触控显示装置及其制作方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种触控显示装置，包括第一基板、第二基板、像素元件层以及触控元件层。第一基板与第二基板彼此相对设置。像素元件层设置于第二基板表面，并位于第二基板与第一基板之间。触控元件层设置于第一基板相反于第二基板的表面上，其中包括图案化第一透明导电层与图案化第二透明导电层。图案化第一透明导电层的结晶度与图案化第二透明导电层的结晶度不同。

Touch display device and its manufacturing method

【技术实现步骤摘要】
触控显示装置及其制作方法
本专利技术涉及一种触控显示装置及其制作方法，特别是涉及一种具有优异的光学特性、高机械强度、低阻抗以及低制作成本的触控显示装置及其制作方法。
技术介绍
触控显示装置已广泛使用在各式电子产品中，藉此让使用者可直接与电子产品沟通而取代键盘与鼠标等传统输入装置。并且，还可缩减电子产品的体积并以提升人机在沟通上的便利性。在现有的触控显示装置中，由于后制作出的元件的工艺温度需低于先制作出的元件可承受的工艺温度，导致制作出的触控显示装置的产品特性表现不佳。为了提升产品特性表现，如何制作具有优异光学特性、高硬度、低阻抗，同时维持较低制作成本的触控显示装置一直是值得深入研究的问题。图1为现有的一种触控显示装置的制作方法流程图。如图1所示，先进行显示面板工艺SA1，其包括分开制作彩色滤光基板与薄膜晶体管基板(步骤SA10与SA12)，然后将液晶设置在薄膜晶体管基板与彩色滤光基板间并将两基板组立成显示面板(步骤SA14)。，接下来进行低溫触控感测元件工艺SA2，其包括于显示面板上制作触控感测元件，以形成触控显示面板，其中触控感测元件包括图案化透明导电层与图案化绝缘层。因为液晶可承受的温度小于150℃，因此制作触控感测元件的工艺需采低温工艺，也就是小于150℃的工艺，以避免造成液晶特性变异。但透明导电层的材料例如氧化铟锡(IndiumTinOxide,ITO)在高温例如大于或等于150℃时才会进行相转变由非晶(amorphous)的状态转变为具有良好的结晶状态，因此低温触控感测元件工艺所形成的图案化透明导电层为非晶的状态，其阻抗、光学特性与机械特性(例如硬度)较差。图2为现有的另一种触控显示装置的制作方法流程图。如图2所示，先进行高溫触控感测元件工艺SB1，其包括于一基板的一表面上制作触控感测元件(步骤SB10)，其中触控感测元件包括图案化透明导电层与图案化绝缘层。接下来进行显示面板工艺SB2，其包括反转基板以于上述基板的另一表面上制作彩色滤光层与遮蔽层，以形成彩色滤光基板(步骤SB12)，以及形成与彩色滤光基板分开制作的薄膜晶体管基板(步骤SB14)，并且在完成彩色滤光基板与薄膜晶体管基板的制作后，再将液晶设置在薄膜晶体管基板与彩色滤光基板间并将两基板组立成触控显示面板(步骤SB16)。因为触控感测元件是在组立两基板前进行，因此制作触控感测元件的工艺可采高温工艺。但因为制作彩色滤光层与遮蔽层时，设置触控感测元件的表面需朝下将基板设置于传动机构上，触控感测元件会与传动机构接触，使得触控感测元件容易受到刮伤造成良率过低，因此现有技术会采用无机绝缘层(例如SiO2)，藉以增加硬度以减少刮伤。但一般无机绝缘层皆采化学沉积镀膜(例如化学气相沉积CVD)，且无机绝缘层的图案化需采光刻工艺与蚀刻工艺，因此会增加成本与增加工艺步骤。此外，触控感测元件包括图案化透明导电层与图案化绝缘层，也就是触控感测元件的表面具有图案化的凹凸区域，因此图案化区域的高度断差会与传动机构磨擦而造成触控感测元件刮伤。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是在制作触控显示装置時，无法制作出具有优异光学特性、高硬度、低阻抗以及低制作成本的触控显示装置的问题。为解决上述技术问题，本专利技术提供了一种触控显示装置，包括第一基板、第二基板、像素元件层以及触控元件层。第一基板与第二基板彼此相对设置。像素元件层设置于第二基板表面，并位于第二基板与第一基板之间。触控元件层设置于第一基板相反于第二基板的表面上，其中包括图案化第一透明导电层与图案化第二透明导电层。图案化第一透明导电层的结晶度与图案化第二透明导电层的结晶度不同。为解决上述技术问题，本专利技术提供了一种触控显示装置的制作方法，包括以下步骤。首先，提供一第一基板，接着在第一基板的第一表面形成第一透明导电层。在形成第一透明导电层后，在第一基板的第二表面形成彩色滤光层，第二表面相对于所述第一表面。接着，提供第二基板，在第二基板的第一表面形成像素元件层，以第一基板的第二表面面对第二基板的第一表面的方式，组合第一基板与第二基板。接着，对第一透明导电层进行图案化工艺，以形成图案化第一透明导电层。接着，在第一基板的第一表面上形成第二透明导电层，其中形成第一透明导电层的温度高于形成第二透明导电层的温度。然后，对第二透明导电层进行图案化工艺，以形成图案化第二透明导电层。附图说明图1为现有的一种触控显示装置的制作方法流程图。图2为现有的另一种触控显示装置的制作方法流程图。图3所示为本专利技术触控显示装置的制作方法流程图。图4所示为于第一基板上形成第一透明导电层与彩色滤光层的示意图。图5所示为本专利技术于第二基板上形成像素元件层与形成显示面板的示意图。图6所示为本专利技术第一实施例形成图案化第一透明导电层的俯视示意图。图7所示为沿图6中A-A'剖线的剖视示意图。图8所示为本专利技术第一实施例形成第一绝缘层的部分剖视示意图。图9所示为本专利技术第一实施例形成图案化第一绝缘层的部分剖视示意图。图10所示为本专利技术第一实施例形成第二透明导电层的部分剖视示意图。图11所示为本专利技术第一实施例形成图案化第二透明导电层的部分剖视示意图。图12所示为本专利技术第一实施例形成第二绝缘层的部分剖视示意图。图13所示为本专利技术第一实施例形成图案化第二绝缘层的俯视示意图。图14所示为本专利技术第二实施例形成图案化第一透明导电层的俯视示意图。图15所示为沿图14中B-B’剖线的剖视示意图。图16所示为本专利技术第二实施例形成图案化第一绝缘层与至少一周边走线的俯视示意图。图17所示为本专利技术第二实施例形成图案化第二透明导电层的俯视示意图。图18所示为本专利技术第二实施例形成图案化第二绝缘层的俯视示意图。图19所示为沿图18中C-C’剖线的剖视示意图。其中，附图标记说明如下：10、20触控显示装置100第一基板100a第一表面100b第二表面106a第三表面102第一透明导电层1021、2161第一感测电极1022、2162第二感测电极1023、2163连接线1024、2164焊垫102A、216A第一感测电极串102B、216B第二感测电极串116L、202L桥接线102P、202P图案化第一透明导电层104彩色滤光层106第二基板108像素元件层110液晶材料层112、212周边走线114第一绝缘层114a、118a通孔214B绝缘块114P、214P图案化第一绝缘层116第二透明导电层116P、216P图案化第二透明导电层118第二绝缘层118P、218P图案化第二绝缘层D1第一方向D2第二方向DS显示面板TS触控元件层SA1、SA2、SA10～SA16、SB1本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种触控显示装置，其特征在于，包括：/n一第一基板与一第二基板，彼此相对设置；/n一像素元件层，设置于所述第二基板表面，并位于所述第二基板与所述第一基板之间；以及/n一触控元件层，设置于所述第一基板相反于所述第二基板的一表面上，其中包括：/n一图案化第一透明导电层與一图案化第二透明导电层，所述图案化第一透明导电层的结晶度与所述图案化第二透明导电层的结晶度不同。/n

【技术特征摘要】
1.一种触控显示装置，其特征在于，包括：
一第一基板与一第二基板，彼此相对设置；
一像素元件层，设置于所述第二基板表面，并位于所述第二基板与所述第一基板之间；以及
一触控元件层，设置于所述第一基板相反于所述第二基板的一表面上，其中包括：
一图案化第一透明导电层與一图案化第二透明导电层，所述图案化第一透明导电层的结晶度与所述图案化第二透明导电层的结晶度不同。


2.如权利要求1所述的触控显示装置，其特征在于，所述图案化第一透明导电层包括多个第一感测电极、多个第二感测电极与多个连接线，所述图案化第二透明导电层包括多个桥接线，其中两相邻的所述第一感测电极是由所述多个连接线的其中至少一个所连接，以形成多个第一感测电极串，两相邻的所述第二感测电极是由所述多个桥接线的其中至少一个所连接，以形成多个第二感测电极串。


3.如权利要求1所述的触控显示装置，其特征在于，所述图案化第一透明导电层包括多个桥接线，所述图案化第二透明导电层包括多个第一感测电极、多个第二感测电极与多个连接线，其中两相邻的所述第一感测电极是由所述多个连接线的其中至少一个所连接，以形成多个第一感测电极串，两相邻的所述第二感测电极是由所述多个桥接线的其中至少一个所连接，以形成多个第二感测电极串。


4.如权利要求2或3所述的触控显示装置，其特征在于，所述图案化第一透明导电层的结晶度大于所述图案化第二透明导电层的结晶度。


5.如权利要求4所述的触控显示装置，其特征在于，所述图案化第一透明导电层的硬度大于所述图案化第二透明导电层的硬度。


6.如权利要求2或3所述的触控显示装置，其特征在于，还包括一图案化第一绝缘层，覆盖部分的所述图案化第一透明导电层。


7.如权利要求6所述的触控显示装置，其特征在于，还包括一图案化第二绝缘层，覆盖所述多个第一感测电极、所述多个第二感测电极、所述多个连接线、所述多个桥接线与所述图案化第一绝缘层。


8.如权利要求7所述的触控显示装置，其特征在于，所述图案化第一绝缘层与所述图案化第二绝缘层包括有机感光材料。...

【专利技术属性】
技术研发人员：周玫伶，陈智伟，游明璋，庄尧智，
申请(专利权)人：瀚宇彩晶股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71