复合过滤器制造技术

复合过滤器包括：外壳，其包括第一外壳、第二外壳，所述第一外壳形成有供流体导入的流体导入部，所述第二外壳结合于所述第一外壳而形成收纳空间，形成有供经过滤的所述流体排出的流体排出部；第一过滤器单元，其结合于所述第一外壳，对穿过所述流体导入部的所述流体的压力进行减压，使所述流体扩散，并对所述流体进行第一次过滤；及第二过滤器单元，其在所述收纳空间内，结合于所述第二外壳，在所述流体穿过所述流体排出部之前，对所述流体进行第二次过滤。

Composite filter

【技术实现步骤摘要】
复合过滤器
本专利技术涉及复合过滤器，特别是本专利技术涉及一种在具有能够用于半导体工序用制造设备的优秀过滤性能的同时，还防止因过滤前流体的压力及过滤后流体的压力差异导致的过滤器破损的复合过滤器。
技术介绍
一般而言，半导体元件通过在硅晶片上形成诸如有机膜、绝缘膜及金属膜的多样薄膜的薄膜形成工序、对薄膜进行图案化的薄膜图案化工序、向晶片流入离子的离子注入工序等复杂的制造工序及精密的制造装备而制造。为了制造半导体元件，需要有非常清洁的环境及高纯度工艺气体，这是因为当在工艺气体中含有颗粒时，颗粒成为极大降低半导体元件收率的原因。由于这种理由，在制造半导体元件的洁净室、配置于洁净室内部并制造半导体元件的多样工序设备中，大部分加装有对诸如颗粒的异物质进行过滤的高性能过滤器。作为半导体工序用过滤器，可以列举韩国授权专利第10-0900091号高清洁生产线用金属滤清元件及具备其的过滤器(授权日:2009.05.22)。所述高清洁生产线用金属滤清元件及具备其的过滤器具有的技术特征是，包括：一端，其具有堵塞的形态，是供流体流入的流本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种复合过滤器，其特征在于，包括：/n外壳，其包括第一外壳、第二外壳，所述第一外壳形成有供流体导入的流体导入部，所述第二外壳结合于所述第一外壳而形成收纳空间，形成有供经过滤的所述流体排出的流体排出部；/n第一过滤器单元，其结合于所述第一外壳，对穿过所述流体导入部的所述流体的压力进行减压，使所述流体扩散，并对所述流体进行第一次过滤；及/n第二过滤器单元，其在所述收纳空间内，结合于所述第二外壳，在所述流体穿过所述流体排出部之前，对所述流体进行第二次过滤。/n

【技术特征摘要】
1.一种复合过滤器，其特征在于，包括：
外壳，其包括第一外壳、第二外壳，所述第一外壳形成有供流体导入的流体导入部，所述第二外壳结合于所述第一外壳而形成收纳空间，形成有供经过滤的所述流体排出的流体排出部；
第一过滤器单元，其结合于所述第一外壳，对穿过所述流体导入部的所述流体的压力进行减压，使所述流体扩散，并对所述流体进行第一次过滤；及
第二过滤器单元，其在所述收纳空间内，结合于所述第二外壳，在所述流体穿过所述流体排出部之前，对所述流体进行第二次过滤。


2.根据权利要求1所述的复合过滤器，其特征在于，
在所述收纳空间内相互相向地配置的所述第一过滤器单元及所述第二过滤器单元相互隔开配置。


3.根据权利要求1所述的复合过滤器，其特征在于，
所述第一过滤器单元以第一尺寸形成，所述第二过滤器单元以大于所述第一尺寸的第二尺寸形成。


4.根据权利要求1所述的复合过滤器，其特征在于，
所述第一过...

【专利技术属性】
技术研发人员：柳明镐，
申请(专利权)人：株式会社UNILOK，
类型：发明
国别省市：韩国;KR