取代的、例如脂肪族烃基、芳香族烃基等碳原子数1～20的烃基。上述“脂肪族烃基”可以是直链状、支链状或环状中的任意种，可以是饱和或不饱和中的任意种。此外，烃基可以含有1个或1个以上的环结构。需要说明的是，该烃基可以在其末端或分子链中具有1个或1个以上的N、O、S、Si、酰胺基、磺酰基、硅氧烷、羰基、羰氧基等。在本说明书中使用的情况下，作为“烃基”的取代基，没有特别限定，例如可以列举选自卤素原子；可以被1个或1个以上的卤素原子取代的、C1-6烷基、C2-6烯基、C2-6炔基、C3-10环烷基、C3-10不饱和环烃基、5～10元的杂环基、5～10元的不饱和杂环基、C6-10芳基以及5～10元的杂芳基中的1个或1个以上的基团。在本说明书中，烷基及苯基在没有特别写明的情况下可以是非取代，也可以被取代。作为该基团的取代基，没有特别限定，例如可以列举选自卤素原子、C1-6烷基、C2-6烯基以及C2-6炔基中的1个或1个以上的基团。式(A1)及(A2)：上述式中，Rf在每次出现时独立地表示可以被1个或1个以上的氟原子取代的碳原子数1～16的烷基。上述可以被1个或1个以上的氟原子取代的碳原子数1～16的烷基中的“碳原子数1～16的烷基”可以是直链，也可以是支链，优选为直链或支链的碳原子数1～6、特别是碳原子数1～3的烷基，更优选为直链的碳原子数1～3的烷基。上述Rf优选为被1个或1个以上的氟原子取代的碳原子数1～16的烷基，更优选为CF2H-C1-15氟亚烷基或C1-16全氟烷基，进一步优选为C1-16全氟烷基。该碳原子数1～16的全氟烷基可以是直链，也可以是支链，优选为直链或支链的碳原子数1～6、特别是碳原子数1～3的全氟烷基，更优选为直链的碳原子数1～3的全氟烷基，具体为-CF3、-CF2CF3或-CF2CF2CF3。上述式中，PFPE在每次出现时分别独立地为由：-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3X106)d-(OC2F4)e-(OCF2)f-表示的基团。式中，a、b、c、d、e及f分别独立地为0以上且200以下的整数，a、b、c、d、e及f之和至少为1。优选a、b、c、d、e及f分别独立地为0以上且100以下的整数。优选a、b、c、d、e及f之和为5以上，更优选为10以上。优选a、b、c、d、e及f之和为200以下，更优选为100以下，例如为10以上且200以下，更具体为10以上且100以下。此外，标以a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任选的。X10在每次出现时分别独立地为氢原子、氟原子或氯原子，优选为氢原子或氟原子，更优选为氟原子。这些重复单元可以是直链状，也可以是支链状，优选为直链状。例如-(OC6F本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种表面处理组合物，其特征在于：/n其含有含全氟聚醚基的硅烷化合物及溶剂，/n含全氟聚醚基的硅烷化合物相对于含全氟聚醚基的硅烷化合物及溶剂的总量100质量份的比例在30～99质量份的范围。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171031 JP 2017-2111961.一种表面处理组合物，其特征在于：
其含有含全氟聚醚基的硅烷化合物及溶剂，
含全氟聚醚基的硅烷化合物相对于含全氟聚醚基的硅烷化合物及溶剂的总量100质量份的比例在30～99质量份的范围。


2.如权利要求1所述的表面处理组合物，其特征在于：
含全氟聚醚基的硅烷化合物相对于含全氟聚醚基的硅烷化合物及溶剂的总量100质量份的比例超过50质量份。


3.如权利要求1或2所述的表面处理组合物，其特征在于：
溶剂为含氟原子的溶剂。


4.如权利要求3所述的表面处理组合物，其特征在于：
溶剂中的水分含量为100质量ppm以下。


5.如权利要求1～4中任一项所述的表面处理组合物，其特征在于：粘度在10～1000mPa·s的范围。


6.如权利要求1～5中任一项所述的表面处理组合物，其特征在于：含全氟聚醚基的硅烷化合物为由式(A1)、(A2)、(B1)、(B2)、(C1)、(C2)、(D1)或(D2)表示的至少1种含全氟聚醚基的硅烷化合物：



(Rf-PFPE)β1’-X3-(siR13n1R143-n1)β1…(B1)
(R143-n1R13n1Si)β1-X3-PFPE-X3-(SiR13n1R143-n1)β1…(B2)
(Rf-PFPE)γ1’-X5-(SiR3k1Rb11Rcm1)γ1…(C1)
(Rcm1Rb11Rak1Si)γ1-X5-PFPE-X5-(SiRak1Rb11Rcm1)γ1…(C2)
(Rf-PFPE)δ1’-X7-(CRdk2Re12Rfm2)δ1…(D1)
(Rfm2Re12Rdk2C)δ1-X7-PFPE-X7-(CRdk2Re12Rfm2)δ1…(D2)
式中：
PFPE在每次出现时分别独立地为由下式表示的基团：
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3X106)d-(OC2F4)e-(OCF2)f-
式中，a、b、c、d、e及f分别独立地为0以上且200以下的整数，a、b、c、d、e及f之和至少为1，标以a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任选的，X10在每次出现时分别独立地为氢原子、氟原子或氯原子；
Rf在每次出现时分别独立地表示可以被1个或1个以上的氟原子取代的碳原子数1～16的烷基；
R13在每次出现时分别独立地表示羟基或能够水解的基团；
R14在每次出现时分别独立地表示氢原子或碳原子数1～22的烷基；
R11在每次出现时分别独立地表示氢原子或卤素原子；
R12在每次出现时分别独立地表示氢原子或低级烷基；
n1在每个(-SiR13n1R143-n1)单元中独立地为0～3的整数；
其中，在式(A1)、(A2)、(B1)及(B2)中，至少1个n1为1～3的整数；
X1在每次出现时分别独立地表示单键或2～10价的有机基团；
X2在每次出现时分别独立地表示单键或2价的有机基团；
t在每次出现时分别独立地为1～10的整数；
α1在每次出现时分别独立地为1～9的整数；
α1’分别独立地为1～9的整数；
X3在每次出现时分别独立地表示单键或2～10价的有机基团；
β1在每次出现时分别独立地为1～9的整数；
β1’分别独立地为1～9的整数；
X5在每次出现时分别独立地表示单键或2～10价的有机基团；
γ1在每次出现时分别独立地为1～9的整数；
γ1’分别独立地为1～9的整数；
Ra在每次出现时分别独立地表示-Z3-SiR71p1R72q1R73r1；
Z3在每次出现时分别独立地表示...

【专利技术属性】
技术研发人员：本多义昭，
申请(专利权)人：大金工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP