【技术实现步骤摘要】
一种电子行业含氟废水深度处理及回用系统和工艺
本专利技术涉及的是一种电子行业含氟废水深度处理的技术，具体涉及一种电子行业含氟废水深度处理及回用系统和工艺，属于水处理
技术介绍
电子行业(如半导体、面板、光伏等)产品生产过程由于酸洗作业和湿法刻蚀工序等使用氢氟酸、氟化铵等物料，进而会产生含有氟离子的废水。这类含氟废水通常为工艺第二道、第三道清洗水，具有水量大、杂质较少、进水呈酸性(pH约为1～3)等特点。现有技术常采用加钙化混沉淀、投加除氟剂等方式去除水中氟离子。其中，加钙化混工艺只能将水中的F去除到10～20mg/L左右，无法满足现有排放标准，且存在加药量大、污泥产量高、水中残留的钙离子结垢对后续工艺造成损害等问题；投加除氟剂工艺是指向一级加钙化混出水中投加除氟剂，除氟剂中的铝、铁等有效成分与氟离子一起形成污泥沉淀下来，可使水中F降至3或者1mg/L以下，满足现有排放要求，但除氟剂由于成本较高，投加量大，一般常应用于水量较小的项目。中国专利CN201010525143.6《光伏废水除氟方法》...
【技术保护点】
1.一种电子行业含氟废水深度处理及回用工艺，其特征在于，包括以下工艺步骤：/n第一步：含氟废水调节系统：含氟废水经泵提升至含氟废水调节池均匀水质水量，调节pH为7～8；/n第二步：反渗透过滤系统：含氟废水调节池出水依次经过多介质过滤器、活性炭过滤器和软化装置，去除水中悬浮物质、部分有机物以及钙镁硬度，然后经软化装置处理后的硬度小于1mg/L的含氟废水，调节pH后进入RO系统，RO系统回收率＞70％，RO系统渗透出水返回前端纯水系统进行回用，反渗透浓水进入高浓度含氟废水一级化混系统；/n第三步：高浓度含氟废水一级化混系统：反渗透浓水为经浓缩后的高浓度含氟废水，调节pH为7～9...
【技术特征摘要】
1.一种电子行业含氟废水深度处理及回用工艺，其特征在于，包括以下工艺步骤：
第一步：含氟废水调节系统：含氟废水经泵提升至含氟废水调节池均匀水质水量，调节pH为7～8；
第二步：反渗透过滤系统：含氟废水调节池出水依次经过多介质过滤器、活性炭过滤器和软化装置，去除水中悬浮物质、部分有机物以及钙镁硬度，然后经软化装置处理后的硬度小于1mg/L的含氟废水，调节pH后进入RO系统，RO系统回收率＞70％，RO系统渗透出水返回前端纯水系统进行回用，反渗透浓水进入高浓度含氟废水一级化混系统；
第三步：高浓度含氟废水一级化混系统：反渗透浓水为经浓缩后的高浓度含氟废水，调节pH为7～9后，投加单一类型的除氟剂，充分反应20～30min，与废水中的氟离子形成氟化钙沉淀，加入聚丙烯酰胺反应0.25h，絮凝沉淀2～3h后出水，水中氟浓度15～20mg/L，进入高浓度含氟废水二级深度除氟系统；
第四步：高浓度含氟废水二级深度除氟系统：投加复合型深度除氟剂，反应时间0.5h，调节出水pH为6～7，加入聚丙烯酰胺反应0.25h，絮凝沉淀2～3h后出水进入除氟树脂系统，此时废水中氟浓度为3～6mg/L；
第五步：除氟树脂系统：高浓度含氟废水二级深度除氟系统出水进入多介质过滤器，去除水中胶体和悬浮物质，过滤出水进入除氟树脂塔深度处理，利用树脂的含铝基团吸附水中氟离子，树脂出水稳定处理至1mg/L以下，树脂浓水回高浓度含氟废水一级化混系统继续处理。
2.如权利要求1所述的一种电子行业含氟废水深度处理及回用工艺，其特征在于，所述第二步的反渗透过滤系统中，所述多介质过滤器前设有pH调节单元、杀菌剂加药单元和混凝剂加药单元，含氟废水在流入多介质过滤器前，调节pH至中性，并投加混凝剂后，含氟废水流入多介质过滤器，随后经多介质过滤器过滤后的含氟废水再流入活性炭过滤器。
3.如权利要求1所述的一种电子行业含氟废水深度处理及回用工艺，其特征在于，所述第三步的高浓度含氟废水一级化混系统中，所述单一类型的除氟剂为质量浓度30％的氯化钙溶液或质量浓度10％的氢氧化钙溶液。
4.如权利要求3所述的一种电子行业含氟废水深度处理及回用工艺，其特征在于，所述氯化钙添加量为摩尔比Ca/F＝0.6～0.65，聚丙烯酰胺浓度为3mg/L。
5.如权利要求1所述的一种电子行业含氟废水深度处理及回用工艺，其特征在于，所述第四步高浓度含氟废水二级深度除氟系统中，所述复合型深度除氟剂浓度为200～500mg/L，所述聚丙烯酰胺浓度为3mg/L。
6.如权利要求5所述的一种电子行业含氟废水深度处理及回用工艺，其特征在于，所述复合型深度除氟剂由聚合氯化铝、活性氧化铝、...
【专利技术属性】
技术研发人员：熊江磊，罗嘉豪，高亚光，周伟，曹海龙，
申请(专利权)人：江苏中电创新环境科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32
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