疏水性基板及其制备方法、电子屏幕和电子器件技术

本发明专利技术公开了一种疏水性基板及其制备方法、电子屏幕和电子器件，疏水性基板的制备方法，包括以下步骤：取基板，对所述基板进行羟基处理使得所述基板的表面接枝羟基，然后置于惰性气体中加入引发剂，所述引发剂能够与所述羟基发生酰化反应，得到酰化基板；取催化剂、溶剂和甲基丙烯酸氟代烷酯单体形成混合溶液；取所述混合溶液涂覆至所述酰化基板上，进行光照处理使得所述甲基丙烯酸氟代烷酯单体聚合。本发明专利技术利用原子转移自由基聚合(ATRP)反应，在基板上接枝疏水聚合物层，反应条件温和、操作简单、制备时间短，制得的疏水性基板在电子屏幕等产品领域中具有重大的应用价值。

Hydrophobic substrate and its preparation method, electronic screen and electronic device

【技术实现步骤摘要】
疏水性基板及其制备方法、电子屏幕和电子器件
本专利技术涉及基板处理
，尤其是涉及一种疏水性基板及其制备方法、电子屏幕和电子器件。
技术介绍
近年来，电子产品在生活中的应用日益广泛，以智能手机为代表，屏幕的触摸面板化正在加快。因而往往需要在触摸屏表面喷涂抗污剂，该抗污剂需要具有优异的热稳定性能、疏水疏油性能、耐化学品性能等系列理化特性。现在大多数应用在屏幕上增加疏水性的技术是表面涂覆类的表面工程技术。这一类表面工程技术主要包括电镀、电刷镀、化学镀、物理气相沉积、化学气相沉积等。现在常用的表面涂敷材料是聚对二甲苯(Poly-p-xylene)，商品名帕里纶(Parylene)，是通过化学气相沉积法制备的具有聚二甲苯结构的聚合物薄膜的统称，它有极其优良的电性能、耐热性、耐候性和化学稳定性，主要有ParyleneN(聚对二甲苯)、ParyleneC(聚对二氯甲苯)和ParyleneD(聚二氯对二甲苯)三种。聚对二甲苯通常利用真空热解气相堆积工艺制备，可制成极薄的薄膜，主要用作薄膜和涂层，用于电子元器件的电绝缘介质、保护性涂料和包封材料等。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种疏水性基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：/n取基板，对所述基板进行羟基处理使得所述基板的表面接枝羟基，然后置于惰性气体中加入引发剂，所述引发剂能够与所述羟基发生酰化反应，得到酰化基板；/n取催化剂、溶剂和甲基丙烯酸氟代烷酯单体形成混合溶液；/n取所述混合溶液涂覆至所述酰化基板上，进行光照处理使得所述甲基丙烯酸氟代烷酯单体聚合。/n

【技术特征摘要】
1.一种疏水性基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
取基板，对所述基板进行羟基处理使得所述基板的表面接枝羟基，然后置于惰性气体中加入引发剂，所述引发剂能够与所述羟基发生酰化反应，得到酰化基板；
取催化剂、溶剂和甲基丙烯酸氟代烷酯单体形成混合溶液；
取所述混合溶液涂覆至所述酰化基板上，进行光照处理使得所述甲基丙烯酸氟代烷酯单体聚合。


2.根据权利要求1所述的疏水性基板的制备方法，其特征在于，所述引发剂含有中任一种基团，X表示卤素。


3.根据权利要求2所述的疏水性基板的制备方法，其特征在于，所述引发剂包括2-溴异丁酰溴、2-溴丙酰溴、4-氯甲基苯基三氯硅烷中的任一种。


4.根据权利要求1至3任一项所述的疏水性基板的制备方法，其特征在于，所述羟基处理为使用氧气等离子体进行处理或者使用食人鱼溶液处理。


5.根据权利要求1至3任一项所述的疏水性基板的制备方法，其特征在于，所述催化剂为小分子有机光催化剂，所述小分子有机光催化剂包括10-苯基吩噻嗪、二萘嵌苯、荧光素中的任一种。


6.根据权利要求1至3任一项所述的疏水性基板的制备方法，其特征在于，进行所述光照处理时使用掩模板以形成图案。


7.根据权利要求1至3任一项所述的疏水性基板的制备方...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐雪珠，徐卓凡，唐彪，周国富，
申请(专利权)人：华南师范大学，深圳市国华光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44