抵御盐雾腐蚀的密封结构及电子终端制造技术

本实用新型专利技术涉及电子终端技术领域，具体公开一种抵御盐雾腐蚀的密封结构及电子终端，所述密封结构包括前壳和后壳，所述后壳靠近所述前壳的一侧设有可供所述前壳插入的容置槽；所述容置槽四周的槽壁设有第一让位凹槽，所述第一让位凹槽中安装有密封件，所述前壳和后壳通过所述密封件密封连接。本实用新型专利技术提供一种抵御盐雾腐蚀的密封结构及电子终端，具有良好的密封性能，能降低盐雾腐蚀对电子终端内部器件造成的不良影响。

Sealing structure and electronic terminal to resist salt spray corrosion

【技术实现步骤摘要】
抵御盐雾腐蚀的密封结构及电子终端
本技术涉及电子终端
，尤其涉及一种抵御盐雾腐蚀的密封结构及电子终端。
技术介绍
现在的手机厂商对盐雾测试的要求越来越高，手机会销售到海外，运输或者使用过程中，如果手机的密封性能不好，里面的元器件会被腐蚀，手机的使用寿命就会下降。因此，需要对现有的手机进行改进以提高其密封性能和降低盐雾腐蚀对其内部器件造成的不良影响。
技术实现思路
本技术的一个目的在于，提供一种抵御盐雾腐蚀的密封结构及电子终端，具有良好的密封性能，能降低盐雾腐蚀对电子终端内部器件造成的不良影响。为达以上目的，一方面，本技术提供一种抵御盐雾腐蚀的密封结构，包括前壳和后壳，所述后壳靠近所述前壳的一侧设有可供所述前壳插入的容置槽；所述容置槽四周的槽壁设有第一让位凹槽，所述第一让位凹槽中安装有密封件，所述前壳和后壳通过所述密封件密封连接。优选的，所述容置槽四周的槽壁还设有第二让位凹槽，所述前壳与所述第二让位凹槽对应的部位设有防水凸台，当所述前壳插入所述容置槽中时，所述防水凸台嵌入所述第二让位凹槽中。优选的，所述第二让位凹槽位于所述第一让位凹槽靠近所述容置槽的槽口的一侧。优选的，所述第二让位凹槽为弧形槽。优选的，所述密封件为防水泡棉。优选的，所述第一让位凹槽为方形槽。另一方面，本技术还提供一种电子终端，包括上述任一种密封结构。优选的，还包括：屏幕，所述屏幕固设于所述前壳远离所述后壳的一侧。本技术的有益效果在于：提供一种抵御盐雾腐蚀的密封结构及电子终端，具有良好的密封性能，能降低盐雾腐蚀对电子终端内部器件造成的不良影响。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。图1为实施例提供的电子终端的结构示意图；图2为图1中A处的局部放大示意图。图中：1、屏幕；2、前壳；201、防水凸台；3、后壳；301、第一让位凹槽。具体实施方式为使得本技术的目的、特征、优点能够更加的明显和易懂，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，下面所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而非全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术保护的范围。在本技术的描述中，需要理解的是，当一个组件被认为是“连接”另一个组件，它可以是直接连接到另一个组件或者可能同时存在居中设置的组件。当一个组件被认为是“设置在”另一个组件，它可以是直接设置在另一个组件上或者可能同时存在居中设置的组件。此外，术语“长”“短”“内”“外”等指示方位或位置关系为基于附图所展示的方位或者位置关系，仅是为了便于描述本技术，而不是指示或暗示所指的装置或原件必须具有此特定的方位、以特定的方位构造进行操作，以此不能理解为本技术的限制。下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本技术的技术方案。参见图1～图2，本实施例提供一种电子终端，其包括屏幕1和一种抵御盐雾腐蚀的密封结构。可选的，本实施例所述的电子终端可以为手机、平板电脑智能手表或者笔记本等。抵御盐雾腐蚀的密封结构包括前壳2和后壳3，所述后壳3靠近所述前壳2的一侧设有可供所述前壳2插入的容置槽；所述屏幕1固设于所述前壳2远离所述后壳3的一侧。所述容置槽四周的槽壁设有第一让位凹槽301，所述第一让位凹槽301中安装有密封件，所述前壳2和后壳3通过所述密封件密封连接。优选的，密封件可以是防水泡棉、橡胶密封圈或者石棉垫圈等。可以理解的是，第一让位凹槽301为沿容置槽的槽壁布置的连续凹槽。参见图1，在第一让位凹槽301中填充密封件，前壳2和后壳3之间的缝隙被密封件阻断，所以盐雾灰尘等物质难以通过前壳2和后壳3之间的缝隙进入电子终端内部，从而提高电子终端的密封性能和降低盐雾腐蚀对电子终端内部器件造成的不良影响。本实施例中，所述容置槽四周的槽壁还设有第二让位凹槽，所述前壳2与所述第二让位凹槽对应的部位设有防水凸台201，当所述前壳2插入所述容置槽中时，所述防水凸台201嵌入所述第二让位凹槽中。优选的，所述第二让位凹槽位于所述第一让位凹槽301靠近所述容置槽的槽口的一侧。进一步地，所述第二让位凹槽为弧形槽。本实施例中，防水凸台201和第二让位凹槽的配合可以作为第一道防水线，由于第二让位凹槽为弧形槽，所以盐雾灰尘等不容易通过防水凸台201和第二让位凹槽之间的缝隙。若盐雾灰尘等通过了防水凸台201和第二让位凹槽之间的缝隙，紧接着就有防水泡棉等密封件对盐雾灰尘等进行阻挡或者吸收。可选的，所述第一让位凹槽301为方形槽。本技术提供一种抵御盐雾腐蚀的密封结构及电子终端，具有良好的密封性能，能降低盐雾腐蚀对电子终端内部器件造成的不良影响。当元件或者层称为是“在……上”、“与……接合”、“连接到”或者“联接到”另一个元件或层，其可以是直接在另一个元件或者层上、与另一个元件或层接合、连接到或者联接到另一个元件或层，也可以存在介于其间的元件或者层。与此相反，当元件或层称为是“直接在……上”、“与……直接接合”、“直接连接到”或者“直接联接到”另一个元件或层，则可能不存在介于其间的元件或者层。其他用于描述元件关系的词应当以类似的方式解释(例如，“在……之间”和“直接在……之间”、“相邻”和“直接相邻”等)。在此使用的术语“和/或”包括该相关联的所罗列的项目的一个或以上的任一和所有的组合。虽然此处可能使用了术语第一、第二、第三等以描述各种的元件、组件、区域、层和/或部分，这些元件、组件、区域、层和/或部分不受到这些术语的限制。这些术语可以只用于将一个元件、组件、区域或部分与另一个元件、组件、区域或部分区分。除非由上下文清楚地表示，在此使用诸如术语“第一”、“第二”及其他数值的术语不意味序列或者次序。因此，在下方论述的第一元件、组件、区域、层或者部分可以采用第二元件、组件、区域、层或者部分的术语而不脱离该示例实施例的教导。空间的相对术语，诸如“内”、“外”、“在下面”、“在某某的下方”、“下部”、“上方”、“上部”等，在此可出于便于描述的目的使用，以描述如图中所示的一个元件或者特征和另外一个或多个元件或者特征之间的关系。空间的相对术语可以意指包含除该图描绘的取向之外该装置的不同的取向。例如如果翻转该图中的装置，则描述为“在其他元件或者特征的下方”或者“在元件或者特征的下面”的元件将取向为“在其他元件或者特征的上方”。因此，示例术语“在……的下方”可以包含朝上和朝下的两种取向。该装置可以以其他方式取向，例如本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种抵御盐雾腐蚀的密封结构，其特征在于，包括前壳和后壳，所述后壳靠近所述前壳的一侧设有可供所述前壳插入的容置槽；/n所述容置槽四周的槽壁设有第一让位凹槽，所述第一让位凹槽中安装有密封件，所述前壳和后壳通过所述密封件密封连接。/n

【技术特征摘要】
1.一种抵御盐雾腐蚀的密封结构，其特征在于，包括前壳和后壳，所述后壳靠近所述前壳的一侧设有可供所述前壳插入的容置槽；
所述容置槽四周的槽壁设有第一让位凹槽，所述第一让位凹槽中安装有密封件，所述前壳和后壳通过所述密封件密封连接。


2.根据权利要求1所述的抵御盐雾腐蚀的密封结构，其特征在于，所述容置槽四周的槽壁还设有第二让位凹槽，所述前壳与所述第二让位凹槽对应的部位设有防水凸台，当所述前壳插入所述容置槽中时，所述防水凸台嵌入所述第二让位凹槽中。


3.根据权利要求2所述的抵御盐雾腐蚀的密封结构，其特征在于，所述第二让位凹槽位于所述第一让...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨飞鹏，赵义鹏，
申请(专利权)人：上海摩勤智能技术有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31