【技术实现步骤摘要】
一种旋转动密封结构及旋转电解抛光装置
本专利技术涉及电解化学抛光
，具体涉及一种旋转动密封结构及旋转电解抛光装置。
技术介绍
电解化学抛光能够大幅度降低金属材料的表面粗糙度，部分真空器件和电磁器件内表面需要尽可能多地降低表面粗糙度，以得到更高的真空度或电磁性能。对于复杂结构的器件，为了保证器件各部位的均匀抛光，需要将器件进行旋转，同时在电解化学抛光过程中还需要使用强腐蚀性电解质，如浓硫酸和氢氟酸等。因此需要旋转电解抛光装置具备安全、稳定的动密封结构件，以便对相关器件进行电解化学抛光。通常来说，旋转密封结构中所使用的材料以金属为主，但大部分材料无法耐受强酸等腐蚀性液体的腐蚀。如果选用聚四氟乙烯，又会因为该材料硬度太软，容易产生变形，而且动密封(机器或设备中相对运动件之间的密封)结构对同轴度要求很高，而材料变形会对动密封的同轴度产生很大影响，因而存在应用难题。因此，如何既能够使得动密封结构耐腐蚀，又不影响装置各部件的同轴度等工作参数，成为了一个待解决的技术难题。
技术实现思路
有鉴于此，...
【技术保护点】
1.一种旋转动密封结构，其特征在于，所述旋转动密封结构在定子和转子的密封连接处采用双唇型结构动密封圈，该动密封圈的材料为聚四氟乙烯材料，所述旋转动密封结构在定子和转子的轴肩连接处采用滑动轴承连接，所述旋转动密封结构在定子和转子的内外圈相对转动处采用深沟球轴承连接。/n
【技术特征摘要】
1.一种旋转动密封结构，其特征在于，所述旋转动密封结构在定子和转子的密封连接处采用双唇型结构动密封圈，该动密封圈的材料为聚四氟乙烯材料，所述旋转动密封结构在定子和转子的轴肩连接处采用滑动轴承连接，所述旋转动密封结构在定子和转子的内外圈相对转动处采用深沟球轴承连接。
2.根据权利要求1所述的旋转动密封结构，其特征在于，在所述动密封圈和滑动轴承之间设置有漏液排放结构。
3.根据权利要求1或2所述的旋转动密封结构，其特征在于，所述漏液排放结构为引流槽结构。
4.一种旋转电解抛光装置，其特征在于，所述装置包括定子、转子、电极、电机和权利要求1至3任一项所述的旋转动密封结构，所述电机驱动所述转子相对所述定子转动，所述电极连接所述转子，所述定子和转子之间采用所述旋转动密封结...
【专利技术属性】
技术研发人员：郭浩，宋玉堃，熊平然，初青伟，游志明，何源，张生虎，
申请(专利权)人：中国科学院近代物理研究所，
类型：发明
国别省市：甘肃;62
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