显影装置制造方法及图纸

一种显影装置包括壳体，包含容纳室且具有显影剂出口，显影剂出口用于从所述容纳室排出过量的显影剂。显影剂辊设置在所述容纳室中，用于运送显影剂。所述显影装置包括气流通道，当所述显影剂辊旋转时允许空气从所述容纳室流入。所述显影装置进一步包括邻近所述容纳室定位的散热构件，用于将热传递到流过所述气流通道的空气。

Developing device

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】显影装置
技术介绍
在配备有显影剂辊的显影装置中，显影剂的温度的升高可能导致调色剂固着到显影剂层调节构件，产生调色剂和载体的聚集并导致电荷量的减少，由此影响图像质量。在一些显影装置中，显影剂辊或转印构件的轴延伸到外壳外部，并且延伸部分由冷却构件(诸如，半导体方式制冷元件(Peltierdevice))冷却。利用该冷却构件，能够冷却显影剂辊或转印构件，由此能够抑制显影剂的温度的升高。附图说明图1是示出示例图像形成设备的整体结构的示意性结构图。图2是从侧面示出图1中例示的图像形成设备的示例显影装置的内部的示意性竖向截面图，其中，气流由白色空心箭头示意性地示出。图3是从正面示出图2中例示的示例显影装置的内部的示意性纵向截面图。图4是从上面示出图1中例示的示例显影装置的内部的示意性纵向截面图。图5是另一示例显影装置的示意性竖向截面图。图6示出示例显影装置的性能测试的结果。图7是根据示例的示出面积比与显影剂排出量之间的关系的曲线图。图8是根据示例的示出显影剂辊的转速与由于气流通道而引起的温度降低之本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显影装置，包括：/n壳体，包含容纳室且具有显影剂出口，所述显影剂出口用于从所述容纳室排出过量的显影剂；/n设置在所述容纳室中的显影剂辊，所述显影剂辊用于运送显影剂；/n层厚调节构件，用于使附着到所述显影剂辊的显影剂的厚度均匀；/n气流通道，当所述显影剂辊旋转时允许空气从所述容纳室流入；和/n邻近所述容纳室的散热构件，用于将热传递到流过所述气流通道的空气。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171031 JP 2017-2104471.一种显影装置，包括：
壳体，包含容纳室且具有显影剂出口，所述显影剂出口用于从所述容纳室排出过量的显影剂；
设置在所述容纳室中的显影剂辊，所述显影剂辊用于运送显影剂；
层厚调节构件，用于使附着到所述显影剂辊的显影剂的厚度均匀；
气流通道，当所述显影剂辊旋转时允许空气从所述容纳室流入；和
邻近所述容纳室的散热构件，用于将热传递到流过所述气流通道的空气。


2.根据权利要求1所述的显影装置，其中，所述层厚调节构件包括所述散热构件。


3.根据权利要求1所述的显影装置，其中，所述散热构件还用作所述层厚调节构件。


4.根据权利要求1所述的显影装置，其中，所述散热构件具有10W/mK或更大的热导率。


5.根据权利要求1所述的显影装置，其中，所述气流通道的最小通道横截面积是所述显影剂出口的开口面积的五倍或更多倍。


6.根据权利要求1所述的显影装置，其中，所述显影剂辊的转速为500rpm或更大。


7.根据权利要求1所述的显影装置，进一步包括位于所述气流通道中的百叶窗机构。


8.根据权利要求1所述的显影装置，进一步包括废调色剂盒，用于收...

【专利技术属性】
技术研发人员：森本清文，
申请(专利权)人：惠普发展公司，有限责任合伙企业，
类型：发明
国别省市：美国;US